JPH03218821A - 熱線反射ガラス - Google Patents
熱線反射ガラスInfo
- Publication number
- JPH03218821A JPH03218821A JP1224492A JP22449289A JPH03218821A JP H03218821 A JPH03218821 A JP H03218821A JP 1224492 A JP1224492 A JP 1224492A JP 22449289 A JP22449289 A JP 22449289A JP H03218821 A JPH03218821 A JP H03218821A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- refractive index
- glass
- low refractive
- heat ray
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、熱線反射ガラスに関するものであり、特に耐
久性に優れ、且つ高い可視光線透過率と高い熱線反射率
を有する熱線反射ガラスに関するものである。
久性に優れ、且つ高い可視光線透過率と高い熱線反射率
を有する熱線反射ガラスに関するものである。
［従来の技術〕
熱線反射ガラスは、建築のビル用に多く使われている。
最近ではデザイン面から２〜４層程度の多層コーティン
グが主流になってきており、大面積で光学設計のできる
スパッタリング法が採用されている。また色調重視から
積極的に光学的な干渉を利用している。その構成は熱反
膜としてＣｒ，Ｔｉ，ＳＯＳなどのメタル膜あるいはＴ
ｉＮ， ＺｒＮなどの窒化膜が主に用いられる。干渉を
利用するために、ＴｉＯ■， ＳｎＯ■などの屈折率の
高い透明酸化膜が用いられる。これらを組合せて所望の
反射率、透過率、色調を有する熱線反射ガラスが作られ
る。
グが主流になってきており、大面積で光学設計のできる
スパッタリング法が採用されている。また色調重視から
積極的に光学的な干渉を利用している。その構成は熱反
膜としてＣｒ，Ｔｉ，ＳＯＳなどのメタル膜あるいはＴ
ｉＮ， ＺｒＮなどの窒化膜が主に用いられる。干渉を
利用するために、ＴｉＯ■， ＳｎＯ■などの屈折率の
高い透明酸化膜が用いられる。これらを組合せて所望の
反射率、透過率、色調を有する熱線反射ガラスが作られ
る。
［発明の解決しようとする問題点］
ビル用の熱線反射ガラスは、一般に反射率が高く、透過
率が低く反射の色調も鮮やかである。
率が低く反射の色調も鮮やかである。
最近では快適性向上の面から乗用車用の熱線反射ガラス
の要望も急速に高まってきた。しかし、乗用車用では法
規制の面で可視光線透過率ＴＶ７０％以上である必要が
あり、反射率が低く且つニュートラルな反射色調が望ま
れている。
の要望も急速に高まってきた。しかし、乗用車用では法
規制の面で可視光線透過率ＴＶ７０％以上である必要が
あり、反射率が低く且つニュートラルな反射色調が望ま
れている。
この要求を満たすものとしてガラスの上に熱線反射膜、
保護コートの２層膜を形成したもの、あるいは熱線反射
膜を透明酸化膜でサンドイッチした３層膜構成のものが
知られている。前者は保護コートの透明酸化膜を薄くす
ることで光の干渉効果を低下させニュートラルな反射色
調を得ることができる。しかし、一方で干渉を利用しな
いことから、透過率の点で不利であり、熱線反射膜を厚
くできない。従って可視光線と熱線の選択的透過率の差
が大きくできない、云い換えれば熱線遮断性能がそれ程
良くならないという問題を有していた。後者の３層構成
の熱線反射ガラスは、干渉を利用するため透過率的に有
利であり、従って熱線反射膜を厚くできる。即ち、可視
光線と熱線透過率の差を太き《でき、熱線反射ガラスと
しての機能の優れたものを得ることができる。しかし干
渉を利用することで反射色調は淡いピンク色を呈し、完
全なニュートラルな反射色を得ることができないという
問題点を有していた。
保護コートの２層膜を形成したもの、あるいは熱線反射
膜を透明酸化膜でサンドイッチした３層膜構成のものが
知られている。前者は保護コートの透明酸化膜を薄くす
ることで光の干渉効果を低下させニュートラルな反射色
調を得ることができる。しかし、一方で干渉を利用しな
いことから、透過率の点で不利であり、熱線反射膜を厚
くできない。従って可視光線と熱線の選択的透過率の差
が大きくできない、云い換えれば熱線遮断性能がそれ程
良くならないという問題を有していた。後者の３層構成
の熱線反射ガラスは、干渉を利用するため透過率的に有
利であり、従って熱線反射膜を厚くできる。即ち、可視
光線と熱線透過率の差を太き《でき、熱線反射ガラスと
しての機能の優れたものを得ることができる。しかし干
渉を利用することで反射色調は淡いピンク色を呈し、完
全なニュートラルな反射色を得ることができないという
問題点を有していた。
高屈折率と低屈折率の透過酸化膜を交互に積層して多層
膜構成とした干渉フィルタータイプの熱線反射ガラスは
、ニュートラルな反射色調が得られるのみならず、高可
視光透過率を保ったまま、近赤外域の反射率を飛躍的に
高めることができるので、自動車用の熱線反射ガラスと
しては、現在のところ最も優れたものである。
膜構成とした干渉フィルタータイプの熱線反射ガラスは
、ニュートラルな反射色調が得られるのみならず、高可
視光透過率を保ったまま、近赤外域の反射率を飛躍的に
高めることができるので、自動車用の熱線反射ガラスと
しては、現在のところ最も優れたものである。
この干渉フィルタータイプの熱線反射ガラスは、通常真
空蒸着法を用いて成膜される。真空蒸着法では、成膜速
度が速いため短時間で成膜できる利点を有するが、蒸発
源が点とみなされる程小さいため均一な膜分布を得るた
めには基体を自公転させる必要がある。また自動車用ガ
ラスのように基体が大きい場合は、このようなことは不
可能なため蒸着源を複数にして、且つ膜厚補正板などを
設置することが必要となる。
空蒸着法を用いて成膜される。真空蒸着法では、成膜速
度が速いため短時間で成膜できる利点を有するが、蒸発
源が点とみなされる程小さいため均一な膜分布を得るた
めには基体を自公転させる必要がある。また自動車用ガ
ラスのように基体が大きい場合は、このようなことは不
可能なため蒸着源を複数にして、且つ膜厚補正板などを
設置することが必要となる。
更に成膜速度を一定にするのが一般に困難であり、光学
モニターによる制御を併用しなければならない。また良
好な膜質を得るためには通常３００℃以上に基体を加熱
しなければならない。
モニターによる制御を併用しなければならない。また良
好な膜質を得るためには通常３００℃以上に基体を加熱
しなければならない。
このため実際上自動車用のような大きなガラスに適用す
るのは極めて困難である。
るのは極めて困難である。
一方、スパッタリング法は、ターゲットのコロージョン
領域が広い。この広い領域全面からスバッタされた粒子
が基体に付着するので原理的に真空蒸着法より膜厚の均
一性に優れている。また各粒子の持つエネルギーが真空
蒸着の場合に比べて極めて大きいため、膜の基体への密
着性に優れ、また基体加熱をしなくても耐久性のある膜
が容易に得られるという特徴を有している。スパッタリ
ング法には高周波放電と直流放電を利用した２種類があ
る。前者は絶縁体ターゲットも使用可能で、成膜できる
材料の選択が広いという利点があるが、マッチング回路
が必要であり、自動車や建築用のような大面積ガラスの
コーティング装置としては適さない。
領域が広い。この広い領域全面からスバッタされた粒子
が基体に付着するので原理的に真空蒸着法より膜厚の均
一性に優れている。また各粒子の持つエネルギーが真空
蒸着の場合に比べて極めて大きいため、膜の基体への密
着性に優れ、また基体加熱をしなくても耐久性のある膜
が容易に得られるという特徴を有している。スパッタリ
ング法には高周波放電と直流放電を利用した２種類があ
る。前者は絶縁体ターゲットも使用可能で、成膜できる
材料の選択が広いという利点があるが、マッチング回路
が必要であり、自動車や建築用のような大面積ガラスの
コーティング装置としては適さない。
後者はマッチング回路が不要であり、大面積のコーティ
ング装置として数多《用いられているが、導電性のター
ゲットが必要であり成膜できる膜材料に制約がある。干
渉フィルタータイプの熱線反射ガラスをつくる場合、透
明で屈折率の高いもの低いものの２種類が必要不可欠で
あり、現在のところ低屈折率で安定に直流スバッタでき
る材料は見当たらない。このようなことから大面積で高
透過、低反射、ニュートラルな反射色を有し、且つ、熱
線反射性能に優れたものは得られていない。
ング装置として数多《用いられているが、導電性のター
ゲットが必要であり成膜できる膜材料に制約がある。干
渉フィルタータイプの熱線反射ガラスをつくる場合、透
明で屈折率の高いもの低いものの２種類が必要不可欠で
あり、現在のところ低屈折率で安定に直流スバッタでき
る材料は見当たらない。このようなことから大面積で高
透過、低反射、ニュートラルな反射色を有し、且つ、熱
線反射性能に優れたものは得られていない。
［問題点を解決するための手段］
本発明は前述の問題点を解決すべくなされたものであり
、透明基体上に高屈折率膜と低屈折率膜を交互に多層積
層してなる干渉フィルター型の熱線反射ガラスであって
、空気側最外層となっている高屈折率膜又は低屈折率膜
が、Ｚｒ，Ｔｉ， Ｈｆ， Ｓｎ， Ｔａ， Ｂｉ，
Ｚｎ， Ｉｎのうち少なくとも１種とＢ， Ｓｉ， Ｐ
のうち少なくとも１種を含む酸化物を主成分とする非晶
質膜であることを特徴とする熱線反射ガラスを提供する
ものである。
、透明基体上に高屈折率膜と低屈折率膜を交互に多層積
層してなる干渉フィルター型の熱線反射ガラスであって
、空気側最外層となっている高屈折率膜又は低屈折率膜
が、Ｚｒ，Ｔｉ， Ｈｆ， Ｓｎ， Ｔａ， Ｂｉ，
Ｚｎ， Ｉｎのうち少なくとも１種とＢ， Ｓｉ， Ｐ
のうち少なくとも１種を含む酸化物を主成分とする非晶
質膜であることを特徴とする熱線反射ガラスを提供する
ものである。
第１図は、本発明の実施例を示す断面図である。■は透
明基体であり、ガラス、プラスチックなどからなる。基
体は、通常のソーダライムガラスの他、ブルー、ブロン
ズ、グレー、グリーンなどに着色し、透過率を落とした
ガラスでも良い。特に自動車用などの場合、干渉膜自体
では太陽エネルギー反射率Ｒ，はガラス自体よりかなり
向上するが、まだ太陽エネルギー透過率ＴＥの絶対値は
高めなので、これらの吸収ガラスを用いるとトータルと
しての遮熱性能は向上するので好ましい。あるいは透明
膜２〜７以外に吸収性の膜を基体上、或いは眉間に形成
して全体の透過率を調整しても良い。２，４．６は高屈
折率膜であり、Ｚｒ．Ｔｉ，Ｈｆ，Ｓｎ，Ｔａ．Ｂｉ，
Ｚｎ，？ｎのうち少なくとも１種とＢ， ＳＬ， Ｐの
うち少なくとも１種を含む酸化物を主成分とする高屈折
率膜からなるのが好ましいが、高屈折率膜が空気側最外
層でない場合はこの他にＺｒＯ＊． Ｙ２ｋｇで安定化
したＺｒＯａ，ＴｉＯａ，Ｈｆ０２．ＳｎＯｉ，ＴａＪ
ｓ．Ｂｉ２０ｓ，ＺｎＯ， ＩｎＪｘなどからなってい
ても良く、特に限定されない。高屈折率膜としてＢ，
Ｓｉ， Ｐのうち少なくとも１種を含む酸化物を用いる
場合、あまりＢ，Ｓｉ，Ｐの含有量が多いと屈折率が低
くなりすぎるため好ましくない。通常ＺｒＯ■．Ｔｉ０
２．ＨｆＯ■．ＳｎＯ． Ｔａｇ’ｓ， Ｂｉａｓｓ，
ＺｎＯ， ＩｎｉＯａなどの１種以上からなる酸化物
を主成分とする膜において、ＺｒＯｉ＋Ｔｉｌ■， Ｈ
ｆＯｘ， Ｓｎｏ２，Ｔａｘｅｓ， Ｂｉｔ’ｓ， Ｚ
ｎＯ， ＩｎｉＯａがら選ばれた酸化物の合計１００部
に対して、Ｂ２０．，ＳｉＯａから選ばれた酸化物の合
計がモル比で０から１００部，好ましくは０〜７０部、
特に０〜５０部の範囲にあるのが良い。しかしながら、
膜の屈折率はＢａｓｓ． ＳｉＯ■の含有量が増加する
につれ低下するので、光学的に必要な屈折率を基にして
硼素や珪素の含有量を選択すれば良い。高屈折？膜が空
気側最外層であり、かつ単板で使用する場合は、膜の非
晶質化に伴う耐擦傷性向上のために少な《ともＢ， Ｓ
ｉ， Ｐのうち１種以上の合計は、ＺｒＯ■，ＴｉＯ■
，Ｈｆ０２，ＳｎＯ。，ＴａｔＯｓ．ＢｉＪｓ．ＺｎＯ
，ＩｎｚＬなどの酸化物を主成分とする膜において，
ＺｒＬ．丁ｉＬ，ＨｆＯｚ，ＳｎＯｘ．Ｔａ２０ｇ，
ＢｉｚＯｓ．ＺｎＯ，Ｉｎｚ０３から選ばれた酸化物の
合計１００部に対して、Ｂ２０ｘ，ＳｉＯ■から選ばれ
た酸化物の合計がモル比で５〜１００部、好ましくは１
０〜７０部、特に２０〜５０部含まれているのが良い。
明基体であり、ガラス、プラスチックなどからなる。基
体は、通常のソーダライムガラスの他、ブルー、ブロン
ズ、グレー、グリーンなどに着色し、透過率を落とした
ガラスでも良い。特に自動車用などの場合、干渉膜自体
では太陽エネルギー反射率Ｒ，はガラス自体よりかなり
向上するが、まだ太陽エネルギー透過率ＴＥの絶対値は
高めなので、これらの吸収ガラスを用いるとトータルと
しての遮熱性能は向上するので好ましい。あるいは透明
膜２〜７以外に吸収性の膜を基体上、或いは眉間に形成
して全体の透過率を調整しても良い。２，４．６は高屈
折率膜であり、Ｚｒ．Ｔｉ，Ｈｆ，Ｓｎ，Ｔａ．Ｂｉ，
Ｚｎ，？ｎのうち少なくとも１種とＢ， ＳＬ， Ｐの
うち少なくとも１種を含む酸化物を主成分とする高屈折
率膜からなるのが好ましいが、高屈折率膜が空気側最外
層でない場合はこの他にＺｒＯ＊． Ｙ２ｋｇで安定化
したＺｒＯａ，ＴｉＯａ，Ｈｆ０２．ＳｎＯｉ，ＴａＪ
ｓ．Ｂｉ２０ｓ，ＺｎＯ， ＩｎＪｘなどからなってい
ても良く、特に限定されない。高屈折率膜としてＢ，
Ｓｉ， Ｐのうち少なくとも１種を含む酸化物を用いる
場合、あまりＢ，Ｓｉ，Ｐの含有量が多いと屈折率が低
くなりすぎるため好ましくない。通常ＺｒＯ■．Ｔｉ０
２．ＨｆＯ■．ＳｎＯ． Ｔａｇ’ｓ， Ｂｉａｓｓ，
ＺｎＯ， ＩｎｉＯａなどの１種以上からなる酸化物
を主成分とする膜において、ＺｒＯｉ＋Ｔｉｌ■， Ｈ
ｆＯｘ， Ｓｎｏ２，Ｔａｘｅｓ， Ｂｉｔ’ｓ， Ｚ
ｎＯ， ＩｎｉＯａがら選ばれた酸化物の合計１００部
に対して、Ｂ２０．，ＳｉＯａから選ばれた酸化物の合
計がモル比で０から１００部，好ましくは０〜７０部、
特に０〜５０部の範囲にあるのが良い。しかしながら、
膜の屈折率はＢａｓｓ． ＳｉＯ■の含有量が増加する
につれ低下するので、光学的に必要な屈折率を基にして
硼素や珪素の含有量を選択すれば良い。高屈折？膜が空
気側最外層であり、かつ単板で使用する場合は、膜の非
晶質化に伴う耐擦傷性向上のために少な《ともＢ， Ｓ
ｉ， Ｐのうち１種以上の合計は、ＺｒＯ■，ＴｉＯ■
，Ｈｆ０２，ＳｎＯ。，ＴａｔＯｓ．ＢｉＪｓ．ＺｎＯ
，ＩｎｚＬなどの酸化物を主成分とする膜において，
ＺｒＬ．丁ｉＬ，ＨｆＯｚ，ＳｎＯｘ．Ｔａ２０ｇ，
ＢｉｚＯｓ．ＺｎＯ，Ｉｎｚ０３から選ばれた酸化物の
合計１００部に対して、Ｂ２０ｘ，ＳｉＯ■から選ばれ
た酸化物の合計がモル比で５〜１００部、好ましくは１
０〜７０部、特に２０〜５０部含まれているのが良い。
またベース酸化膜としては、上述のＺｒＯ■， ＴｉＯ
ａ等のうち、Ｚｒ０２が成膜速度、擦傷性の点で特に好
ましく、非晶質化のための添加物としてはＳｉ， Ｂ、
特にＳｉが耐久性の点で良い。高屈折率膜の屈折率とし
ては１．７以上、特に２．０以上がよい。
ａ等のうち、Ｚｒ０２が成膜速度、擦傷性の点で特に好
ましく、非晶質化のための添加物としてはＳｉ， Ｂ、
特にＳｉが耐久性の点で良い。高屈折率膜の屈折率とし
ては１．７以上、特に２．０以上がよい。
第１図の３．５．７は、低屈折率膜であり、特に材料は
限定されないが、特に空気側最外層７についでは、Ｚｒ
， Ｔｉ， Ｈｆ， Ｓｎ， Ｔａ， Ｚｎ， Ｉｎ，
８ｉのうち少なくとも１種とＢ， Ｓｉ． Ｐのうち
少なくとも１種を含む低屈折率酸化膜よりなるのが好ま
し？。Ｂ，Ｓｉ，Ｐの含有量はあまり少なすぎると低屈
折率酸化膜にならず、また、逆に多すぎると反応性直流
スパッタリングが困難になり、且つ膜自体の化学的耐久
性も低下するため好ましくない。このような理由で、通
常ＺｒＯ■． Ｙ＊Ｏｓで安定化したＺｒＯｚ．ＴｉＯ
＊，ＨｆＯｚ，ＳｎＯａ．ＴａＪｉ．ＢＬＯｓ．ＺｎＯ
，ＩｎａＯｓ等のうち１種以上の酸化物を含む膜におい
て、ＺｒＯｚ．ＴｉＯｚ．ＨｆＯｚ，ＳｎＯ．ＴａｚＯ
ｓ．ＢｉｇＯｉ，ＺｎＯ，ＩｎａＯｘから選ばれた酸化
物の合計１００部に対して、Ｂ２０ｉ，ＳｉＯｚから選
ばれた酸化物の合計がモル比で１００部から１９００部
、好ましくは２００部から１９００部、特に３００部か
ら１９００部が良い。このような組成であれば、Ｂ，
Ｓｉ， Ｐ等のガラス構成元素が十分含まれているため
に膜は非晶質になっているため耐擦傷性に優れ、空気側
最外層としても十分な耐久性を有している。耐久性が特
に要求される用途には、ＺｒＯ２，ＴｉＯ．ＴａｔＯｓ
のうちから少なくとも１種とＳｉｆｔの組み合せが良く
，この中でもＺｒＯ■とＳｉＯａの組み合せが特に好ま
しい。低屈折率膜の屈折率としては１．７以下、特に１
．６以下が好ましい。
限定されないが、特に空気側最外層７についでは、Ｚｒ
， Ｔｉ， Ｈｆ， Ｓｎ， Ｔａ， Ｚｎ， Ｉｎ，
８ｉのうち少なくとも１種とＢ， Ｓｉ． Ｐのうち
少なくとも１種を含む低屈折率酸化膜よりなるのが好ま
し？。Ｂ，Ｓｉ，Ｐの含有量はあまり少なすぎると低屈
折率酸化膜にならず、また、逆に多すぎると反応性直流
スパッタリングが困難になり、且つ膜自体の化学的耐久
性も低下するため好ましくない。このような理由で、通
常ＺｒＯ■． Ｙ＊Ｏｓで安定化したＺｒＯｚ．ＴｉＯ
＊，ＨｆＯｚ，ＳｎＯａ．ＴａＪｉ．ＢＬＯｓ．ＺｎＯ
，ＩｎａＯｓ等のうち１種以上の酸化物を含む膜におい
て、ＺｒＯｚ．ＴｉＯｚ．ＨｆＯｚ，ＳｎＯ．ＴａｚＯ
ｓ．ＢｉｇＯｉ，ＺｎＯ，ＩｎａＯｘから選ばれた酸化
物の合計１００部に対して、Ｂ２０ｉ，ＳｉＯｚから選
ばれた酸化物の合計がモル比で１００部から１９００部
、好ましくは２００部から１９００部、特に３００部か
ら１９００部が良い。このような組成であれば、Ｂ，
Ｓｉ， Ｐ等のガラス構成元素が十分含まれているため
に膜は非晶質になっているため耐擦傷性に優れ、空気側
最外層としても十分な耐久性を有している。耐久性が特
に要求される用途には、ＺｒＯ２，ＴｉＯ．ＴａｔＯｓ
のうちから少なくとも１種とＳｉｆｔの組み合せが良く
，この中でもＺｒＯ■とＳｉＯａの組み合せが特に好ま
しい。低屈折率膜の屈折率としては１．７以下、特に１
．６以下が好ましい。
表１は、具体的に本発明の高屈折率膜や低屈折率膜に最
適な各種非晶質酸化物膜の性質を示したものである。そ
れぞれ表に挙げた組成のターゲットを用いて、反応性ス
パッタリングにより製膜したものである。結晶性は、薄
膜Ｘ線回折により観測した。又、耐擦傷性は、砂消しゴ
ムによる擦り試験の結果で、Ｏは傷が殆どつかなかった
もの、Ｘは容易に傷が生じたものである。
適な各種非晶質酸化物膜の性質を示したものである。そ
れぞれ表に挙げた組成のターゲットを用いて、反応性ス
パッタリングにより製膜したものである。結晶性は、薄
膜Ｘ線回折により観測した。又、耐擦傷性は、砂消しゴ
ムによる擦り試験の結果で、Ｏは傷が殆どつかなかった
もの、Ｘは容易に傷が生じたものである。
耐摩耗性は、テーバー試験（摩耗輪ＣＳ−１０Ｆ、加重
５００ｇ、１０００回転）の結果、ヘイズ４％以内のも
のを○、ヘイズ４％超のものを×とした。耐酸性はＯ．
ＩＮ Ｉ｛２ＳＯ４中に２４０時間浸漬した結果、Ｔ
Ｖ （可視光透過率）．Ｒ，（可視光反射率）の浸漬前
に対する変化率が１％以内のものを○、１〜４％のもの
を△、膜が溶解して消滅してしまったものを×とした。
５００ｇ、１０００回転）の結果、ヘイズ４％以内のも
のを○、ヘイズ４％超のものを×とした。耐酸性はＯ．
ＩＮ Ｉ｛２ＳＯ４中に２４０時間浸漬した結果、Ｔ
Ｖ （可視光透過率）．Ｒ，（可視光反射率）の浸漬前
に対する変化率が１％以内のものを○、１〜４％のもの
を△、膜が溶解して消滅してしまったものを×とした。
耐アルカリ性はＯ．ｌＮ ＮａＯＨ中に２４０時間浸漬
した結果、ＴＶ，Ｒｖの浸漬前に対する変化率が１％以
内のものをＯ、膜が溶解してしまったものを×とした。
した結果、ＴＶ，Ｒｖの浸漬前に対する変化率が１％以
内のものをＯ、膜が溶解してしまったものを×とした。
煮沸テストは、１気圧下、１００℃の水に２時間浸漬し
た後、ＴＶ，Ｒｖの浸漬前に対する変化率が１％以内で
あるとき○、１％超のとき×とした。
た後、ＴＶ，Ｒｖの浸漬前に対する変化率が１％以内で
あるとき○、１％超のとき×とした。
ＺｒＢ＊Ｏｙ膜に関しては、表１から明らかなように、
膜中のＢが少ないと結晶性の膜ができ、Ｂが多いと非晶
質の膜ができる傾向があることがわかる。そして、結晶
性の膜は耐擦傷性及び耐摩耗性が劣るのに対して非晶質
の膜は優れていることがわかる。これは非晶質の膜は、
表面が平滑である為であると考えられる。従って、Ｚｒ
ＢｘＯ，膜（膜中のＺｒに対するＢの原子比Ｘが０．１
（１＜ｘ）の膜は耐擦傷性、耐摩耗性に優れている。Ｂ
２０３膜は吸湿性で空気中の水分を吸収して溶けてしま
うので、ＺｒＢ＊Ｏｙ膜においてＸ≦３程度が好ましい
。
膜中のＢが少ないと結晶性の膜ができ、Ｂが多いと非晶
質の膜ができる傾向があることがわかる。そして、結晶
性の膜は耐擦傷性及び耐摩耗性が劣るのに対して非晶質
の膜は優れていることがわかる。これは非晶質の膜は、
表面が平滑である為であると考えられる。従って、Ｚｒ
ＢｘＯ，膜（膜中のＺｒに対するＢの原子比Ｘが０．１
（１＜ｘ）の膜は耐擦傷性、耐摩耗性に優れている。Ｂ
２０３膜は吸湿性で空気中の水分を吸収して溶けてしま
うので、ＺｒＢ＊Ｏｙ膜においてＸ≦３程度が好ましい
。
ＺｒＢｘＯｙ膜中のＺｒに対するＯ（酸素）の原子比は
特に限定されないが、多すぎると膜構造が咀になりボソ
ボソの膜になってしまうこと、又、？まり少ないと膜が
金属的になり透過率が低下したり膜の耐擦傷性が低下す
る傾向があることなどの理由によりＺｒＯ■とＢ２０３
の複合系となる量程度であることが好ましい。即ち、複
合酸化物をＺｒＯｚ＋ Ｘ ＢＯ＋． ＊と表すと、Ｂ
がＺｒに対して原子比でＸ含まれる時に、３’＝２＋１
．５ｘ程度であることが好ましい。
特に限定されないが、多すぎると膜構造が咀になりボソ
ボソの膜になってしまうこと、又、？まり少ないと膜が
金属的になり透過率が低下したり膜の耐擦傷性が低下す
る傾向があることなどの理由によりＺｒＯ■とＢ２０３
の複合系となる量程度であることが好ましい。即ち、複
合酸化物をＺｒＯｚ＋ Ｘ ＢＯ＋． ＊と表すと、Ｂ
がＺｒに対して原子比でＸ含まれる時に、３’＝２＋１
．５ｘ程度であることが好ましい。
又、表１より、ＺｒＢｘＯｙ膜中のＢの量が増えるにつ
れ、膜の屈折率が低下する傾向があることがわかる。膜
の組成と屈折率ｎとの関係を第２図（ａ）に示す。膜中
のＢを増やすことにより、屈折率ｎは２．０ぐらいから
１．５程度まで低下する。
れ、膜の屈折率が低下する傾向があることがわかる。膜
の組成と屈折率ｎとの関係を第２図（ａ）に示す。膜中
のＢを増やすことにより、屈折率ｎは２．０ぐらいから
１．５程度まで低下する。
従って０．１０＜ｘ≦３．２＜ｙ≦６．５のｌｒＢｘ％
膜は良好な耐擦傷性及び耐摩耗性を有し、かつ、Ｂの量
によって自由に屈折率を選択できる本発明の目的に好適
な非晶質酸化物膜である。
膜は良好な耐擦傷性及び耐摩耗性を有し、かつ、Ｂの量
によって自由に屈折率を選択できる本発明の目的に好適
な非晶質酸化物膜である。
さらに、表１に示したように、膜中のＢの含有量が増え
るにつれ、耐酸性、耐アルカリ性が劣化する傾向がある
。Ｘ≧２．３で耐酸性が悪く？り、ｘ＞４で耐アルカリ
性の低下及び煮沸テストで劣化を示すようになる。従っ
て、空気中で露出した状態で使用される用途には、Ｚｒ
ＢｘＯｙ（ｘ＜２．３）の非晶質酸化物膜が好ましい。
るにつれ、耐酸性、耐アルカリ性が劣化する傾向がある
。Ｘ≧２．３で耐酸性が悪く？り、ｘ＞４で耐アルカリ
性の低下及び煮沸テストで劣化を示すようになる。従っ
て、空気中で露出した状態で使用される用途には、Ｚｒ
ＢｘＯｙ（ｘ＜２．３）の非晶質酸化物膜が好ましい。
以上のように、ＺｒＯｚ膜に酸化硼素Ｂ２０３を加えた
ことにより、膜が非晶質化し、表面が平滑化し、これが
耐摩耗性及び耐擦傷性の向上に寄与していると考えられ
る。又、Ｂの量で屈折率の調節が可能となり、さらに、
ＺｒＯ■膜と比べて、内部応力が小さいため、接する膜
との密着性の点で有利である。これは特に厚い膜を形成
する場合に有利である。
ことにより、膜が非晶質化し、表面が平滑化し、これが
耐摩耗性及び耐擦傷性の向上に寄与していると考えられ
る。又、Ｂの量で屈折率の調節が可能となり、さらに、
ＺｒＯ■膜と比べて、内部応力が小さいため、接する膜
との密着性の点で有利である。これは特に厚い膜を形成
する場合に有利である。
次に、ＺｒＳｉｚＯｙ膜に関しては、やはりアモルファ
スであり、耐擦傷性，耐摩耗性の高い膜が得られる。
スであり、耐擦傷性，耐摩耗性の高い膜が得られる。
屈折率については、Ｚｒ０２ （ ｎ ＝ ２． １５
）とＳｉｎ２（ ｎ ＝ １．４６）の間でその組成割
合によって上下する（第２図（ｂ）参照）。さらに詳し
くは、ＺｒＳｉｚＯｙ膜において、０．０５≦Ｚ（膜中
のＺｒに対するＳｉの原子比）≦１９であることが好ま
しい。
）とＳｉｎ２（ ｎ ＝ １．４６）の間でその組成割
合によって上下する（第２図（ｂ）参照）。さらに詳し
くは、ＺｒＳｉｚＯｙ膜において、０．０５≦Ｚ（膜中
のＺｒに対するＳｉの原子比）≦１９であることが好ま
しい。
ｚ＜０．０５だと、膜が非晶質化せず、十分な物理的耐
久性が得られない。又、ｚ＞１９だと、耐アルカリ性が
悪くなる。又、ｙ （ＺｒＳｉ．０う膜中のＺｒに対す
るＯの原子比）は、ＺｒＢｘＯｙ膜について述べたのと
同様の理由により、ＳｉがＺｒに対して原子比でＺ含ま
れる時に、ｙ＝２＋２ｚ程度であることが好ましい。
久性が得られない。又、ｚ＞１９だと、耐アルカリ性が
悪くなる。又、ｙ （ＺｒＳｉ．０う膜中のＺｒに対す
るＯの原子比）は、ＺｒＢｘＯｙ膜について述べたのと
同様の理由により、ＳｉがＺｒに対して原子比でＺ含ま
れる時に、ｙ＝２＋２ｚ程度であることが好ましい。
又、ＺｒＢ．ＳｉｉＯｙ膜も本発明の目的に合った膜で
ある。かかる膜中のＺｒに対するＢの原子比ｘ．Ｓｉの
原子比Ｚ、０の原子比ｙは、ｘ＋ｚ≧０．０５であれば
膜が非晶質化し、耐擦傷性及び耐摩耗性の高い膜となる
ので好ましい。
ある。かかる膜中のＺｒに対するＢの原子比ｘ．Ｓｉの
原子比Ｚ、０の原子比ｙは、ｘ＋ｚ≧０．０５であれば
膜が非晶質化し、耐擦傷性及び耐摩耗性の高い膜となる
ので好ましい。
又、Ｘ＋Ｚ≦１９であれば耐アルカリ性も良好であるの
で、ＺｒＢｘＳｉｚＯ，膜においては、０． ０５≦Ｘ
＋Ｚ≦１９であるのが好ましい。ただし、上述のように
、Ｂ２０３は吸湿性で空気中の水分を吸収して溶けてし
まうため、ＺｒＢ．ＳｉエＯｙ膜中にあまり多く含有さ
れない方がよい。具体的には、膜中において、ＺｒＯ２
＜ ２５ｍｏ１％かっＳｉＣｈ＜ ２５ｍｏｌ％で残り
が８２０３となる程Ｂ２０３が含まれていると？学的耐
久性が不十分となる。即ち、ＺｒＢＪｘｉＯｙ膜中のＺ
ｒ：Ｂ：Ｓｉ（原子比）を１：ｘ：ｚとすると、１／
（１ ＋ｘ＋ｚ） ＜０．２５かツｚ／（１＋ ｘ ＋
ｚ ） ＜０．２５、即ち、ｘ＋ｚ−３＞Ｏかつｘ−
３ｚ＋１＞Ｏの組成は化学的耐久性が好ましくない。ｙ
は、ＺｒＢｍＯｙの場合に述べたのと同様の理由により
この膜をＺｒＯａ ＋ ８２０ｍ ＋ ＳＬＯ■の複合
系と考えて、ｙは２＋１．５ ｘ＋ ２ｚ程度であるこ
とが好ましい。よってほぼ２＜ｙ＜４０程度であること
が好ましい。ＢやＳＬの含有量が多い程ＺｒＢ．Ｓｉｚ
Ｏ，膜の屈折率は低下する。
で、ＺｒＢｘＳｉｚＯ，膜においては、０． ０５≦Ｘ
＋Ｚ≦１９であるのが好ましい。ただし、上述のように
、Ｂ２０３は吸湿性で空気中の水分を吸収して溶けてし
まうため、ＺｒＢ．ＳｉエＯｙ膜中にあまり多く含有さ
れない方がよい。具体的には、膜中において、ＺｒＯ２
＜ ２５ｍｏ１％かっＳｉＣｈ＜ ２５ｍｏｌ％で残り
が８２０３となる程Ｂ２０３が含まれていると？学的耐
久性が不十分となる。即ち、ＺｒＢＪｘｉＯｙ膜中のＺ
ｒ：Ｂ：Ｓｉ（原子比）を１：ｘ：ｚとすると、１／
（１ ＋ｘ＋ｚ） ＜０．２５かツｚ／（１＋ ｘ ＋
ｚ ） ＜０．２５、即ち、ｘ＋ｚ−３＞Ｏかつｘ−
３ｚ＋１＞Ｏの組成は化学的耐久性が好ましくない。ｙ
は、ＺｒＢｍＯｙの場合に述べたのと同様の理由により
この膜をＺｒＯａ ＋ ８２０ｍ ＋ ＳＬＯ■の複合
系と考えて、ｙは２＋１．５ ｘ＋ ２ｚ程度であるこ
とが好ましい。よってほぼ２＜ｙ＜４０程度であること
が好ましい。ＢやＳＬの含有量が多い程ＺｒＢ．Ｓｉｚ
Ｏ，膜の屈折率は低下する。
ＺｒＢ＋ＳｉｚＯ，膜の例を第２図（Ｃ）に示す。
Ｚｒ以外の金属、即ち、Ｔｉ， Ｈｆ， Ｓｎ， Ｔａ
， Ｉｎ と、ＢとＳｉのうち少なくとも１種とを含
む酸化物も同様に非晶質となり、十分な耐擦傷性、及び
耐摩耗性が得られる。ＴｉＳｉｚＯ，膜を表１のサンプ
ル１５に一例として示した。
， Ｉｎ と、ＢとＳｉのうち少なくとも１種とを含
む酸化物も同様に非晶質となり、十分な耐擦傷性、及び
耐摩耗性が得られる。ＴｉＳｉｚＯ，膜を表１のサンプ
ル１５に一例として示した。
以上、ＺｒＢｘＯｙ系、ＺｒＳｉｔＯ，系、ＺｒＢｘＳ
ｌｘＯｙ系等の膜において、上述の高屈折率膜、低屈折
率膜として必要な屈折率を有するように、ＢやＳｔの添
加量を調節すれば良い。
ｌｘＯｙ系等の膜において、上述の高屈折率膜、低屈折
率膜として必要な屈折率を有するように、ＢやＳｔの添
加量を調節すれば良い。
高屈折率及び低屈折率膜の膜厚は、光学的膜厚で設計波
長λ。に対してえ。／４にするのが好ましい。空気側最
外層は、反射を下げるためにλｏ／８にするのが好まし
い。
長λ。に対してえ。／４にするのが好ましい。空気側最
外層は、反射を下げるためにλｏ／８にするのが好まし
い。
最外層は、高屈折率膜、低屈折率膜どちらでも良いが、
反射率をより下げたい場合は、低屈折率膜のほうが好ま
しい。従って基体にソーダライムガラスなどのように低
屈折率膜を用いる場合は、基体側に高屈折率膜を形成し
、その上に低／高／低／高の順に膜を積層し、最後は低
屈折率膜を形成する。
反射率をより下げたい場合は、低屈折率膜のほうが好ま
しい。従って基体にソーダライムガラスなどのように低
屈折率膜を用いる場合は、基体側に高屈折率膜を形成し
、その上に低／高／低／高の順に膜を積層し、最後は低
屈折率膜を形成する。
設計波長λ。は９００〜１１００ｎｍの範囲が好ましい
。これより短くなると反射の立ち上がりが可視域の方に
入ってくるため熱線反射性能は向上するが、反射に色か
つ《。一方これより長くなると熱線反射性能が悪化する
。
。これより短くなると反射の立ち上がりが可視域の方に
入ってくるため熱線反射性能は向上するが、反射に色か
つ《。一方これより長くなると熱線反射性能が悪化する
。
膜の暦数は特に限定されないが、あまり少ないと近赤外
線領域での反射が小さくなること、またこの立ち上がり
がなだらかになり、熱線反射性能が低下し、又、可視域
での反射率のリップルが大きくなるので好まし《ない。
線領域での反射が小さくなること、またこの立ち上がり
がなだらかになり、熱線反射性能が低下し、又、可視域
での反射率のリップルが大きくなるので好まし《ない。
通常は４層以上、好ましくは６層以上が良い。暦数の多
い方は特に限定はなく、必要な性能から決めれば良いが
、あまり多くなると生産性が低下すること、使用する膜
材料にもよるが、応力による膜の耐久性なども低下し、
これらを考慮すると自動車用などでは１４層もあれば十
分である。
い方は特に限定はなく、必要な性能から決めれば良いが
、あまり多くなると生産性が低下すること、使用する膜
材料にもよるが、応力による膜の耐久性なども低下し、
これらを考慮すると自動車用などでは１４層もあれば十
分である。
成膜方法としては、特に限定はない。蒸着法、イオンブ
レーティング法、スパッタリング法いずれでも良いが、
大面積の用途には低屈折率用のターゲットとしてＺｒと
Ｓｉの合金ターゲットを用いた直流反応性スパッタリン
グが好ましい。蒸着法、イオンブレーティングの場合は
、蒸発源として混合酸化物をベレット化したものなどを
用いれば良い。
レーティング法、スパッタリング法いずれでも良いが、
大面積の用途には低屈折率用のターゲットとしてＺｒと
Ｓｉの合金ターゲットを用いた直流反応性スパッタリン
グが好ましい。蒸着法、イオンブレーティングの場合は
、蒸発源として混合酸化物をベレット化したものなどを
用いれば良い。
［作 用］
高屈折率膜と低屈折率膜の光学的な干渉を用いることで
可視光線には高透過で低反射、近赤外線には高い反射特
性を持つ熱線反射ガラスを可能にする。設計波長λ０を
適当に選択することでこの反射の立ち上がり波長を選べ
る。膜の層数は少ないとこの立ち上がりがなだらかにな
り、又、近赤外域の反射率自体も小さくなるので熱線反
射性能は低下する。層数を増加すると近赤外域の反射率
も高くなり反射の立ち上がりも急峻になり、又可視域の
反射のリップルも小さくなるので、見る角度により反射
に色がつくことなどが抑えられるので好ましい。
可視光線には高透過で低反射、近赤外線には高い反射特
性を持つ熱線反射ガラスを可能にする。設計波長λ０を
適当に選択することでこの反射の立ち上がり波長を選べ
る。膜の層数は少ないとこの立ち上がりがなだらかにな
り、又、近赤外域の反射率自体も小さくなるので熱線反
射性能は低下する。層数を増加すると近赤外域の反射率
も高くなり反射の立ち上がりも急峻になり、又可視域の
反射のリップルも小さくなるので、見る角度により反射
に色がつくことなどが抑えられるので好ましい。
空気側の最外層は、設計波長のえ。／８にすることで可
視域の反射を下げる作用があり、またリップルも小さく
するために形成される。この目的のために低屈折率層が
、最外層にくるようにした方が効果的である。
視域の反射を下げる作用があり、またリップルも小さく
するために形成される。この目的のために低屈折率層が
、最外層にくるようにした方が効果的である。
［実施例］
ブロンズ色の厚さ４ ｍｍｍのガラス基体を真空槽にセ
ットし、ｌ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒまで排気した。アル
ゴンと酸素の混合ガスを導入して２ Ｘ １０−３Ｔｏ
ｒｒに調節した後、ジルコニウムと硼素の合金ターゲッ
ト（原子比でＺｒ ７０％、８ ３０％）をスパッタリ
ングして高屈折率膜としてＺｒＢｘＯｙ膜（Ａ膜、屈折
率２．１）を１１９０人形成した。次にジルコニウムと
珪素の合金ターゲット（原子比でＺｒ １０％， Ｓｉ
９０％》をスパッタリングして低屈折率膜としてＺｒ
Ｓｉウ０，（Ｂ膜、屈折率１．５）を１６７０人形成し
た。更に同様にＡ膜を１１９０人、Ｂ膜を１６７０人、
Ａ膜を１１９０人、Ｂ膜を８３５人形成して６層の熱線
反射ガラスを作製した。
ットし、ｌ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒまで排気した。アル
ゴンと酸素の混合ガスを導入して２ Ｘ １０−３Ｔｏ
ｒｒに調節した後、ジルコニウムと硼素の合金ターゲッ
ト（原子比でＺｒ ７０％、８ ３０％）をスパッタリ
ングして高屈折率膜としてＺｒＢｘＯｙ膜（Ａ膜、屈折
率２．１）を１１９０人形成した。次にジルコニウムと
珪素の合金ターゲット（原子比でＺｒ １０％， Ｓｉ
９０％》をスパッタリングして低屈折率膜としてＺｒ
Ｓｉウ０，（Ｂ膜、屈折率１．５）を１６７０人形成し
た。更に同様にＡ膜を１１９０人、Ｂ膜を１６７０人、
Ａ膜を１１９０人、Ｂ膜を８３５人形成して６層の熱線
反射ガラスを作製した。
このようにして作った熱線反射ガラスの可視光線透過率
ＴＶ、太陽光線透過率ＴＥ、ガラス面可視光線反射率Ｒ
ＶＧ、コート面可視光線反射率Ｒｖｒ、ガラス面太陽
光線反射率ＲＥＧ、コート面可視光線反射率Ｒ ｔｖは
以下のようであった。
ＴＶ、太陽光線透過率ＴＥ、ガラス面可視光線反射率Ｒ
ＶＧ、コート面可視光線反射率Ｒｖｒ、ガラス面太陽
光線反射率ＲＥＧ、コート面可視光線反射率Ｒ ｔｖは
以下のようであった。
ＴＶ＝７４．６％， Ｔ， ＝５６．９％， Ｒｖ．＝
１０．７％．ＲＶＦ＝１１．９％， Ｒ．．＝１４．９
％， ＲＥＦ＝２６．０％。
１０．７％．ＲＶＦ＝１１．９％， Ｒ．．＝１４．９
％， ＲＥＦ＝２６．０％。
反射色調はＣＩＥ表示であらわすとガラス面でｘ ＝
０．２９８， ｙ ＝ ０．３２２ ． コート面で
ｘ ＝ ０．２９３，ｙ＝ ０．３１９であった。素板
のガラスのＴ，は約６９％、ＲＥは約６．６％であるの
で、熱線遮断、反射性能が大幅に向上したものが得られ
た。また特に問題となる反射色調についてもニュートラ
ルであった。
０．２９８， ｙ ＝ ０．３２２ ． コート面で
ｘ ＝ ０．２９３，ｙ＝ ０．３１９であった。素板
のガラスのＴ，は約６９％、ＲＥは約６．６％であるの
で、熱線遮断、反射性能が大幅に向上したものが得られ
た。また特に問題となる反射色調についてもニュートラ
ルであった。
［発明の効果］
干渉フィルター型多層膜を用いた熱線反射ガラスは、可
視域の透過率を下げることなく、近赤外域の反射を飛躍
的に高くできる。また層数と設計波長、各膜厚を適切に
選ぶことにより可視の反射を抑え、且つ反射の色調をニ
ュートラルにすることができる。
視域の透過率を下げることなく、近赤外域の反射を飛躍
的に高くできる。また層数と設計波長、各膜厚を適切に
選ぶことにより可視の反射を抑え、且つ反射の色調をニ
ュートラルにすることができる。
低屈折率膜として本発明のＺｒＯａ， Ｙ２０ｓで安定
化したＺｒＯｚ．ＴａｚＯｓ，Ｓｎ０２，Ｂｆｚ０３な
どの１種とＳｉ， Ｂ， Ｐなどの酸化物のＩ種からな
る複合酸化膜を用いることで機械的にも化学的にも耐久
性のある熱線反射ガラスが可能となる。
化したＺｒＯｚ．ＴａｚＯｓ，Ｓｎ０２，Ｂｆｚ０３な
どの１種とＳｉ， Ｂ， Ｐなどの酸化物のＩ種からな
る複合酸化膜を用いることで機械的にも化学的にも耐久
性のある熱線反射ガラスが可能となる。
高屈折率膜として低屈折率膜と同一元素を含む酸化膜を
用いることで各層間の密着力を高め、また膜の非晶質化
により耐擦傷性の優れたものが得られる。
用いることで各層間の密着力を高め、また膜の非晶質化
により耐擦傷性の優れたものが得られる。
干渉を利用することで、近紫外域の反射も同時に高くで
きるので自動車用などでは、車内の内装材料の紫外線劣
化、退色などを防げる。
きるので自動車用などでは、車内の内装材料の紫外線劣
化、退色などを防げる。
大面積ガラスのコーティングなどでは直流スパッタリン
グが適するが、このとき特にＳｉにＺｒ， Ｔａ， Ｔ
ｉなどを含む合金ターゲットを用いることでスパッタリ
ングの安定性、成膜速度向上も同時に達成できる。
グが適するが、このとき特にＳｉにＺｒ， Ｔａ， Ｔ
ｉなどを含む合金ターゲットを用いることでスパッタリ
ングの安定性、成膜速度向上も同時に達成できる。
第１図は本発明の熱線反射ガラスの一例の断面図である
。 第２図（ａ）はＺｒＢｘＯｙ膜中のＢの含有量と膜の屈
折率ｎとの関係を示した図である。第２図（ｂ）はＺｒ
Ｓｉ．０，膜中のＳＬの含有量とｎとの関係を、第２図
（Ｃ）はＺｒＢｏ． ｚｇｓｉｚＯｙ膜中のＳｉの含有
量とｎとの関係を示した図、第２図（ｄ）はＴｉＳｉエ
０，膜中のＳｉの含有量とｎとの関係図である。 １：透明基体 ２．４，６：高屈折率膜 ３，５，７：低屈折率膜 ７：空気側最外層 第 １ 図 Ｂ２０３ Ｅｒ医内服中の Ｃモル≠っ Ｚγ０１＋Ｂｘ０３ 第 ２ 図 （ａ） 第 ２ 図 Ｃｂ） ５４アじ＝ Ｓ．ｘＯ１ハ）（−？ のＳ：Ｏｘ ｚｒｃｈすＳ：（ｈ （七１しブ，） 第 ２ 図 （Ｃ） Ｓｉ Ｏ２ ＴｒＳ：２０け８東中の Ｃ七ルヅ・）丁’＋
（ｈ＋ｓｒ（ｈ 第２図（ｃｌ）
。 第２図（ａ）はＺｒＢｘＯｙ膜中のＢの含有量と膜の屈
折率ｎとの関係を示した図である。第２図（ｂ）はＺｒ
Ｓｉ．０，膜中のＳＬの含有量とｎとの関係を、第２図
（Ｃ）はＺｒＢｏ． ｚｇｓｉｚＯｙ膜中のＳｉの含有
量とｎとの関係を示した図、第２図（ｄ）はＴｉＳｉエ
０，膜中のＳｉの含有量とｎとの関係図である。 １：透明基体 ２．４，６：高屈折率膜 ３，５，７：低屈折率膜 ７：空気側最外層 第 １ 図 Ｂ２０３ Ｅｒ医内服中の Ｃモル≠っ Ｚγ０１＋Ｂｘ０３ 第 ２ 図 （ａ） 第 ２ 図 Ｃｂ） ５４アじ＝ Ｓ．ｘＯ１ハ）（−？ のＳ：Ｏｘ ｚｒｃｈすＳ：（ｈ （七１しブ，） 第 ２ 図 （Ｃ） Ｓｉ Ｏ２ ＴｒＳ：２０け８東中の Ｃ七ルヅ・）丁’＋
（ｈ＋ｓｒ（ｈ 第２図（ｃｌ）
Claims (2)
- （１）透明基体上に高屈折率膜と低屈折率膜を交互に多
層積層してなる干渉フィルター型の熱線反射ガラスであ
って、空気側最外層となっている高屈折率膜又は低屈折
率膜が、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｓｎ、Ｔａ、Ｂｉ、Ｚｎ、
Ｉｎのうち少なくとも１種とＢ、Ｓｉ、Ｐのうち少なく
とも１種を含む酸化物を主成分とする非晶質膜であるこ
とを特徴とする熱線反射ガラス。 - （２）透明基体上に高屈折率膜と低屈折率膜を交互に多
層積層してなる干渉フィルター型の熱線反射ガラスであ
って、空気側最外層が低屈折率膜であってかつ、Ｚｒ、
Ｔｉ、Ｈｆ、Ｓｎ、Ｔａ、Ｂｉ、Ｚｎ、Ｉｎのうち少な
くとも１種とＢ、Ｓｉ、Ｐのうち少なくとも１種を含む
酸化物を主成分とする非晶質膜であることを特徴とする
熱線反射ガラス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1224492A JP2576637B2 (ja) | 1989-03-07 | 1989-09-01 | 熱線反射ガラス |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5300989 | 1989-03-07 | ||
| JP1-53009 | 1989-03-07 | ||
| JP1224492A JP2576637B2 (ja) | 1989-03-07 | 1989-09-01 | 熱線反射ガラス |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03218821A true JPH03218821A (ja) | 1991-09-26 |
| JP2576637B2 JP2576637B2 (ja) | 1997-01-29 |
Family
ID=26393698
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1224492A Expired - Fee Related JP2576637B2 (ja) | 1989-03-07 | 1989-09-01 | 熱線反射ガラス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2576637B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0852266A4 (en) * | 1995-08-23 | 2000-09-27 | Asahi Glass Co Ltd | TARGET, METHOD FOR THE PRODUCTION AND PRODUCTION OF HIGHLY REACTIVE FILMS |
| JP2003522088A (ja) * | 1999-03-18 | 2003-07-22 | ピーピージー・インダストリーズ・オハイオ・インコーポレイテッド | 低曇り度コーティングの製法並びにそれにより製造したコーティング及び被覆された物品 |
| JP2007290360A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-11-08 | Toray Ind Inc | 樹脂シート |
| JP2010231172A (ja) * | 2009-03-04 | 2010-10-14 | Seiko Epson Corp | 光学物品およびその製造方法 |
| KR102130320B1 (ko) * | 2019-01-03 | 2020-07-08 | 청주대학교 산학협력단 | 비정질 산화물층을 구비한 다층박막 컬러 필터 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5761553A (en) * | 1980-09-25 | 1982-04-14 | Toray Industries | Laminated film |
| JPS61167546A (ja) * | 1985-12-25 | 1986-07-29 | 東レ株式会社 | 積層フイルム |
| JPH02289339A (ja) * | 1989-02-14 | 1990-11-29 | Asahi Glass Co Ltd | 赤外反射物品 |
| JPH03134157A (ja) * | 1989-10-17 | 1991-06-07 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 耐摩耗性の透明物品 |
-
1989
- 1989-09-01 JP JP1224492A patent/JP2576637B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5761553A (en) * | 1980-09-25 | 1982-04-14 | Toray Industries | Laminated film |
| JPS61167546A (ja) * | 1985-12-25 | 1986-07-29 | 東レ株式会社 | 積層フイルム |
| JPH02289339A (ja) * | 1989-02-14 | 1990-11-29 | Asahi Glass Co Ltd | 赤外反射物品 |
| JPH03134157A (ja) * | 1989-10-17 | 1991-06-07 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 耐摩耗性の透明物品 |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0852266A4 (en) * | 1995-08-23 | 2000-09-27 | Asahi Glass Co Ltd | TARGET, METHOD FOR THE PRODUCTION AND PRODUCTION OF HIGHLY REACTIVE FILMS |
| US6193856B1 (en) | 1995-08-23 | 2001-02-27 | Asahi Glass Company Ltd. | Target and process for its production, and method for forming a film having a highly refractive index |
| US6440278B1 (en) | 1995-08-23 | 2002-08-27 | Asahi Glass Company Ltd. | Target and process for its production, and method for forming a film having a high refractive index |
| US6743343B2 (en) | 1995-08-23 | 2004-06-01 | Asahi Glass Ceramics Co., Ltd. | Target and process for its production, and method of forming a film having a high refractive index |
| EP1452622A3 (en) * | 1995-08-23 | 2004-09-29 | Asahi Glass Ceramics Co., Ltd. | Target and process for its production, and method for forming a film having a high refractive index |
| JP2003522088A (ja) * | 1999-03-18 | 2003-07-22 | ピーピージー・インダストリーズ・オハイオ・インコーポレイテッド | 低曇り度コーティングの製法並びにそれにより製造したコーティング及び被覆された物品 |
| JP2010260050A (ja) * | 1999-03-18 | 2010-11-18 | Ppg Industries Ohio Inc | 低曇り度コーティングの製法並びにそれにより製造したコーティング及び被覆された物品 |
| JP2007290360A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-11-08 | Toray Ind Inc | 樹脂シート |
| JP2010231172A (ja) * | 2009-03-04 | 2010-10-14 | Seiko Epson Corp | 光学物品およびその製造方法 |
| KR102130320B1 (ko) * | 2019-01-03 | 2020-07-08 | 청주대학교 산학협력단 | 비정질 산화물층을 구비한 다층박막 컬러 필터 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2576637B2 (ja) | 1997-01-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5952084A (en) | Transparent substrate provided with a thin-film coating | |
| US5728456A (en) | Methods and apparatus for providing an absorbing, broad band, low brightness, antireflection coating | |
| US7632572B2 (en) | Double silver low-emissivity and solar control coatings | |
| KR900003979B1 (ko) | 높은 투과도 및 낮은 복사도의 제품 및 그 제조방법. | |
| US7534497B2 (en) | Temperable high shading performance coatings | |
| JP4836376B2 (ja) | スパッター被覆物品のための保護層 | |
| US7122252B2 (en) | High shading performance coatings | |
| JPH08336928A (ja) | 半透明の材料からなる平板ならびにその製造方法 | |
| JPH029731A (ja) | 灰色高透過性低放射性物品及びその製法 | |
| JPS5931147A (ja) | 可視光透過性熱線しやへい膜およびその製造方法 | |
| JP2000129464A (ja) | 薄膜積層体を備えた透明基板 | |
| WO1991002102A1 (fr) | Film base sur du dioxide de silicium et sa production | |
| JP6853486B2 (ja) | 日射遮蔽部材 | |
| JPH0522657B2 (ja) | ||
| JP7487198B2 (ja) | コーティングされたガラス板 | |
| EP0283923B1 (en) | Sputtered titanium oxynitride films | |
| JP4013329B2 (ja) | 積層体および窓用ガラス積層体 | |
| JP2720919B2 (ja) | ターゲット | |
| JP2022543004A (ja) | ヘッドアップディスプレイのための熱特性を有するスタックを備えている基材を含む材料 | |
| JPH03218821A (ja) | 熱線反射ガラス | |
| JPH03162943A (ja) | 反射防止膜付レンズ | |
| JP2906524B2 (ja) | 赤外反射物品 | |
| JPH03187955A (ja) | 選択透過物品及びその製造方法 | |
| JPH03218822A (ja) | 紫外線遮断ガラス | |
| JP2576662B2 (ja) | 熱線遮断ガラス |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081107 Year of fee payment: 12 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |