JPH0320901Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0320901Y2 JPH0320901Y2 JP1983161742U JP16174283U JPH0320901Y2 JP H0320901 Y2 JPH0320901 Y2 JP H0320901Y2 JP 1983161742 U JP1983161742 U JP 1983161742U JP 16174283 U JP16174283 U JP 16174283U JP H0320901 Y2 JPH0320901 Y2 JP H0320901Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cylinder
- rotating body
- rotating
- circuit board
- printed circuit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Description
【考案の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本考案は、ビデオテ−プレコ−ダ(VTR)等
に装備される回転ヘツドシリンダに関するもので
ある。
に装備される回転ヘツドシリンダに関するもので
ある。
(従来の技術)
一般に回転ヘツドシリンダは、シリンダ外周面
に掛けられた磁気テ−プを、シリンダ外周面に沿
つて回転する磁気ヘツドによつて走査するもので
あり、例えば第1図に示す様な回転ヘツドシリン
ダが用いられる。シヤ−シ6上に下部シリンダ1
0が固定され、下部シリンダ上方に上部シリンダ
1を配備し、上部シリンダ中央部に下向きに突設
されたシヤフト11を、下部シリンダ中央部に装
備された軸受によつて支持している。
に掛けられた磁気テ−プを、シリンダ外周面に沿
つて回転する磁気ヘツドによつて走査するもので
あり、例えば第1図に示す様な回転ヘツドシリン
ダが用いられる。シヤ−シ6上に下部シリンダ1
0が固定され、下部シリンダ上方に上部シリンダ
1を配備し、上部シリンダ中央部に下向きに突設
されたシヤフト11を、下部シリンダ中央部に装
備された軸受によつて支持している。
上部シリンダ1には磁気ヘツド4を突設し、上
部シリンダ1と下部シリンダの間のスリツトに臨
ませている。又、上部シリンダ内面の中央部には
フライホ−ル3がビス止めされ、該フライホ−ル
の下端面にロ−タリトランス2の回転部21を接
着固定し、ロ−タリトランス2の静止部20を上
記回転部21に対向して下部シリンダ10に固定
している。磁気ヘツド4は、シヤフト11をシリ
ンダ外部に配備されたモ−タによつて駆動するこ
とにより、高速で回転する。この際、上部シリン
ダやフライホ−ル等からなる回転体の重心がシリ
ンダ中心から偏心していると、回転にアンバラン
スが生じて振動が発生する。
部シリンダ1と下部シリンダの間のスリツトに臨
ませている。又、上部シリンダ内面の中央部には
フライホ−ル3がビス止めされ、該フライホ−ル
の下端面にロ−タリトランス2の回転部21を接
着固定し、ロ−タリトランス2の静止部20を上
記回転部21に対向して下部シリンダ10に固定
している。磁気ヘツド4は、シヤフト11をシリ
ンダ外部に配備されたモ−タによつて駆動するこ
とにより、高速で回転する。この際、上部シリン
ダやフライホ−ル等からなる回転体の重心がシリ
ンダ中心から偏心していると、回転にアンバラン
スが生じて振動が発生する。
従来はこれに対して、第5図に示す如くフライ
ホ−ル3にバランス穴30を開設してバランス調
整を行なつていた。回転体の不釣合荷重の位置や
大きさはバランシングマシンによつて容易に発見
することが出来る。
ホ−ル3にバランス穴30を開設してバランス調
整を行なつていた。回転体の不釣合荷重の位置や
大きさはバランシングマシンによつて容易に発見
することが出来る。
(解決しようとする課題)
しかし、従来のバランス調整においては、フラ
イホイ−ルの適当な位置にバランス穴を穿設する
のに手間がかかるという問題があつた。
イホイ−ルの適当な位置にバランス穴を穿設する
のに手間がかかるという問題があつた。
そこで、実開昭58−163025号公報には、回転体
に配備したプリント配線基板に、銅箔によるバラ
ンス取付ランドを設けて、該ランドに半田を融着
することにより、回転体の動バランスをとる回転
ヘツドドラムが開示されている。
に配備したプリント配線基板に、銅箔によるバラ
ンス取付ランドを設けて、該ランドに半田を融着
することにより、回転体の動バランスをとる回転
ヘツドドラムが開示されている。
しかし、該回転ヘツドドラムにおいては、前記
銅箔の表面に半田を盛り上げて付着せしめる必要
があり、銅箔表面の溶融半田を周囲から拘束する
壁面が存在しないから、溶融半田の温度のバラツ
キ等によつて、盛上げの程度、従つて半田の量が
一定せず、正確なバランス調整が困難である。
銅箔の表面に半田を盛り上げて付着せしめる必要
があり、銅箔表面の溶融半田を周囲から拘束する
壁面が存在しないから、溶融半田の温度のバラツ
キ等によつて、盛上げの程度、従つて半田の量が
一定せず、正確なバランス調整が困難である。
又、特開昭57−195320号公報には、回転ドラム
の同一半径上に等間隔にタツプ孔を穿設し、該タ
ツプ孔に錐りをねじ込んで重量バランスをとる方
法について開示されている。
の同一半径上に等間隔にタツプ孔を穿設し、該タ
ツプ孔に錐りをねじ込んで重量バランスをとる方
法について開示されている。
しかし、該方法では、回転ドラムにタツプ孔を
穿設し、更に錐りをねじ込む作業が必要となつ
て、製造工程が煩雑となる問題がある。
穿設し、更に錐りをねじ込む作業が必要となつ
て、製造工程が煩雑となる問題がある。
本考案の目的は、簡易な方法によつて正確なバ
ランス調整を行なうことが出来、然もそのバラン
ス調整構造が、従来の回転ヘツドシリンダ製造工
程を大きく変えることなく形成出来る回転ヘツド
シリンダを提供することである。
ランス調整を行なうことが出来、然もそのバラン
ス調整構造が、従来の回転ヘツドシリンダ製造工
程を大きく変えることなく形成出来る回転ヘツド
シリンダを提供することである。
(課題を解決する為の手段)
本考案に係る回転ヘツドシリンダは、シヤ−シ
6上に固定された静止体の中心軸上に、磁気ヘツ
ド4を具えた回転体を回転駆動可能に支持し、回
転体と静止体の対向部にロ−タリトランス2を介
装して構成される。
6上に固定された静止体の中心軸上に、磁気ヘツ
ド4を具えた回転体を回転駆動可能に支持し、回
転体と静止体の対向部にロ−タリトランス2を介
装して構成される。
前記回転体には、回転軸と直交する面内に、磁
気ヘツド4とロ−タリトランス2とを電気的に連
結する円板状のプリント基板5が固定される。該
プリント基板5は、円板状の絶縁ベ−ス53の表
面に導電性金属膜54を介して絶縁膜55を形成
してなり、該絶縁膜55は、前記回転軸を中心と
する周囲複数箇所に、前記金属膜54を露出せし
める所定形状の孔50を有し、該孔50によつて
複数のウエイト取付部を形成している。該ウエイ
ト取付部の内、適当な位置のウエイト取付部に半
田を融着することにより、回転体の動バランスの
調整が可能である。
気ヘツド4とロ−タリトランス2とを電気的に連
結する円板状のプリント基板5が固定される。該
プリント基板5は、円板状の絶縁ベ−ス53の表
面に導電性金属膜54を介して絶縁膜55を形成
してなり、該絶縁膜55は、前記回転軸を中心と
する周囲複数箇所に、前記金属膜54を露出せし
める所定形状の孔50を有し、該孔50によつて
複数のウエイト取付部を形成している。該ウエイ
ト取付部の内、適当な位置のウエイト取付部に半
田を融着することにより、回転体の動バランスの
調整が可能である。
(作用)
回転体に不釣合が生じている場合は、不釣合荷
重が存する位置の反対側の1或いは複数のウエイ
ト取付部に半田を融着することにより、回転体の
動バランスが調整される。
重が存する位置の反対側の1或いは複数のウエイ
ト取付部に半田を融着することにより、回転体の
動バランスが調整される。
この際、孔50内の溶融半田の量は、孔50底
面の面積及び深さによつて正確に規定される。
面の面積及び深さによつて正確に規定される。
尚、プリント基板5の金属膜54は、従来の回
転ヘツドシリンダと同様にエツチング等の工程を
経て、磁気ヘツド4とロ−タリトランス2の間に
介在すべき電気回路の導体パタ−ンに形成され
る。
転ヘツドシリンダと同様にエツチング等の工程を
経て、磁気ヘツド4とロ−タリトランス2の間に
介在すべき電気回路の導体パタ−ンに形成され
る。
(考案の効果)
本考案に係る回転ヘツドシリンダによれば、回
転体のバランス調整構造が、回転ヘツドシリンダ
自体の構成要素であるプリント基板5を利用して
構成され、バランスウエイトとしてプリント基板
5上の配線接続に用いる半田が利用されているか
ら、従来の回転ヘツドシリンダ製造工程を大きく
変える必要はない。
転体のバランス調整構造が、回転ヘツドシリンダ
自体の構成要素であるプリント基板5を利用して
構成され、バランスウエイトとしてプリント基板
5上の配線接続に用いる半田が利用されているか
ら、従来の回転ヘツドシリンダ製造工程を大きく
変える必要はない。
又、バランスウエイトの取付けは、絶縁膜55
の孔50に半田を充填するだけの極めて簡易な作
業で済み、然も、半田の量は上述の如く正確に規
定出来るから、精度の高いバランス調整が可能で
ある。
の孔50に半田を充填するだけの極めて簡易な作
業で済み、然も、半田の量は上述の如く正確に規
定出来るから、精度の高いバランス調整が可能で
ある。
(実施例)
以下、図示する実施例に基づいて本考案を詳述
する。
する。
第1図は本考案に係る回転ヘツドシリンダであ
つて、前記した従来の回転ヘツドシリンダと同様
に上部シリンダ1に磁気ヘツド4を突設し、上部
シリンダ中央部に固定されたシヤフト11を回転
駆動することにより、磁気ヘツド4を回転させる
ものである。
つて、前記した従来の回転ヘツドシリンダと同様
に上部シリンダ1に磁気ヘツド4を突設し、上部
シリンダ中央部に固定されたシヤフト11を回転
駆動することにより、磁気ヘツド4を回転させる
ものである。
第2図はロ−タリトランス2の回転部21と、
該回転部に固定されたフライホイ−ル3を示す。
ロ−タリトランス回転部21の背面には環状に打
抜き成形されたプリント基板5が同心に貼着され
ている。
該回転部に固定されたフライホイ−ル3を示す。
ロ−タリトランス回転部21の背面には環状に打
抜き成形されたプリント基板5が同心に貼着され
ている。
尚、従来の回転ヘツドシリンダにおいては、第
5図に示す如く四角形のプリント基板52が用い
られており、ロ−タリトランスのコイル部から引
かれた導線7,70の先端が基板表面に半田付け
されている。このプリント基板52には、シリン
ダ組立の段階で第1図に示す如く磁気ヘツド4か
ら引かれた導線71の先端が半田付けされる。
5図に示す如く四角形のプリント基板52が用い
られており、ロ−タリトランスのコイル部から引
かれた導線7,70の先端が基板表面に半田付け
されている。このプリント基板52には、シリン
ダ組立の段階で第1図に示す如く磁気ヘツド4か
ら引かれた導線71の先端が半田付けされる。
第2図に示す本実施例のプリント基板5の半田
付け部分の断面構造は従来のプリント基板と全く
同一であつて、第4図に示す如く絶縁ベ−ス53
の上面に銅の薄膜54をフオトエツチング等の方
法によつて所定のパタ−ンに形成し、銅薄膜54
の表面に導線7の先端が半田付けされている。
付け部分の断面構造は従来のプリント基板と全く
同一であつて、第4図に示す如く絶縁ベ−ス53
の上面に銅の薄膜54をフオトエツチング等の方
法によつて所定のパタ−ンに形成し、銅薄膜54
の表面に導線7の先端が半田付けされている。
本実施例のプリント基板5は、前記半田付部分
56にプリント基板本来の投目を果させると共
に、その以外の部分を、バランスウエイトを装着
する為のバランスデイスクとして用いるものであ
る。
56にプリント基板本来の投目を果させると共
に、その以外の部分を、バランスウエイトを装着
する為のバランスデイスクとして用いるものであ
る。
第3図にバランスデイスクとなるプリント基板
5のウエイト取付部の断面構造を示す。絶縁ベ−
ス53の上面に銅薄膜54が全面に形成されてお
り、更に銅薄膜54表面には絶縁膜55がコ−テ
イングされている。該絶縁膜55は第2図に示す
如く、円周上に同一ピツチで繰り返し形成された
円形の孔50を有しており、該孔から銅薄膜54
を露出してバランスウエイト取付部を形成する。
5のウエイト取付部の断面構造を示す。絶縁ベ−
ス53の上面に銅薄膜54が全面に形成されてお
り、更に銅薄膜54表面には絶縁膜55がコ−テ
イングされている。該絶縁膜55は第2図に示す
如く、円周上に同一ピツチで繰り返し形成された
円形の孔50を有しており、該孔から銅薄膜54
を露出してバランスウエイト取付部を形成する。
ウエイト取付部を銅薄膜54の表面に形成する
のは、バランスウエイトとして半田を用いる為で
あつて、半田はロ−タリトランス本体には付かな
いからである。従つて、銅以外にアルミニウム等
を用いて金属膜を形成しても良い。
のは、バランスウエイトとして半田を用いる為で
あつて、半田はロ−タリトランス本体には付かな
いからである。従つて、銅以外にアルミニウム等
を用いて金属膜を形成しても良い。
本実施例の回転ヘツドシリンダのバランス調整
を行なうには、シリンダを組み立てた後、バラン
シングマシンによつて不釣合荷重の大きさと位置
を検出した上で、不釣合荷重の存する位置の反対
側にあるバランスウエイト取付部の一箇所に、或
いはその付近の数箇所に適量の半田を融着する。
この際、半田は銅薄膜54の露出部分のみに付く
ので、露出面積を同一にしておけば、半田の融着
量を容易に管理することが出来る。又、ウエイト
取付部の露出面積を加減すれば、1つのバランス
ウエイトの重量を任意に変えることが出来る。
を行なうには、シリンダを組み立てた後、バラン
シングマシンによつて不釣合荷重の大きさと位置
を検出した上で、不釣合荷重の存する位置の反対
側にあるバランスウエイト取付部の一箇所に、或
いはその付近の数箇所に適量の半田を融着する。
この際、半田は銅薄膜54の露出部分のみに付く
ので、露出面積を同一にしておけば、半田の融着
量を容易に管理することが出来る。又、ウエイト
取付部の露出面積を加減すれば、1つのバランス
ウエイトの重量を任意に変えることが出来る。
本考案に於ては、プリント基板をバランスデイ
スクとして兼用しており、第3図に示すウエイト
取付部の断面構造は、第4図に示す導線半田付部
の断面構造と殆ど同じであるので、ウエイト取付
部と導線半田付部とは同一の工程で同時に製造す
ることが出来る。又、バランスウエイトとしての
半田もVTR製造工程において多用されているの
で、従来の工程を大きく変えることなく実施が可
能である。
スクとして兼用しており、第3図に示すウエイト
取付部の断面構造は、第4図に示す導線半田付部
の断面構造と殆ど同じであるので、ウエイト取付
部と導線半田付部とは同一の工程で同時に製造す
ることが出来る。又、バランスウエイトとしての
半田もVTR製造工程において多用されているの
で、従来の工程を大きく変えることなく実施が可
能である。
尚、本考案は第1図に示す形式の回転ヘツドシ
リンダに限らず、種々の形式の回転ヘツドシリン
ダに実施できるのは勿論である。
リンダに限らず、種々の形式の回転ヘツドシリン
ダに実施できるのは勿論である。
第1図は本考案に係る回転ヘツドシリンダの断
面図、第2図は本考案に係るバランスデイスクが
装備されたロ−タリトランス回転部及びフライホ
イ−ルの斜視図、第3図はバランスウエイト取付
部の断面図、第4図は導線が半田付けされたプリ
ント基板の断面図、第5図は従来の回転ヘツドシ
リンダのロ−タリトランス回転部とフライホイ−
ルの斜視図を示す。 1……上部シリンダ、10……下部シリンダ、
2……ロ−タリトランス、3……フライホイ−
ル、4……磁気ヘツド、5……プリント基板、5
1……半田。
面図、第2図は本考案に係るバランスデイスクが
装備されたロ−タリトランス回転部及びフライホ
イ−ルの斜視図、第3図はバランスウエイト取付
部の断面図、第4図は導線が半田付けされたプリ
ント基板の断面図、第5図は従来の回転ヘツドシ
リンダのロ−タリトランス回転部とフライホイ−
ルの斜視図を示す。 1……上部シリンダ、10……下部シリンダ、
2……ロ−タリトランス、3……フライホイ−
ル、4……磁気ヘツド、5……プリント基板、5
1……半田。
Claims (1)
- シヤ−シ6上に固定された静止体の中心軸上
に、磁気ヘツド4を具えた回転体を回転駆動可能
に支持し、回転体と静止体の対向部にロ−タリト
ランス2を介装した回転ヘツドシリンダに於て、
前記回転体には、回転軸と直交する面内に、磁気
ヘツド4とロ−タリトランス2を電気的に連結す
る円板状のプリント基板5が固定され、該プリン
ト基板5は、円板状の絶縁ベ−ス53の表面に導
電性金属膜54を介して絶縁膜55を形成してな
り、該絶縁膜55は、前記回転軸を中心とする周
囲複数箇所に、前記金属膜54を露出せしめる所
定形状の孔50を有し、該孔50によつて複数の
ウエイト取付部を形成し、該ウエイト取付部の
内、適当な位置のウエイト取付部に半田を融着す
ることにより、回転体の動バランスの調整が可能
であることを特徴とする回転ヘツドシリンダ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16174283U JPS6070915U (ja) | 1983-10-18 | 1983-10-18 | 回転ヘッドシリンダ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16174283U JPS6070915U (ja) | 1983-10-18 | 1983-10-18 | 回転ヘッドシリンダ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6070915U JPS6070915U (ja) | 1985-05-20 |
| JPH0320901Y2 true JPH0320901Y2 (ja) | 1991-05-07 |
Family
ID=30355369
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16174283U Granted JPS6070915U (ja) | 1983-10-18 | 1983-10-18 | 回転ヘッドシリンダ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6070915U (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2574771B2 (ja) * | 1986-09-03 | 1997-01-22 | 株式会社日立製作所 | 回転磁気ヘツド装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57195320A (en) * | 1981-05-25 | 1982-12-01 | Sony Corp | Wow and flutter canceling device of rotary head type vtr |
| JPS58163025U (ja) * | 1982-04-22 | 1983-10-29 | ソニー株式会社 | 回転ヘツドドラム |
-
1983
- 1983-10-18 JP JP16174283U patent/JPS6070915U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6070915U (ja) | 1985-05-20 |
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