JPH03209201A - 低融点基体上蒸着反射防止膜 - Google Patents
低融点基体上蒸着反射防止膜Info
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- JPH03209201A JPH03209201A JP2004026A JP402690A JPH03209201A JP H03209201 A JPH03209201 A JP H03209201A JP 2004026 A JP2004026 A JP 2004026A JP 402690 A JP402690 A JP 402690A JP H03209201 A JPH03209201 A JP H03209201A
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- Japan
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は光学系に用いられる反射防止膜に係る。
（発明の背景）
光学部材の光屈折率，吸収率更に反射率は、光学系の性
能を左右する重要因子であり、その制御．調整は光学部
材の表面に各種素材の薄膜を蒸着することによって行わ
れる。
能を左右する重要因子であり、その制御．調整は光学部
材の表面に各種素材の薄膜を蒸着することによって行わ
れる。
これら蒸着膜の特性は蒸着素材の種類、膜厚或は蒸着条
件によって大きく変動することが知られている。
件によって大きく変動することが知られている。
更に蒸着条件の１つとして基体の温度も蒸着膜の性能に
大きく影響し、一般に高温であることが好ましいが、基
体材料の性質上恣ままに蒸着に最適な基体温度とするこ
とは許されない。
大きく影響し、一般に高温であることが好ましいが、基
体材料の性質上恣ままに蒸着に最適な基体温度とするこ
とは許されない。
近時、光学機器に大いに適用される傾向にあるプラスチ
ック、低融点ガラス或は結晶性ガラス等の低融点の基体
Ｊこ光学的蒸着膜、例えば反射防止材を蒸着する場合、
基体加熱が不可能のために接着性の強いまた耐候性のよ
い蒸着膜を作ることは困雌とされている。
ック、低融点ガラス或は結晶性ガラス等の低融点の基体
Ｊこ光学的蒸着膜、例えば反射防止材を蒸着する場合、
基体加熱が不可能のために接着性の強いまた耐候性のよ
い蒸着膜を作ることは困雌とされている。
この難を避けるために、例えばＭｇＦ１／ ＺｒＯ！／
プラスチック基体の構威において、ＭｇＦＪＸ上にＳｊ
Ｏ，を１／２λ以下の膜厚に蒸着し密着性、ｔａ械強度
を上げる（特開昭５７−１３９７０１号）提案や、最上
層のＭｇＦ ，蒸着に先立ってＡＱｘＯｓを極く薄く設
け膜の耐久性を上げる（特開昭６０−４２４４２号）こ
とが提案されている。
プラスチック基体の構威において、ＭｇＦＪＸ上にＳｊ
Ｏ，を１／２λ以下の膜厚に蒸着し密着性、ｔａ械強度
を上げる（特開昭５７−１３９７０１号）提案や、最上
層のＭｇＦ ，蒸着に先立ってＡＱｘＯｓを極く薄く設
け膜の耐久性を上げる（特開昭６０−４２４４２号）こ
とが提案されている。
しかし、Ｓｉ０２保護層、ＡＱｚＯ，中間層を設けて膜
強度、耐候性を充分に向上させるには、その膜厚を厚く
する必要があり、ＭｇＦ．がもつ低屈折率（ｎ）１．３
８から導かれる利点が抹殺され、良好な反射率特性が失
われ、広い波長域に亙る低反射率性を保つことができな
い。
強度、耐候性を充分に向上させるには、その膜厚を厚く
する必要があり、ＭｇＦ．がもつ低屈折率（ｎ）１．３
８から導かれる利点が抹殺され、良好な反射率特性が失
われ、広い波長域に亙る低反射率性を保つことができな
い。
（発明の目的）
蒸着技術が、将来に向けて基体の物理的な融点、化学的
な耐熱性に拘束されることは蒸着技術発展の障りにもな
ることであるので、それを打破する諸口として、低融点
物質、特に近時素材として急速に特性改善、用途拡大の
進んでいるプラスチックを用いるプラスチック光学部材
への蒸着反射防止膜形皮において、 本発明の目的は； （１）低温基体上に蒸着された密着性の強い、更に耐候
性の良好な反射防止膜、 （２）蒸着表面層に弗化マグネシウムを用いた２層構或
の良好な反射防止特性を有する反射防止膜、更に （３）補助層のない量産性ｊコ富み、かつ良好な膜質の
反射防止膜 の提供にある。
な耐熱性に拘束されることは蒸着技術発展の障りにもな
ることであるので、それを打破する諸口として、低融点
物質、特に近時素材として急速に特性改善、用途拡大の
進んでいるプラスチックを用いるプラスチック光学部材
への蒸着反射防止膜形皮において、 本発明の目的は； （１）低温基体上に蒸着された密着性の強い、更に耐候
性の良好な反射防止膜、 （２）蒸着表面層に弗化マグネシウムを用いた２層構或
の良好な反射防止特性を有する反射防止膜、更に （３）補助層のない量産性ｊコ富み、かつ良好な膜質の
反射防止膜 の提供にある。
（発明の構或及び作用効果）
前記した本発明の目的は；
低融点基体上に昇華性蒸着材料を蒸着した第１層を設け
、更に該第１層上に弗化マグネシウムを主成分とする蒸
着層を積層した反射防止膜によって達威される。
、更に該第１層上に弗化マグネシウムを主成分とする蒸
着層を積層した反射防止膜によって達威される。
尚本発明の態様においては、前記昇華性蒸着材料の主威
分が、酸化セリウム、酸化錫、酸化インジウム又は酸化
珪素であることが好ましい。
分が、酸化セリウム、酸化錫、酸化インジウム又は酸化
珪素であることが好ましい。
更に前記第１層の光学的膜厚（ｎｄ）を、少なくとも波
長（λ）５００〜６００ｎｍにおいて、定比弗化マグネ
シウム（ＭｇＦｉ）単層膜より低い反射率（Ｒ）となる
屈折率（ｎ）及び幾何学的膜厚（ｄ）を与えて構戊する
ことが好ましい。
長（λ）５００〜６００ｎｍにおいて、定比弗化マグネ
シウム（ＭｇＦｉ）単層膜より低い反射率（Ｒ）となる
屈折率（ｎ）及び幾何学的膜厚（ｄ）を与えて構戊する
ことが好ましい。
更に密着性等の膜物性を加味すると、前記昇華蒸着層の
主成分が、酸化セリウム又は酸化珪素からなり、かつそ
の光学的膜厚（ｎｄ）が波長（λ）に関し、０．１５＾
≧ｎｄ）０．０２λであることが好ましい。
主成分が、酸化セリウム又は酸化珪素からなり、かつそ
の光学的膜厚（ｎｄ）が波長（λ）に関し、０．１５＾
≧ｎｄ）０．０２λであることが好ましい。
また積層する弗化マグネシウムを主成分とする蒸着を弗
素系ガス雰囲気中で行うことが好ましい。
素系ガス雰囲気中で行うことが好ましい。
次に本発明について詳しく説明する。
本発明に係る蒸着には通常用いられる蒸着装置を用いる
ことができる。清浄にした基体を真空槽内ｌ二設置し、
まずＩｎ−”Ｔｏｒｒ程度に真空Ｉこし、次いで１０−
’＋＊ｂａｒのオーダに酸素ガス（０２）を導入し、昇
華性蒸着材料の前記酸化物に電子ビームを照射し、熔融
することなく昇華により蒸着させ第１層を形成する。該
層の酸化物は一般に不定比酸化物であるがその時の光学
的膜厚をｎ，ｄ，とし、昇華性酸化物蒸着層をＤ ａ
ｄ ａ層と表すと、２層構虞で波長（λ）５００〜６０
０ｎｍで有用な反射防止特性を与えるにはｎ，ｄ，層の
膜厚ｎ．ｄ，には特定された条件を与える必要がある。
ことができる。清浄にした基体を真空槽内ｌ二設置し、
まずＩｎ−”Ｔｏｒｒ程度に真空Ｉこし、次いで１０−
’＋＊ｂａｒのオーダに酸素ガス（０２）を導入し、昇
華性蒸着材料の前記酸化物に電子ビームを照射し、熔融
することなく昇華により蒸着させ第１層を形成する。該
層の酸化物は一般に不定比酸化物であるがその時の光学
的膜厚をｎ，ｄ，とし、昇華性酸化物蒸着層をＤ ａ
ｄ ａ層と表すと、２層構虞で波長（λ）５００〜６０
０ｎｍで有用な反射防止特性を与えるにはｎ，ｄ，層の
膜厚ｎ．ｄ，には特定された条件を与える必要がある。
例えば、ｎ．ｄ．層を酸化セリウム（ＣａＯ２）で形威
し、この上に光学的膜厚ｎｙｄｙ＝ ０．３λに積層蒸
着した弗化マグネシウム蒸着層（ｎｐｄｐ層と表す）を
設け、２層構或の反射防止膜を表１のように作成した。
し、この上に光学的膜厚ｎｙｄｙ＝ ０．３λに積層蒸
着した弗化マグネシウム蒸着層（ｎｐｄｐ層と表す）を
設け、２層構或の反射防止膜を表１のように作成した。
第１図にこれらの分光反射率特性曲線（曲線２〜６）を
示し、反射率最小値Ｒａｉｎ，定比ＭｇＦ，単層膜（曲
線ｌ）より反射率Ｒの小さい改良波長範囲Ａ （ｎ＋ｓ
）を表１に掲げた。更にテープ剥離テストによる膜密着
性評価結果も併記した。尚該テストにより剥離のないも
のを○、ｌＯ％までの剥離面積に止るものＡ 翻鰺Ｑｆ
ｌｏＡＭ Ｉ− ｔ：”ｕ １： ＊． ノｔｙ ｖシ
ｌ．ｆ−表ｌ 表１及び第１図から明らかなように、ＣｅＯｘを昇華蒸
着したｎ．ｄ，層にＭｇＦｙを蒸着したｎ，ｄ，層を積
層した２層構戒にすることによって定比ＭｇＦ，単層の
場合よりＲ ｗｉｎを低くすることができるが％ ｎ＠
ｄ＊が０．１２λより小さい試料２〜５では視感度の高
い波長領域５００−６５０ｎｍを含んでＭｇＦｚ単層よ
りＲ ａｋｉｎが低＜ 、ｎ．ｄ．＝０．０４λとする
と４１０〜７００ｎｍに亙り、良好な反射防止性能を示
す。しかしそれを過ぎるとＡ幅が狭くなり、ｎ．ｄ，が
０．ｌ５λの試料６ではＡ幅は５４０〜６２０ｎａ＋に
縮減する。
示し、反射率最小値Ｒａｉｎ，定比ＭｇＦ，単層膜（曲
線ｌ）より反射率Ｒの小さい改良波長範囲Ａ （ｎ＋ｓ
）を表１に掲げた。更にテープ剥離テストによる膜密着
性評価結果も併記した。尚該テストにより剥離のないも
のを○、ｌＯ％までの剥離面積に止るものＡ 翻鰺Ｑｆ
ｌｏＡＭ Ｉ− ｔ：”ｕ １： ＊． ノｔｙ ｖシ
ｌ．ｆ−表ｌ 表１及び第１図から明らかなように、ＣｅＯｘを昇華蒸
着したｎ．ｄ，層にＭｇＦｙを蒸着したｎ，ｄ，層を積
層した２層構戒にすることによって定比ＭｇＦ，単層の
場合よりＲ ｗｉｎを低くすることができるが％ ｎ＠
ｄ＊が０．１２λより小さい試料２〜５では視感度の高
い波長領域５００−６５０ｎｍを含んでＭｇＦｚ単層よ
りＲ ａｋｉｎが低＜ 、ｎ．ｄ．＝０．０４λとする
と４１０〜７００ｎｍに亙り、良好な反射防止性能を示
す。しかしそれを過ぎるとＡ幅が狭くなり、ｎ．ｄ，が
０．ｌ５λの試料６ではＡ幅は５４０〜６２０ｎａ＋に
縮減する。
従ってＡ幅５００〜６５０ｎ＋ｍ領域でＭｇＦ，単層よ
り反射率を低くするためｌこは、 ｎ．ｄ，≦０．１２λ に収める必要がある。
り反射率を低くするためｌこは、 ｎ．ｄ，≦０．１２λ に収める必要がある。
また表１に示す密着性をみると、ｎ．ｄ．＞０．０２λ
であることが必要である。
であることが必要である。
従ってＣｅＯｘ， ＭｇＦｙ層を用いた実用性ある２層
構戒反射防止膜としては、 ０．ｌ２λ≧ｎ，ｄ．）０．０２λ 一方ｎ．ｄ，層にＳｉＯｘを用いた場合には、同様の測
定を行って、 ０．ｌ５λ≧ｎ．ｄ，≧０．０５λ かえられた。
構戒反射防止膜としては、 ０．ｌ２λ≧ｎ，ｄ．）０．０２λ 一方ｎ．ｄ，層にＳｉＯｘを用いた場合には、同様の測
定を行って、 ０．ｌ５λ≧ｎ．ｄ，≧０．０５λ かえられた。
従って少なくともＣｅＯｘ，ＳｉＯｘのいずれかをｎ，
ｄ，層とする時には ０．１５λ≧ｎ．ｄ．＞０．０２λ とすることＩこよって、反射率特性のよい且つ密着性の
よい２層構戒の反射防止膜かえられる。
ｄ，層とする時には ０．１５λ≧ｎ．ｄ．＞０．０２λ とすることＩこよって、反射率特性のよい且つ密着性の
よい２層構戒の反射防止膜かえられる。
また昇華蒸着したＣｅＯｘ．ＳｉＯｘのｎ，ｄ，層は、
熔融蒸着したＺｒＯｘ， ＴｉＯｘのｎ，ｄ，層よりも
プラスチック基体との密着性が良好となる。前記のテー
プ剥離テストの結果を表２に示す。
熔融蒸着したＺｒＯｘ， ＴｉＯｘのｎ，ｄ，層よりも
プラスチック基体との密着性が良好となる。前記のテー
プ剥離テストの結果を表２に示す。
ｎ．ｄ．層の昇華蒸着後、真空槽の雰囲気を弗素系ガス
例えばＣＦ，ガスの１０一◆ｍｂａｒオーダに切換え、
不定比弗化物ＭｇＦｙを電子ビームで加熱、熔融し蒸着
を行いｎ，ｄ，層を形戊する。
例えばＣＦ，ガスの１０一◆ｍｂａｒオーダに切換え、
不定比弗化物ＭｇＦｙを電子ビームで加熱、熔融し蒸着
を行いｎ，ｄ，層を形戊する。
前記ＣＦ．ガスを導入することによって、反射防止膜の
耐湿性、耐候性が大幅に改良される。
耐湿性、耐候性が大幅に改良される。
ｎ，ｄ，層上にＣｅＯｘ ， Ｓ ｉ Ｏｘの保護層を
設け、６０℃．９０％Ｒｌ１． １００時間の曇り発生
等の表面劣化に着目した耐湿性テスト結果を表３に掲げ
る。
設け、６０℃．９０％Ｒｌ１． １００時間の曇り発生
等の表面劣化に着目した耐湿性テスト結果を表３に掲げ
る。
○は表面劣化のないもの、△は表面劣化により実用が危
まれるもの、×は表面劣化が著しく、実表３ 尚ｎ．ｄ．層、ｎ，ｄ，層のいづれの蒸着時にも基体は
加熱されることはない。
まれるもの、×は表面劣化が著しく、実表３ 尚ｎ．ｄ．層、ｎ，ｄ，層のいづれの蒸着時にも基体は
加熱されることはない。
更に０．３５λ≧ｎ，ｄ，≧０．２５λであることが好
ましい。尚上記ｎ，ｄｐを規制するλはＡ幅内の波長で
ある。
ましい。尚上記ｎ，ｄｐを規制するλはＡ幅内の波長で
ある。
また本発明に係る低融点基体としてはプラスチックが好
ましく、例えばポリメチルメタクリレート系樹脂（ＰＭ
ＭＡ）、ポリカーポネート系樹脂等の光透過性のよい樹
脂素材が選ばれる。
ましく、例えばポリメチルメタクリレート系樹脂（ＰＭ
ＭＡ）、ポリカーポネート系樹脂等の光透過性のよい樹
脂素材が選ばれる。
（実施例）
次に具体的に実施例、これに対する比較例を挙げ、本発
明の効果を示す。
明の効果を示す。
表４に一括して掲げた実施例ｌ及び２並びに比較例（１
）．（２）及び（３）に用いた基体はいづれもＰＭＭＡ
であり、まｔ；いづれにおいても基体の加熱は行ってい
ｋい。
）．（２）及び（３）に用いた基体はいづれもＰＭＭＡ
であり、まｔ；いづれにおいても基体の加熱は行ってい
ｋい。
また屈折率ｎ１光学的膜厚ｎｄは、入射媒体に空気をと
り、λ； ５６０ｎ＋ｓに対する値である。
り、λ； ５６０ｎ＋ｓに対する値である。
尚ＣｅＯｘ，ＳｉＯｘは昇華蒸着材料， ＺｒＯｘ，Ｔ
ｉＯｘ及びＭｇｐｙは熔融蒸着材料である。
ｉＯｘ及びＭｇｐｙは熔融蒸着材料である。
第２図に分光反射率特性曲線を示した。基準としてＭｇ
Ｆｆｆｉ単層膜の曲線を示した。
Ｆｆｆｉ単層膜の曲線を示した。
第２図に明かなように、本発明の試料Ｉ及び２は定比Ｍ
ｇＦ！単層膜よりも、波長４５０〜７００ｎ＋ｍ以上に
亙り反射率が低く、また接着性も良好である。尚耐湿性
も良好である。一方比較試料はＡ幅も狭く、反射防止性
能、接着性不良で、かつ耐湿性にも乏しかった。
ｇＦ！単層膜よりも、波長４５０〜７００ｎ＋ｍ以上に
亙り反射率が低く、また接着性も良好である。尚耐湿性
も良好である。一方比較試料はＡ幅も狭く、反射防止性
能、接着性不良で、かつ耐湿性にも乏しかった。
（発明の効果）
本発明の構戊を採ることによって低反射率で密着性、耐
湿性の優れた反射防止膜かえられる。
湿性の優れた反射防止膜かえられる。
第１図は昇華蒸着層の光学的膜厚と分光反射率の関係を
示す図、第２図は実施例の反射防止膜の分光反射率を示
す図である。
示す図、第２図は実施例の反射防止膜の分光反射率を示
す図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１） 低融点基体上に昇華性蒸着材料を蒸着した第１
層を設け、更に該第１層上に弗化マグネシウムを主成分
とする蒸着層を積層した反射防止膜。 （２） 前記昇華性蒸着材料の主成分が、酸化セリウム
、酸化錫、酸化インジウム又は酸化珪素である請求項１
に記載の反射防止膜。 （３） 前記第１層の光学的膜厚（ｎｄ）を、少なくと
も波長（λ）５００〜６００ｎｍにおいて、定比弗化マ
グネシウム（ＭｇＦ＿２）単層膜より低い反射率（Ｒ）
となる屈折率（ｎ）及び幾何学的膜厚（ｄ）を与えて構
成した請求項１又は２に記載の反射防止膜。 （４） 前記第１層の主成分が、酸化セリウム又は酸化
珪素からなり、かつその光学的膜厚（ｎｄ）が波長（λ
）に関し、 ０．１５λ≧ｎｄ＞０．０２λ である請求項１〜３のいづれかに記載の反射防止膜。 （５） 前記積層する弗化マグネシウムを主成分とする
蒸着層の蒸着を弗素系ガス雰囲気中で行うことを特徴と
する請求項１〜４のいづれかに記載の反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004026A JP2979327B2 (ja) | 1990-01-11 | 1990-01-11 | 低融点基体上蒸着反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004026A JP2979327B2 (ja) | 1990-01-11 | 1990-01-11 | 低融点基体上蒸着反射防止膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03209201A true JPH03209201A (ja) | 1991-09-12 |
| JP2979327B2 JP2979327B2 (ja) | 1999-11-15 |
Family
ID=11573451
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004026A Expired - Lifetime JP2979327B2 (ja) | 1990-01-11 | 1990-01-11 | 低融点基体上蒸着反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2979327B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2024053125A1 (ja) * | 2022-09-09 | 2024-03-14 |
-
1990
- 1990-01-11 JP JP2004026A patent/JP2979327B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2024053125A1 (ja) * | 2022-09-09 | 2024-03-14 | ||
| WO2024053125A1 (ja) * | 2022-09-09 | 2024-03-14 | キヤノンオプトロン株式会社 | 多層膜、多層膜を有する光学部材、および多層膜の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2979327B2 (ja) | 1999-11-15 |
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