JPH03214410A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents
薄膜磁気ヘッドInfo
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- JPH03214410A JPH03214410A JP2008655A JP865590A JPH03214410A JP H03214410 A JPH03214410 A JP H03214410A JP 2008655 A JP2008655 A JP 2008655A JP 865590 A JP865590 A JP 865590A JP H03214410 A JPH03214410 A JP H03214410A
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
に関するものである。
5図において1はセラミック等の非磁性材料によってで
きた基板、2は基板の上に二酸化シリコン等の材料をス
パッタリングする事によって形成された絶縁膜、3は絶
縁膜2の上にセンダスト等によって形成された下部磁性
層、4は下部磁性層3の上に形成され、磁気ギャップと
なるギャップ層、5はギャップ層の上にフォトレジスト
等によって形成された層間絶縁層、6は眉間絶縁層5の
上に形成されたコイル層で、コイル層6は、先ず銅等に
よって導電薄膜を形成し、その後にフォトリソグラフィ
等の技術を用いて所定の形状に仕上げる。7はコイル層
の上に形成された層間絶縁層、8は眉間絶縁層7の上に
形成された上部磁性層で、上部磁性層8には傾斜部8a
と下部磁性層3に平行なアウタースロート部8bを有し
ている。又アウタースロート部8bの端面は媒体対向面
を構成している。9は上部磁性層の上に形成された保護
層である。
電流を流すと第5図に示す矢印Aの様に磁束が流れ、磁
気記録媒体に磁気的な記録を行う。又再生の時は磁気記
録媒体からの磁束が上部磁性層8及び下部磁性層3に流
れ込み、コイル層6に誘導起電力が発生する。するとコ
イル層6の中に電流が流れ、その電圧を信号として取り
出していた。
示す上部磁性層8の傾斜部8aからアウタースロート部
8bに磁束が流れ込むときに、磁束が傾斜部10からア
ウタースロート部8bに行かずギャップ層4を通り越し
て下部磁性層3に入りこんで、記録電流に対する媒体対
向而に飛び出す磁束量が減ってしまい、所定の強さの磁
束を得るためにより多くの記録電流を流さなければなら
ないという問題点を有していた。磁束がギャップ層4を
通り越して下部磁性層3に流れ込む訳は、磁束が傾斜部
8aからアウタースロート部8bに曲がるよりも、ギャ
ップ層4を通り越して下部磁性層3に入った方が磁気抵
抗が小さくなるからである。又磁束の流れる向きが下部
磁性層から上部磁性層においても同様の減少が起こる。
面から飛び出さずにギャップ層を通り越して他方の磁性
層に流れ込む磁束の債を小さくする事ができる薄膜磁気
ヘッドを提供する事を1]的としている。
行な水平部と、水平部の両端に設けられた傾斜部によっ
て構成し、傾斜部の端而を媒体対向面とした。
他の磁性層の方に流れこむ事を抑える事ができる。
す断面図である。第1図において、lは基板、2は絶縁
膜、3は下部磁性層、4はギャップ層、5は層間絶縁層
、6はコイル層、7は層間絶縁層、9は保護層、これら
は従来の構成と同じである。10は上部磁性層で、上部
磁性層10はコイル層6に平行な水平部1lと、水平部
11の両端に一体に形成された傾斜部l2によって構成
されている。このとき媒体対向面の傾斜部1の端面は媒
体対向面の一部を構成している。
録する際の磁束の流れ方について説明する。
録時の磁束の流れを示す拡大断面図である。第2図に示
す様に、磁束は直接傾斜部l2から外に飛び出る様にな
る。従って外に飛び出ずにギャップ屑4を通り越して下
部磁性層3に流れる磁束がかなり減少し、記録電流の大
きさに対する外に飛び出す磁束量は太き《なり、効率が
良くなる。すなわち小さな記録電流でも大きな磁束を発
生する事ができ、あまりコイル層6に熱が発生せず、熱
による層間絶縁層の絶縁不良の発生を防止することがで
きる。
製造方法を説明する。
部磁性層3を形成する。次に下部磁性層3の上に二酸化
シリコン等によってギャップ層4を形成する。次にギャ
ップ層4の上に7ォトレジスト等によって層間絶縁層5
を形成する。次に層間絶縁層5の上に鋼等によって導電
薄膜を形成し、フォトリソグラフィ技術を用いて導電薄
膜を渦巻き状に加工して、コイル層6を形成する。次に
コイルM6を覆うようにフォトレジスト等によって層間
絶縁層7を形成する。次に層間絶縁層7の上に下部磁性
層とともに磁気回路を構成する様に上部磁性層10を形
成し、その上に保護層9を形成する。次に媒体対向面と
なる個の基板 1及び積層した薄膜体を研磨する。この
時第1図に示すアベックス10まで達しないようにしか
も傾斜部l2が研磨面に露出する様になるまで研磨する
。
2の端面が媒体対向面の一部を構成する様にした事によ
り、磁束は直接傾斜部l2から外に飛び出る様になる。
性層3に流れる磁束がかなり減少し、記録電流の大きさ
に対する外に飛び出す磁束量は大きくなり、効率が良く
なる。
び傾斜部12を形成したが第3図に示すに下部磁性層に
コイル層と平行な水平部及び傾斜部を備えた薄膜磁気ヘ
ッドでも同様の効果を得る事かできた。第3図において
13は基板で、基板l3には凹部13aが設けられてい
る。l4は少なくとも四部13aを形成した面のヒに一
面に形成された絶縁層、l5は絶縁層14の上に形成さ
れた下部磁性層で、下部磁性層l5は水平部15aと水
平部15aの両端部に設けられた傾斜部15bより構成
されている。16は下部磁性層の上に形成されたギャッ
プ層、17はギャップ層16の上に形成された層間絶縁
層、18は層間絶縁層l7の上に形成されたコイル層、
19はコイル層18の上に形成された層間絶縁層、20
は層間絶縁層19の上に形成された上部磁性層、21は
上部磁性層20の上に形成された保護層である。この様
に構成された薄膜磁気ヘッドにおいても、媒体対向面に
飛び出ずにギャップ層16を通り越して他方の磁性層の
方に行《磁束を減少させる事ができる。
イル層と平行な水平部及び傾斜部を設けても同様の効果
を得る事ができる。第4図において13は基板、13a
は凹部、14は絶縁層、15は下部磁性層、15aは水
平部、15bは傾斜部、l6はギャップ層、17は眉間
絶縁層、18はコイル層、19は眉間絶縁層でこれらは
第3図に示す構成と同じである。22は層間絶縁層19
の上に形成された上部磁性層で、上部磁性層22にはコ
イル層18に平行な水平部22aと水平部22aの両端
部に設けられた傾斜部22bによって構成されている。
第3図に示すものと同じ構成である。この様な構造の薄
膜磁気ヘッドにおいても媒体対向面に飛び出ずにギャッ
プ層l6を通り越して他方の磁性層の方に行く磁束を減
少させる事ができる。
部の両端に設けられた傾斜部によって構成し、傾斜部の
端而を媒体対向面とした事により磁束が磁気ギャップを
通り越して直接他の磁性層の方に流れこむ事を抑える事
ができるので、記録電流に対する磁束の効率を良くする
事ができる。
す側断面図、第2図は同部分拡大断面図、第3図は他の
実施例を示す断面図、第4図は他の実施例を示す断面図
、第5図は従来の薄膜軸ヘッドを示す側断面図、第6図
は同部分拡大断面図である。 1 1 1 1・・・・・・基板 2・・・・・・絶縁膜 3・・・・・・下部磁性層 4・・・・・・ギャップ層 5・・・・・・層間絶縁層 6・・・・・・コイル層 7・・・・・・層間絶縁層 9・・・・・・保護層 0・・・・・・上部磁性層、 l・・・・・・水平部 2・・・・・・傾斜部
Claims (1)
- 基板と、前記基板の上に形成された下部磁性層と、前記
下部磁性層の上に形成されたギャップ層と、前記ギャッ
プ層の上に形成され、層間絶縁層で覆われたコイル層と
、前記コイル層の上に形成された上部磁性層を備え、前
記上部磁性層をコイル層と平行な水平部と、前記水平部
の両端に設けられた傾斜部によって構成され、前記傾斜
部の内、媒体対向面側の傾斜部の端部が媒体対向面を形
成している事を特徴とする薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008655A JP2563625B2 (ja) | 1990-01-18 | 1990-01-18 | 薄膜磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008655A JP2563625B2 (ja) | 1990-01-18 | 1990-01-18 | 薄膜磁気ヘッド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03214410A true JPH03214410A (ja) | 1991-09-19 |
| JP2563625B2 JP2563625B2 (ja) | 1996-12-11 |
Family
ID=11698948
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2008655A Expired - Lifetime JP2563625B2 (ja) | 1990-01-18 | 1990-01-18 | 薄膜磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2563625B2 (ja) |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60258716A (ja) * | 1984-06-04 | 1985-12-20 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
| JPS60258715A (ja) * | 1984-06-04 | 1985-12-20 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
| JPS6161219A (ja) * | 1984-08-31 | 1986-03-29 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
| JPS6216219A (ja) * | 1985-07-12 | 1987-01-24 | Fujitsu Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
| JPS6216222A (ja) * | 1985-07-16 | 1987-01-24 | Fujitsu Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
| JPH01294212A (ja) * | 1988-05-20 | 1989-11-28 | Mitsubishi Electric Corp | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
| JPH0239307U (ja) * | 1988-09-01 | 1990-03-16 |
-
1990
- 1990-01-18 JP JP2008655A patent/JP2563625B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60258716A (ja) * | 1984-06-04 | 1985-12-20 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
| JPS60258715A (ja) * | 1984-06-04 | 1985-12-20 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
| JPS6161219A (ja) * | 1984-08-31 | 1986-03-29 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
| JPS6216219A (ja) * | 1985-07-12 | 1987-01-24 | Fujitsu Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
| JPS6216222A (ja) * | 1985-07-16 | 1987-01-24 | Fujitsu Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
| JPH01294212A (ja) * | 1988-05-20 | 1989-11-28 | Mitsubishi Electric Corp | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
| JPH0239307U (ja) * | 1988-09-01 | 1990-03-16 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2563625B2 (ja) | 1996-12-11 |
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