JPH03223316A - 光硬化性樹脂組成物 - Google Patents
光硬化性樹脂組成物Info
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- JPH03223316A JPH03223316A JP1796890A JP1796890A JPH03223316A JP H03223316 A JPH03223316 A JP H03223316A JP 1796890 A JP1796890 A JP 1796890A JP 1796890 A JP1796890 A JP 1796890A JP H03223316 A JPH03223316 A JP H03223316A
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- Japan
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- acid anhydride
- formula
- resin
- weight
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- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は共役ジエン重合体もしくは共役ジエン共重合体
を変性してなる特定の変性樹脂に、特定の化合物と反応
させたアミン変性樹脂を配合してなる光硬化性樹脂組成
物に関するものである。特に光硬化させるプリント配線
板の製造に適した光硬化性樹脂組成物に関するものであ
る。
を変性してなる特定の変性樹脂に、特定の化合物と反応
させたアミン変性樹脂を配合してなる光硬化性樹脂組成
物に関するものである。特に光硬化させるプリント配線
板の製造に適した光硬化性樹脂組成物に関するものであ
る。
[従来の技術]
従来、プリント配線板の製造方法には種々の方法が開発
されてきたが、特に光硬化性の感光性樹脂をエツチング
レジストまたはメツキレジストとして用いる方法が、近
年主流となってきた。
されてきたが、特に光硬化性の感光性樹脂をエツチング
レジストまたはメツキレジストとして用いる方法が、近
年主流となってきた。
前者は、基板上に光硬化性樹脂組成物の層を何らかの方
法で作成し、次いでネガ型の回路パターンマスクを密着
させ、活性光線を照射し、必要部を硬化させ、未硬化部
分を現像により除去し、次いでエツチングすることによ
り所定の回路パターンを得る方法である。
法で作成し、次いでネガ型の回路パターンマスクを密着
させ、活性光線を照射し、必要部を硬化させ、未硬化部
分を現像により除去し、次いでエツチングすることによ
り所定の回路パターンを得る方法である。
後者は、マスクを逆パターンとし、必要部の樹脂膜を現
像で除去し、この部分を耐エツチング性の半田メツキ等
を行ない、次いで不必要部の樹脂膜を剥離した後、エツ
チングして所定の回路パターンを得るものである。
像で除去し、この部分を耐エツチング性の半田メツキ等
を行ない、次いで不必要部の樹脂膜を剥離した後、エツ
チングして所定の回路パターンを得るものである。
ここで回路パターンマスクとは、写真におけるネガに相
当し、透明基板上に適宜のパターンを形成する光遮断層
が形成されている。基板はガラス性のものもあるが、ポ
リエステル等のプラスチックフィルムが主流である。遮
断層の材料はCrやAg等の金属が使用されることが多
い。
当し、透明基板上に適宜のパターンを形成する光遮断層
が形成されている。基板はガラス性のものもあるが、ポ
リエステル等のプラスチックフィルムが主流である。遮
断層の材料はCrやAg等の金属が使用されることが多
い。
この光硬化性樹脂組成物の一般的な構成は、■バインダ
ーポリマー、■光重合性の七ツマ−またはオリゴマー(
架橋剤)、■光重合開始剤、■その他(安定剤、着色剤
、難燃化剤)等からなる。
ーポリマー、■光重合性の七ツマ−またはオリゴマー(
架橋剤)、■光重合開始剤、■その他(安定剤、着色剤
、難燃化剤)等からなる。
バインダーポリマーの役割はフィルム形状を持たせるこ
とで、アクリル系のポリマーが主に使われ、アクリル酸
、アクリル酸エステル、メタクリル酸、メタクリル酸エ
ステルおよびスチレン等を共重合させた分子量致方のも
のである。
とで、アクリル系のポリマーが主に使われ、アクリル酸
、アクリル酸エステル、メタクリル酸、メタクリル酸エ
ステルおよびスチレン等を共重合させた分子量致方のも
のである。
光重合性モノマー/オリゴマーにもアクリロイル基やメ
タクリロイル基を持ったものが使われる。
タクリロイル基を持ったものが使われる。
この組成物を用い必要部のみ露光して、不溶化させるの
が原理である。
が原理である。
C発明が解決しようとする課題]
特定のマレイン化変性油を用いた光硬化性樹脂組成物を
エツチングレジスト等の、いわゆるフォトレジストとし
て用いる方法として、例えば特公昭52−21528号
公報に記載されているが、ここに記載の組成物はマレイ
ン化変性油と一分子中に不飽和結合を2個以上有するエ
チレン性不飽和化合物との混合物であるため、得られた
光照射前の塗膜は、指触試験において常温タック性を有
していることが本発明者等の試験により判明した。
エツチングレジスト等の、いわゆるフォトレジストとし
て用いる方法として、例えば特公昭52−21528号
公報に記載されているが、ここに記載の組成物はマレイ
ン化変性油と一分子中に不飽和結合を2個以上有するエ
チレン性不飽和化合物との混合物であるため、得られた
光照射前の塗膜は、指触試験において常温タック性を有
していることが本発明者等の試験により判明した。
すなわち、通常プリント配線板の製造に当たり、形成し
た感光塗膜に回路パターンマスクを真空密着し、UV露
光するが、このとき感光性樹脂塗膜に常温タック性があ
ると、露光後の回路パターンマスクを剥離する際、塗膜
が一部マスクに付着する。これを防ぐために露光後、冷
却装置や冷却槽を置けばよいが、この結果、設備費が多
くかかる、工程が一つ増え、煩雑になる等の欠点が生じ
るため好ましくない。回路パターンマスクに剥離剤等を
塗布することはファインパターン形成に悪影響を与える
。そこで、本発明者等は特願昭83−189596号に
おいて、共役ジエン重合体または共役ジエン共重合体に
a,β−不飽和ジカルボン酸無水物を付加することによ
り軟化点(JIS−に−2531−80の環球式軟化点
測定法による)が70〜200℃の範囲にある付加生成
物を得て、次いでアルコール性水酸基を持つa,β−不
飽和モノジカルボン酸エステルで一部または全部を開環
し、共役二重結合を導入することにより製造された変性
樹脂により形成された感光性樹脂塗膜は、指触試験にお
ける常温タック性は殆ど無いことを報告した。
た感光塗膜に回路パターンマスクを真空密着し、UV露
光するが、このとき感光性樹脂塗膜に常温タック性があ
ると、露光後の回路パターンマスクを剥離する際、塗膜
が一部マスクに付着する。これを防ぐために露光後、冷
却装置や冷却槽を置けばよいが、この結果、設備費が多
くかかる、工程が一つ増え、煩雑になる等の欠点が生じ
るため好ましくない。回路パターンマスクに剥離剤等を
塗布することはファインパターン形成に悪影響を与える
。そこで、本発明者等は特願昭83−189596号に
おいて、共役ジエン重合体または共役ジエン共重合体に
a,β−不飽和ジカルボン酸無水物を付加することによ
り軟化点(JIS−に−2531−80の環球式軟化点
測定法による)が70〜200℃の範囲にある付加生成
物を得て、次いでアルコール性水酸基を持つa,β−不
飽和モノジカルボン酸エステルで一部または全部を開環
し、共役二重結合を導入することにより製造された変性
樹脂により形成された感光性樹脂塗膜は、指触試験にお
ける常温タック性は殆ど無いことを報告した。
ここで、実機において感光性塗膜が回路パターンマスク
に付着する度合は、温度、圧力、時間等の各条件に依存
する。いずれも温度が高くなるほど、圧力が高いほどま
た時間が長くなるほど付着し易くなる。例えば、実機で
は連続使用であるために光源の熱放射により雰囲気自体
の温度が上昇し易い、またマスクを真空密着させるため
に圧力がかかりより付着し昌い等の現象が生じるのであ
る。
に付着する度合は、温度、圧力、時間等の各条件に依存
する。いずれも温度が高くなるほど、圧力が高いほどま
た時間が長くなるほど付着し易くなる。例えば、実機で
は連続使用であるために光源の熱放射により雰囲気自体
の温度が上昇し易い、またマスクを真空密着させるため
に圧力がかかりより付着し昌い等の現象が生じるのであ
る。
そこで、本発明者等は、より実機に近い条件でもって感
光性塗膜の付着試験を行なったところ、上記特願昭H−
11i9596号の技術では必ずしも満足できないこと
が判明した。
光性塗膜の付着試験を行なったところ、上記特願昭H−
11i9596号の技術では必ずしも満足できないこと
が判明した。
すなわち、新たな試験においては露光後パターンマスク
を剥離する際、明瞭に剥離音を発する等のマスクに対し
完全なタックフリー性を持たないことが明らかになった
。このタックフリー性が十分でないと、工業生産におい
て同一のパターンマスクを多数回使用する場合、マスク
に樹脂が付着することが生じ、これにより高価なパター
ンマスクが使用不能になったり、極端な場合には形成し
ようとするレジストパターンに欠落や短絡が生じるとい
うことになる。
を剥離する際、明瞭に剥離音を発する等のマスクに対し
完全なタックフリー性を持たないことが明らかになった
。このタックフリー性が十分でないと、工業生産におい
て同一のパターンマスクを多数回使用する場合、マスク
に樹脂が付着することが生じ、これにより高価なパター
ンマスクが使用不能になったり、極端な場合には形成し
ようとするレジストパターンに欠落や短絡が生じるとい
うことになる。
また、形成された感光性塗膜には、ある程度の硬度が必
要である。これは、プリント配線板製造工程において、
各工程間はコンベアラインで結ばれている。すなわち感
光性樹脂膜を形成された基板は露光工程へとコンベアラ
インで運ばれるが、このとき塗膜が柔らかいと移送時に
傷がつく可能性がある。上述の変性樹脂により形成され
た感光性樹脂塗膜は、この硬度が十分ではない。
要である。これは、プリント配線板製造工程において、
各工程間はコンベアラインで結ばれている。すなわち感
光性樹脂膜を形成された基板は露光工程へとコンベアラ
インで運ばれるが、このとき塗膜が柔らかいと移送時に
傷がつく可能性がある。上述の変性樹脂により形成され
た感光性樹脂塗膜は、この硬度が十分ではない。
すなわち、本発明は実質的にタックフリーで、かつ十分
なる硬度を有する感光性塗膜が得られる組成物を提供す
ることを目的とするものである。
なる硬度を有する感光性塗膜が得られる組成物を提供す
ることを目的とするものである。
[課題を解決するための手段]
本発明は、(a)数平均分子量が500〜5000、ビ
ニル基含有量が50モル%以上の共役ジエン重合体また
は共役ジエン共重合体から誘導される、軟化点(JIS
−に−2531−60の環球式軟化点測定法による)が
70〜200℃の範囲にあるa,β−不飽和ジカルボン
酸無水物付加物に、 一般式、 (式中、R,およびR2は水素原子またはメチル、R3
はへテロ原子を含んでもよい炭素数2以上の炭化水素残
基) で表わされるアルコール性水酸基を持つa,β−不飽和
モノカルボン酸エステルを反応させることにより該付加
物の酸無水基を少なくとも10モル%開環させることに
より得られた変性樹脂100重量部、 (b)数平均分子量が500〜5000、ビニル基含有
量が50モル%以上の共役ジエン重合体または共役ジエ
ン共重合体から誘導される、軟化点(JIS−に−25
31−60の環球式軟化点測定法による)が70〜20
0℃の範囲にあるa,β−不飽和ジカルボン酸無水物付
加物の酸無水基の一部または全部を下記の一般式(■)
で表される化合物と反応されることにより得られる樹脂
1−100重量部、6 (式中、R4、R5およびR6は、互いに同一または相
異なる炭素数1〜2oの有機残基を表す)、および (C)光重合開始剤0.1〜20重量部、からなること
を特徴とする光硬化性樹脂組成物に関する。
ニル基含有量が50モル%以上の共役ジエン重合体また
は共役ジエン共重合体から誘導される、軟化点(JIS
−に−2531−60の環球式軟化点測定法による)が
70〜200℃の範囲にあるa,β−不飽和ジカルボン
酸無水物付加物に、 一般式、 (式中、R,およびR2は水素原子またはメチル、R3
はへテロ原子を含んでもよい炭素数2以上の炭化水素残
基) で表わされるアルコール性水酸基を持つa,β−不飽和
モノカルボン酸エステルを反応させることにより該付加
物の酸無水基を少なくとも10モル%開環させることに
より得られた変性樹脂100重量部、 (b)数平均分子量が500〜5000、ビニル基含有
量が50モル%以上の共役ジエン重合体または共役ジエ
ン共重合体から誘導される、軟化点(JIS−に−25
31−60の環球式軟化点測定法による)が70〜20
0℃の範囲にあるa,β−不飽和ジカルボン酸無水物付
加物の酸無水基の一部または全部を下記の一般式(■)
で表される化合物と反応されることにより得られる樹脂
1−100重量部、6 (式中、R4、R5およびR6は、互いに同一または相
異なる炭素数1〜2oの有機残基を表す)、および (C)光重合開始剤0.1〜20重量部、からなること
を特徴とする光硬化性樹脂組成物に関する。
以下に本発明をさらに説明する。
本発明においては、上記の変性樹脂(a)および(b)
とも、共役ジエン重合体または共役ジエン共重合体にa
,β−不飽和ジカルボン酸無水物を付加することにより
、軟化点(JIS−に−2531−60)環球式軟化点
測定法による)が70〜200”Cの範囲にある付加生
成物を用いる。
とも、共役ジエン重合体または共役ジエン共重合体にa
,β−不飽和ジカルボン酸無水物を付加することにより
、軟化点(JIS−に−2531−60)環球式軟化点
測定法による)が70〜200”Cの範囲にある付加生
成物を用いる。
この内、変性樹脂(a)は、上記付加物にアルコール性
水酸基を有するa,β−不飽和モノヵルボン酸エステル
により酸無水基の一部または全部を開環することにより
製造される。
水酸基を有するa,β−不飽和モノヵルボン酸エステル
により酸無水基の一部または全部を開環することにより
製造される。
また、変性樹脂(b)は、上記付加物に1級アミノ基と
3級アミノ基を有する化合物を反応させることにより
製造される。
3級アミノ基を有する化合物を反応させることにより
製造される。
ここで用いられる共役ジエン重合体または共役ジエン共
重合体とは、ブタジェンおよびイソプレン等の炭素数4
〜5の共役ジオレフィンの低重合体、またはこれらの共
役ジオレフィンの一種または二種以上とエチレン性不飽
和結合を有するこれらの共役ジオレフィン以外の七ツマ
−1特にイソブチレン、ジイソブチレン、スチレン、α
−メチルスチレン、ビニルトルエン、ジビニルトルエン
のような脂肪族または芳香族モノマーとの低重合度共重
合体である。またこれらの二種以上の混合物も利用する
ことができる。
重合体とは、ブタジェンおよびイソプレン等の炭素数4
〜5の共役ジオレフィンの低重合体、またはこれらの共
役ジオレフィンの一種または二種以上とエチレン性不飽
和結合を有するこれらの共役ジオレフィン以外の七ツマ
−1特にイソブチレン、ジイソブチレン、スチレン、α
−メチルスチレン、ビニルトルエン、ジビニルトルエン
のような脂肪族または芳香族モノマーとの低重合度共重
合体である。またこれらの二種以上の混合物も利用する
ことができる。
上記共役ジエン重合体または共役ジエン共重合体はビニ
ル基含有量が50モル%以上で数平均分子量500〜5
000の範囲のものが用いられる。この時、ビニル基含
有量が50モル%未満のものは架橋密度が小さく好まし
くない。また、数平均分子量が500未満のものは、得
られる感光性塗膜の強度が低く、一方散平均分子量が5
000を越えるものは平滑な塗膜が得られないので何れ
も好ましくない。
ル基含有量が50モル%以上で数平均分子量500〜5
000の範囲のものが用いられる。この時、ビニル基含
有量が50モル%未満のものは架橋密度が小さく好まし
くない。また、数平均分子量が500未満のものは、得
られる感光性塗膜の強度が低く、一方散平均分子量が5
000を越えるものは平滑な塗膜が得られないので何れ
も好ましくない。
ここで、上記変性樹脂(a)の製造は以下のようにして
行なうことが出来る。
行なうことが出来る。
共役ジエン重合体または共役ジエン共重合体の製造は従
来公知の方法で行われる。すなわちアルカリ金属または
有機アルカリ金属化合物を触媒として炭素数4〜5の共
役ジオレフィン単独、またはこれらのジオレフィン混合
物、あるいは共役ジオレフィンに対して好ましくは50
モル%以下の量の芳香族ビニルモノマー、例えばスチレ
ン、α−メチルスチレン、ビニルトルエンまたはジビニ
ルベンゼンとを0℃から 100℃の温度でアニオン重
合させる方法が代表的な製造方法である。この場合、分
子量を制御し、ゲル分率等の少ない、淡色の低重合物を
得るためには、ベンジルナトリウムのような有機アルカ
リ金属化合物を触媒とし、アルキルアリール基を有する
化合物、例えばトルエンを連鎖移動剤とする連鎖移動重
合法(米国特許節3.789.090号)またはテトラ
ヒドロフラン溶媒中でナフタリンのような多環芳香族化
合物を活性剤とし、ナトリウムのようなアルカリ金属を
触媒とするリビング重合法(特公昭42−17485号
公報、同43−27432号公報)、あるいはトルエン
、キシレンのような芳香族炭化水素を溶媒とし、ナトリ
ウムのような金属の分散体を触媒とし、ジオキサンのよ
うなエーテル類を添加して分子量を制御する重合法(特
公昭32−7448号公報、同33−1245号公報、
同3l−1011i8号公報)等が好適な製造方法であ
る。また周期律表中第■族金属、例えばコバルトまたは
ニッケルのアセチルアセトナート化合物およびアルキル
アルミニウムハロゲニドを触媒とする配位アニオン重合
によって製造される低重合体(特公昭45−507号公
報、同4B−30300号公報)も用いることができる
。
来公知の方法で行われる。すなわちアルカリ金属または
有機アルカリ金属化合物を触媒として炭素数4〜5の共
役ジオレフィン単独、またはこれらのジオレフィン混合
物、あるいは共役ジオレフィンに対して好ましくは50
モル%以下の量の芳香族ビニルモノマー、例えばスチレ
ン、α−メチルスチレン、ビニルトルエンまたはジビニ
ルベンゼンとを0℃から 100℃の温度でアニオン重
合させる方法が代表的な製造方法である。この場合、分
子量を制御し、ゲル分率等の少ない、淡色の低重合物を
得るためには、ベンジルナトリウムのような有機アルカ
リ金属化合物を触媒とし、アルキルアリール基を有する
化合物、例えばトルエンを連鎖移動剤とする連鎖移動重
合法(米国特許節3.789.090号)またはテトラ
ヒドロフラン溶媒中でナフタリンのような多環芳香族化
合物を活性剤とし、ナトリウムのようなアルカリ金属を
触媒とするリビング重合法(特公昭42−17485号
公報、同43−27432号公報)、あるいはトルエン
、キシレンのような芳香族炭化水素を溶媒とし、ナトリ
ウムのような金属の分散体を触媒とし、ジオキサンのよ
うなエーテル類を添加して分子量を制御する重合法(特
公昭32−7448号公報、同33−1245号公報、
同3l−1011i8号公報)等が好適な製造方法であ
る。また周期律表中第■族金属、例えばコバルトまたは
ニッケルのアセチルアセトナート化合物およびアルキル
アルミニウムハロゲニドを触媒とする配位アニオン重合
によって製造される低重合体(特公昭45−507号公
報、同4B−30300号公報)も用いることができる
。
次に、これら共役ジエン重合体または共役ジエン共重合
体にa,β−不飽和ジカルボン酸無水物を付加させるこ
とにより酸無水基の付加物を製造する。
体にa,β−不飽和ジカルボン酸無水物を付加させるこ
とにより酸無水基の付加物を製造する。
本発明に言うa,β−不飽和ジカルボン酸無水物として
は無水マレイン酸、無水シトラコン酸、クロル無水マレ
イン酸等が挙げられる。
は無水マレイン酸、無水シトラコン酸、クロル無水マレ
イン酸等が挙げられる。
通常、この付加反応は、これら単独、もしくはこれら両
者を溶解する不活性溶媒中で、反応温度100〜250
℃で行なわれる。この際、ゲル化防止剤として、ハイド
ロキノン、カテコール類、 p−フェニレンジアミン誘
導体等が0.1〜0.3重量部添加される。
者を溶解する不活性溶媒中で、反応温度100〜250
℃で行なわれる。この際、ゲル化防止剤として、ハイド
ロキノン、カテコール類、 p−フェニレンジアミン誘
導体等が0.1〜0.3重量部添加される。
本発明においては、得られる酸無水物の付加物の軟化点
(前記環球式軟化点の測定方法による)が70〜200
℃の範囲となるようa,β−不飽和ジカルボン酸無水物
を付加することが肝要である。
(前記環球式軟化点の測定方法による)が70〜200
℃の範囲となるようa,β−不飽和ジカルボン酸無水物
を付加することが肝要である。
軟化点が70℃未満だと得られる塗膜にタックが生じ、
200℃を越えると平滑な塗膜が得られず、好ましくな
い。この軟化点は主に原料である共役ジエン重合体また
は共役ジエン共重合体の不飽和結合の含有量、分子量お
よびa,β−不飽和ジカルボン酸無水物の付加量等に依
存する。例えば数平均分子量1000の液状ブタジェン
重合体を用いた場合は、全酸価として400mgK O
H/ g以上の値が必要である。
200℃を越えると平滑な塗膜が得られず、好ましくな
い。この軟化点は主に原料である共役ジエン重合体また
は共役ジエン共重合体の不飽和結合の含有量、分子量お
よびa,β−不飽和ジカルボン酸無水物の付加量等に依
存する。例えば数平均分子量1000の液状ブタジェン
重合体を用いた場合は、全酸価として400mgK O
H/ g以上の値が必要である。
次に、本発明では上記のようにして得られた酸無水物の
付加物に、前記(1)式で表されるアルコール性水酸基
を有するa,β−不飽和モノカルボン酸エステルを反応
させ酸無水基の少なくとも一部を開環させた前記(a)
に記載の変性樹脂を製造する。
付加物に、前記(1)式で表されるアルコール性水酸基
を有するa,β−不飽和モノカルボン酸エステルを反応
させ酸無水基の少なくとも一部を開環させた前記(a)
に記載の変性樹脂を製造する。
前記式(I)におけるR3基の炭素数は、好ましくは2
〜20であり、含んでも良い好ましいヘテロ原子は窒素
および酸素である。
〜20であり、含んでも良い好ましいヘテロ原子は窒素
および酸素である。
具体的な前記(T)式で表されるアルコール性水酸基を
有するa,β−不飽和モノカルボン酸エステルは具体的
には、例えば2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−
ヒドロキシエチルメタクリレート、 2−ヒドロキシプ
ロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリ
レート、N−メチロールアクリルアミド、 2−ヒドロ
キシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、2−ヒド
ロキシ−3−フェノキシプロピルメタクリレート等があ
り、これらは単独、または混合して用いることができる
。
有するa,β−不飽和モノカルボン酸エステルは具体的
には、例えば2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−
ヒドロキシエチルメタクリレート、 2−ヒドロキシプ
ロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリ
レート、N−メチロールアクリルアミド、 2−ヒドロ
キシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、2−ヒド
ロキシ−3−フェノキシプロピルメタクリレート等があ
り、これらは単独、または混合して用いることができる
。
これらによる酸無水基の開環反応は通常塩基触媒の存在
下で、100℃以下の比較的低温で行なわれる。ここに
おいて、開環反応は必ずしも酸無水基の全部を行なう必
要がなく、例えば50%開環し、残りの酸無水基は不飽
和基を持たないアルコールや水で開環したものでよい。
下で、100℃以下の比較的低温で行なわれる。ここに
おいて、開環反応は必ずしも酸無水基の全部を行なう必
要がなく、例えば50%開環し、残りの酸無水基は不飽
和基を持たないアルコールや水で開環したものでよい。
また−級アミン含有化合物でイミド化したものも挙げら
れる。もちろん全ての酸無水基を開環させてもよい。な
お、この反応の際、これらに対し反応性を持たなく、か
つ両者を溶解する溶媒を用いることが好ましい。
れる。もちろん全ての酸無水基を開環させてもよい。な
お、この反応の際、これらに対し反応性を持たなく、か
つ両者を溶解する溶媒を用いることが好ましい。
この例としてトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類
、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケ
トン類、酢酸エチル等のエステル類、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチ
ルエーテル等の水酸基を有しないエーテル類、およびジ
アセトンアルコール等の三級アルコール類等が挙げられ
る。
、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケ
トン類、酢酸エチル等のエステル類、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチ
ルエーテル等の水酸基を有しないエーテル類、およびジ
アセトンアルコール等の三級アルコール類等が挙げられ
る。
何れにしろアルコール性水酸基を有するa,β−不飽和
モノカルボン酸エステルにより開環させる割合は、酸無
水基の10モル%以上、好ましくは30モル%以上であ
ることが光硬化性の点から適当である。10モル%未満
では、光硬化性が不十分となるので好ましくない。
モノカルボン酸エステルにより開環させる割合は、酸無
水基の10モル%以上、好ましくは30モル%以上であ
ることが光硬化性の点から適当である。10モル%未満
では、光硬化性が不十分となるので好ましくない。
かくすることにより前記(a)の変性樹脂が製造される
。
。
アミン変性樹脂(b)の製造は以下のようにして行なわ
れる。
れる。
すなわち、前記の共役ジエン重合体または共役ジエン共
重合体から誘導される、軟化点(JIS−に−2531
−80の環球式軟化点測定法による)が70〜200℃
であるa,β−不飽和ジカルボン酸無水物付加物に、該
酸無水基に対し5〜100モル%相当の一般式(II)
で表される 1級アミノ基と 3級アミノ基を有する化
合物を反応させる。
重合体から誘導される、軟化点(JIS−に−2531
−80の環球式軟化点測定法による)が70〜200℃
であるa,β−不飽和ジカルボン酸無水物付加物に、該
酸無水基に対し5〜100モル%相当の一般式(II)
で表される 1級アミノ基と 3級アミノ基を有する化
合物を反応させる。
このとき、該カルボン酸無水物付加物の軟化点が70℃
未満だと、得られる感光性樹脂組成物により形成された
塗膜にタックを生じ、200℃を越えると塗膜の平滑性
が失われるのでいずれも好ましくない。
未満だと、得られる感光性樹脂組成物により形成された
塗膜にタックを生じ、200℃を越えると塗膜の平滑性
が失われるのでいずれも好ましくない。
6
(式中、R4、R5およびReは、互いに同一または相
異なる炭素数1〜20の有機残基を表す) R4はメタン、エタン、プロパン、ブタン等の炭素数1
〜20の炭化水素から2個の水素が引き抜かれた2価の
有機残基、好ましくは炭化水素残基である。また、R5
またはR8はメチル、エチル、プロピル、ブチル等の炭
素数1〜20の有機残基、好ましくは炭化水素残基であ
る。
異なる炭素数1〜20の有機残基を表す) R4はメタン、エタン、プロパン、ブタン等の炭素数1
〜20の炭化水素から2個の水素が引き抜かれた2価の
有機残基、好ましくは炭化水素残基である。また、R5
またはR8はメチル、エチル、プロピル、ブチル等の炭
素数1〜20の有機残基、好ましくは炭化水素残基であ
る。
一般式(n)で表される 1級アミノ基と 3級アミノ
基を有する化合物の例として、N、N−ジメチルアミノ
エチルアミン、N、N−ジエチルアミノエチルアミン、
N、N−ジメチルアミノプロピルアミン、N、N−ジエ
チルアミノプロビルアミン、N、N−ジブチルアミノプ
ロピルアミン等である。
基を有する化合物の例として、N、N−ジメチルアミノ
エチルアミン、N、N−ジエチルアミノエチルアミン、
N、N−ジメチルアミノプロピルアミン、N、N−ジエ
チルアミノプロビルアミン、N、N−ジブチルアミノプ
ロピルアミン等である。
上記(n)式の化合物を反応させる反応温度は、50〜
300℃、好ましくは100〜200℃で行なわれ、反
応を促進するために生成する水を反応系外に留去する方
法も採用できる。この反応は以下の様に進行する。
300℃、好ましくは100〜200℃で行なわれ、反
応を促進するために生成する水を反応系外に留去する方
法も採用できる。この反応は以下の様に進行する。
(式中、R4、R5、Reは上記と同じ、式中の各化合
物のモル数は特定されない) この反応においては、上記置換基のいずれかが形成され
る。
物のモル数は特定されない) この反応においては、上記置換基のいずれかが形成され
る。
通常、該反応は、反応に不活性であって両者を溶解する
溶媒を用いて行なわれる。この溶媒の例としてトルエン
、キシレン等の芳香族炭化水素類、メチルエチルケトン
、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル等
のエステル類、ジエチレングリコールジメチルエーテル
、トリエチレングリコールジメチルエーテル等の水酸基
を有しないエーテル類、およびジアセトンアルコール等
の三級アルコール類等が挙げられる。
溶媒を用いて行なわれる。この溶媒の例としてトルエン
、キシレン等の芳香族炭化水素類、メチルエチルケトン
、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル等
のエステル類、ジエチレングリコールジメチルエーテル
、トリエチレングリコールジメチルエーテル等の水酸基
を有しないエーテル類、およびジアセトンアルコール等
の三級アルコール類等が挙げられる。
該反応は、原料である酸無水物付加物の酸無水基の一部
または全部について行なわれる。残った酸無水基につい
ては、そのままで用いられても良いし、アルコール性水
酸基を持つ化合物や水で開環されてもよい。アルコール
性水酸基を有する化合物は具体的には、例えばプロピル
アルコール、ブチルアルコール、ヘプタツール、メチル
セロソルブ、ブチルセロソルブ等の飽和化合物と 2−
ヒドロキシエチルアクリレート、 2−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート、 2−ヒドロキシプロピルアクリレ
ート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート等の不飽
和化合物があり、これらは単独、または混合して用いる
ことができる。
または全部について行なわれる。残った酸無水基につい
ては、そのままで用いられても良いし、アルコール性水
酸基を持つ化合物や水で開環されてもよい。アルコール
性水酸基を有する化合物は具体的には、例えばプロピル
アルコール、ブチルアルコール、ヘプタツール、メチル
セロソルブ、ブチルセロソルブ等の飽和化合物と 2−
ヒドロキシエチルアクリレート、 2−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート、 2−ヒドロキシプロピルアクリレ
ート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート等の不飽
和化合物があり、これらは単独、または混合して用いる
ことができる。
これらによる酸無水基の開環反応は通常塩基触媒の存在
下で、100℃以下の比較的低温で行なわれる。なお、
この反応の際、これらに対し反応性を持たなく、かつ両
者を溶解する溶媒を用いることが好ましい。この例とし
てトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢
酸エチル等のエステル類、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル
等の水酸基を有しないエーテル類およびジアセトンアル
コール等の三級アルコール類等が挙げられる。
下で、100℃以下の比較的低温で行なわれる。なお、
この反応の際、これらに対し反応性を持たなく、かつ両
者を溶解する溶媒を用いることが好ましい。この例とし
てトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢
酸エチル等のエステル類、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル
等の水酸基を有しないエーテル類およびジアセトンアル
コール等の三級アルコール類等が挙げられる。
このようにして得られた変性樹脂(a) 100重量
部に、アミン変性樹脂(b)を1〜100重量部を添加
することにより、形成された感光性塗膜は実質的なタッ
クフリーを実現すると共に、鉛筆硬度を改善する。アミ
ン変性樹脂(b)の添加量が1重量部未満では塗膜のタ
ックは改善できず、100重量部を越える量では光硬化
性が低下するのでいずれも好ましくない。なお、より完
全なタックフリーを得るためには、アミン変性樹脂(b
)の添加量は5〜1(10重量部が好ましい。
部に、アミン変性樹脂(b)を1〜100重量部を添加
することにより、形成された感光性塗膜は実質的なタッ
クフリーを実現すると共に、鉛筆硬度を改善する。アミ
ン変性樹脂(b)の添加量が1重量部未満では塗膜のタ
ックは改善できず、100重量部を越える量では光硬化
性が低下するのでいずれも好ましくない。なお、より完
全なタックフリーを得るためには、アミン変性樹脂(b
)の添加量は5〜1(10重量部が好ましい。
この塩基性基を有するアミン変性樹脂(b)の添加効果
について、以下のように説明される。
について、以下のように説明される。
すなわち、樹脂(b)を添加することにより、組成物中
に樹脂(a)または樹脂(b)のコハク酸モノエステル
のカルボキシル基と、樹脂(b)中の3級アミノ基が存
在することで、下記のごとき樹脂止ま た は 成物により形成された塗膜の硬度は増加し、タックは無
くなるものである。
に樹脂(a)または樹脂(b)のコハク酸モノエステル
のカルボキシル基と、樹脂(b)中の3級アミノ基が存
在することで、下記のごとき樹脂止ま た は 成物により形成された塗膜の硬度は増加し、タックは無
くなるものである。
本発明で更に加える前記(e)の光重合開始剤とは、従
来公知の通常の光重合開始剤でよく、ベンゾイン、ベン
ゾインメチルエーテル、ベンゾインメチルエーテル、ベ
ンゾインイソブチルエーテル、ベンジル、ミヒラーケト
ン、2.4−ジエチルチオキサントン等に加え、通常イ
ルガキュアー 184、イルガキュアー6511イルガ
キユアー 907(チバガイギー社)、フロキュア−1
173(メルク社)等の商品名で市販される市販品でも
よい。これらは単独または混合して使用することが出来
る。これらの使用量は変性樹脂(a) 100重量部
に対し0.1〜20重量部であり、0.1重量部より少
なくなると光硬化性が低下するので好ましくなく、20
重量部より多くなると得られた感光性塗膜の強度が劣化
するので好ましくない。
来公知の通常の光重合開始剤でよく、ベンゾイン、ベン
ゾインメチルエーテル、ベンゾインメチルエーテル、ベ
ンゾインイソブチルエーテル、ベンジル、ミヒラーケト
ン、2.4−ジエチルチオキサントン等に加え、通常イ
ルガキュアー 184、イルガキュアー6511イルガ
キユアー 907(チバガイギー社)、フロキュア−1
173(メルク社)等の商品名で市販される市販品でも
よい。これらは単独または混合して使用することが出来
る。これらの使用量は変性樹脂(a) 100重量部
に対し0.1〜20重量部であり、0.1重量部より少
なくなると光硬化性が低下するので好ましくなく、20
重量部より多くなると得られた感光性塗膜の強度が劣化
するので好ましくない。
この塗膜にタックを生じさせない範囲で樹脂組成物に任
意の第4成分を加えることは許される。
意の第4成分を加えることは許される。
この第4成分としてトリメチロールプロパントリアクリ
レートやペンタエリスリトールトリアクリレート等の光
重合性モノマー、アミノアクリレート等が挙げられる。
レートやペンタエリスリトールトリアクリレート等の光
重合性モノマー、アミノアクリレート等が挙げられる。
本発明において、変性樹脂(a) アミン変性樹脂(
b)および光重合開始剤<c>を配合した光硬化性樹脂
組成物は、従来公知の適当な溶剤に溶解させたいわゆる
フェスとしてロールコータ、アプリケータ等の塗布用塗
料として用いられても良いし、水溶化または水分散して
電着塗装液としても用いられる。
b)および光重合開始剤<c>を配合した光硬化性樹脂
組成物は、従来公知の適当な溶剤に溶解させたいわゆる
フェスとしてロールコータ、アプリケータ等の塗布用塗
料として用いられても良いし、水溶化または水分散して
電着塗装液としても用いられる。
後者の電着塗装の場合、水溶化または水分散化するため
には変性樹脂(a)の有する酸量のうち少なくとも10
%以上を通常の撰基化合物で中和する方法が好適に使用
できる。中和が少なければ水溶性または水分散性が悪く
、水系塗料として好ましくない。中和に用いられる塩基
としては、アンモニア、ジエチルアミン、トリエチルア
ミン、モノエタノールアミン、ジェタノールアミン、N
、N−ジメチルエタノールアミン、N、N−ジメチルベ
ンジルアミン等のアミン類および水酸化カリウム等が用
いられる。また、水溶性あるいは水分散性を改良したり
、塗膜のフロー性を調整する目的で、必要に応じ各種の
有機溶剤を使用することができる。このような有機溶剤
の例としては、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ、
エチレングリコールジメチルエーテル、ジアセトンアル
コール、4−メトキシ−4−メチルペンタノン−2、メ
チルエチルケトン等の水溶性有機溶剤、キシレン、トル
エン、メチルイソブチルケトン、2〜エチルヘキサノー
ル等の非水系有機溶剤がある。
には変性樹脂(a)の有する酸量のうち少なくとも10
%以上を通常の撰基化合物で中和する方法が好適に使用
できる。中和が少なければ水溶性または水分散性が悪く
、水系塗料として好ましくない。中和に用いられる塩基
としては、アンモニア、ジエチルアミン、トリエチルア
ミン、モノエタノールアミン、ジェタノールアミン、N
、N−ジメチルエタノールアミン、N、N−ジメチルベ
ンジルアミン等のアミン類および水酸化カリウム等が用
いられる。また、水溶性あるいは水分散性を改良したり
、塗膜のフロー性を調整する目的で、必要に応じ各種の
有機溶剤を使用することができる。このような有機溶剤
の例としては、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ、
エチレングリコールジメチルエーテル、ジアセトンアル
コール、4−メトキシ−4−メチルペンタノン−2、メ
チルエチルケトン等の水溶性有機溶剤、キシレン、トル
エン、メチルイソブチルケトン、2〜エチルヘキサノー
ル等の非水系有機溶剤がある。
また上記のように中和してなる電着塗料組成物は水系で
あるので、安全上および製造上の利点は明らかである。
あるので、安全上および製造上の利点は明らかである。
本発明の光硬化性樹脂組成物には、熱重合安定剤として
従来公知のハイドロキノン、2.8−ジ−ターシャルブ
チルパラクレゾール、バラベンゾキノン、ハイドロキノ
ンモノメチルエーテル、フェノチアジン、α−ナフチル
アミン等を適宜に配合し使用できる。
従来公知のハイドロキノン、2.8−ジ−ターシャルブ
チルパラクレゾール、バラベンゾキノン、ハイドロキノ
ンモノメチルエーテル、フェノチアジン、α−ナフチル
アミン等を適宜に配合し使用できる。
本発明の感光性組成物は任意の基板に塗布することが出
来るが、以下に銅張り積層板に塗布する場合を例に取り
説明する。
来るが、以下に銅張り積層板に塗布する場合を例に取り
説明する。
銅張り積層板への塗布方法は通常のデイツプコート、ロ
ールコート、カーテンコートのほか常法に従って水系塗
料とし電着法を用いて塗布してもよい。なお、乾燥は通
常120℃以下、好ましくは100℃以下で5〜20分
行なう。この時温度が120℃以上になると塗膜の熱硬
化が生じるため好ましくない。
ールコート、カーテンコートのほか常法に従って水系塗
料とし電着法を用いて塗布してもよい。なお、乾燥は通
常120℃以下、好ましくは100℃以下で5〜20分
行なう。この時温度が120℃以上になると塗膜の熱硬
化が生じるため好ましくない。
こうして得られた塗膜は常温でタックがなく平滑な塗面
を持つために回路パターン製造用の感光性塗膜に最適で
ある。
を持つために回路パターン製造用の感光性塗膜に最適で
ある。
この銅張り積層板に塗布した感光性塗膜に、ネガ型マス
クを介して紫外線等の活性線を露光し、マスクの露光部
の塗膜を硬化せしめる。
クを介して紫外線等の活性線を露光し、マスクの露光部
の塗膜を硬化せしめる。
硬化のための活性線は、光重合開始剤の吸収波長によっ
ても異なるが通常は、キセノンランプ、メタルハライド
ランプ、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧
水銀灯等の光源から発せられる紫外線または電子線加速
器から取り出される電子線、α線、β線、γ線等の活性
エネルギー線である。光源光度、照射時間等は適宜に決
定することが出来る。活性線を照射する雰囲気としては
大気中でもまた窒素等の不活性雰囲気下でも良い。
ても異なるが通常は、キセノンランプ、メタルハライド
ランプ、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧
水銀灯等の光源から発せられる紫外線または電子線加速
器から取り出される電子線、α線、β線、γ線等の活性
エネルギー線である。光源光度、照射時間等は適宜に決
定することが出来る。活性線を照射する雰囲気としては
大気中でもまた窒素等の不活性雰囲気下でも良い。
光硬化後、適当な現像液で現像することにより、未露光
部が溶出して回路パターン部の導電性被膜が露出し、こ
れをエツチング液で除去し、さらに適当な剥離液で硬化
塗膜を除くことにより、極めて高解像度の配線パターン
が完成する。なお、現像後、耐エツチング性をより高め
るため、ざらにUV照射や120℃以上の温度で残存塗
膜の後硬化をおこなってもよい。
部が溶出して回路パターン部の導電性被膜が露出し、こ
れをエツチング液で除去し、さらに適当な剥離液で硬化
塗膜を除くことにより、極めて高解像度の配線パターン
が完成する。なお、現像後、耐エツチング性をより高め
るため、ざらにUV照射や120℃以上の温度で残存塗
膜の後硬化をおこなってもよい。
[発明の効果]
本発明により実機の露光装置においても実質的にタック
フリーでかつ十分な硬度を有する感光性塗膜が得られる
。従って、本発明の光硬化性樹脂組成物は光感元型のプ
リント配線板の製造方法に適するものである。
フリーでかつ十分な硬度を有する感光性塗膜が得られる
。従って、本発明の光硬化性樹脂組成物は光感元型のプ
リント配線板の製造方法に適するものである。
[実施例」
以下に本発明を実施例等によって詳細に説明する。なお
、本発明は以下の実施例には限定されない。
、本発明は以下の実施例には限定されない。
製造例1
ベンジルナトリウムを触媒とし、連鎖移動剤トルエンの
存在下に30℃でブタジェンを重合させて得られた数平
均分子量1000.25℃における粘度14ボイズ、1
.2結合65%の液状ブタジェン重合体322g、無水
マレイン酸245g、キシレンLogおよびアンチゲン
6G (住友化学伸製、商品名)1.1gを還流冷
却管および窒素吹き込み管付きのIJのセパラブルフラ
スコに仕込み、窒素気流下に 190℃で4.5時間反
応させた。次に未反応無水マレイン酸、キシレンを留、
去させ、全酸価480I1gKOH/gのマレイン化ブ
タジェン重合体を合成した。このものの軟化点(環球式
軟化点 JIS−に−2531−80)は121℃であ
った。
存在下に30℃でブタジェンを重合させて得られた数平
均分子量1000.25℃における粘度14ボイズ、1
.2結合65%の液状ブタジェン重合体322g、無水
マレイン酸245g、キシレンLogおよびアンチゲン
6G (住友化学伸製、商品名)1.1gを還流冷
却管および窒素吹き込み管付きのIJのセパラブルフラ
スコに仕込み、窒素気流下に 190℃で4.5時間反
応させた。次に未反応無水マレイン酸、キシレンを留、
去させ、全酸価480I1gKOH/gのマレイン化ブ
タジェン重合体を合成した。このものの軟化点(環球式
軟化点 JIS−に−2531−80)は121℃であ
った。
得られたマレイン化ブタジェン重合体200g。
ジアセトンアルコール180g、ヒドロキノン0.2g
を還流冷却管および空気吹き込み管付きの IJのセパ
ラブルフラスコに仕込み、80℃のオイルノくスに漬け
、フラスコ内を軽く撹拌しマレイン化ブタジェン重合体
を完全に溶解させた。
を還流冷却管および空気吹き込み管付きの IJのセパ
ラブルフラスコに仕込み、80℃のオイルノくスに漬け
、フラスコ内を軽く撹拌しマレイン化ブタジェン重合体
を完全に溶解させた。
次いで、吹き込み管にて空気を少量づつ反応混合液内に
吹き込みつつ、2−ヒドロキシプロピルアクリレート
l17.6g 、およびトリエチルアミン16gを加え
、70℃で6時間反応させて変性樹脂Aを得た。変性樹
脂Aの不揮発分濃度は57%、酸価は178ay K
OH/樹脂gであった。
吹き込みつつ、2−ヒドロキシプロピルアクリレート
l17.6g 、およびトリエチルアミン16gを加え
、70℃で6時間反応させて変性樹脂Aを得た。変性樹
脂Aの不揮発分濃度は57%、酸価は178ay K
OH/樹脂gであった。
製造例2
製造例1で得られたマレイン化ブタジェン重合体200
g、ヒドロキノン0.2gを還流冷却管および空気吹き
込み管付きの IJのセパラブルフラスコに仕込み、8
0℃のオイルバスに漬け、フラスコ内を軽く撹拌しマレ
イン化ブタジェン重合体を完全に溶解させた。
g、ヒドロキノン0.2gを還流冷却管および空気吹き
込み管付きの IJのセパラブルフラスコに仕込み、8
0℃のオイルバスに漬け、フラスコ内を軽く撹拌しマレ
イン化ブタジェン重合体を完全に溶解させた。
次いで、吹き込み管にて空気を少量づつ反応混合液内に
吹き込みつつ、ブチルセロソルブ106.7gを加え、
120℃で3時間反応させて樹脂組成物Bを得た。樹脂
組成物Bの不揮発分濃度は75%、酸価は170ay
K OH/樹脂gであった。
吹き込みつつ、ブチルセロソルブ106.7gを加え、
120℃で3時間反応させて樹脂組成物Bを得た。樹脂
組成物Bの不揮発分濃度は75%、酸価は170ay
K OH/樹脂gであった。
次に、N、N−ジメチルアミノプロピルアミン61.1
gを加え、150℃で6時間撹拌して変性樹脂Cを得た
。この変性樹脂Cの不揮発分濃度は61.1%、酸価は
54mgKOH/樹脂gであった。
gを加え、150℃で6時間撹拌して変性樹脂Cを得た
。この変性樹脂Cの不揮発分濃度は61.1%、酸価は
54mgKOH/樹脂gであった。
製造例3
製造例2と同様に樹脂組成物Bを得て、これにN、N−
ジメチルアミノプロピルアミン78.8gを加え、15
0℃で6時間撹拌して、変性樹脂りを得た。この変性樹
脂りの不揮発分濃度は58,0%、酸価は19#1gK
OH/樹脂gであった。
ジメチルアミノプロピルアミン78.8gを加え、15
0℃で6時間撹拌して、変性樹脂りを得た。この変性樹
脂りの不揮発分濃度は58,0%、酸価は19#1gK
OH/樹脂gであった。
実施例1
製造例1で得られた変性樹脂Aと製造例2で得られた変
性樹脂Cを固形分重量濃度比で10:lとなるように混
合し、さらに光重合開始剤イルガキュアー907(チバ
ガイギー社)を樹脂固形分に対し7.2重量%、2,4
−ジエチルチオキサントンを同様に0.8重量%となる
ようにを加え、遮光しつつ40℃以下で1時間撹拌する
ことにより、光硬化性樹脂組成物を調製した。
性樹脂Cを固形分重量濃度比で10:lとなるように混
合し、さらに光重合開始剤イルガキュアー907(チバ
ガイギー社)を樹脂固形分に対し7.2重量%、2,4
−ジエチルチオキサントンを同様に0.8重量%となる
ようにを加え、遮光しつつ40℃以下で1時間撹拌する
ことにより、光硬化性樹脂組成物を調製した。
予めブラッシングし、さらに洗浄脱脂した銅張り積層板
に、この組成物をアプリケータにて塗布し、80℃にて
20分乾燥し、15μmの厚みを持つ塗膜を得た。
に、この組成物をアプリケータにて塗布し、80℃にて
20分乾燥し、15μmの厚みを持つ塗膜を得た。
得られた塗膜について後述するタック試験、感光性試験
および鉛筆硬度試験を行ない、結果を第1表に示した。
および鉛筆硬度試験を行ない、結果を第1表に示した。
実施例2
製造例1で得られた変性樹脂Aと製造例2で得られた変
性樹脂Cを固形分重量濃度比でlO:lとなるように混
合し、さらに光重合開始剤イルガキュアー907(チバ
ガイギー社)を樹脂固形分に対し7.2重量%、2,4
−ジエチルチオキサントンを同様に0.8重量%となる
ようにを加え、上記樹脂Aの酸基の1/3を中和する量
のトリエチルアミンを加え、常法により水分散して、光
硬化性電着塗料組成物を調製した。この組成物の非揮発
分は15%、pHは6.9、電導度は1.55m5/c
lIであった。
性樹脂Cを固形分重量濃度比でlO:lとなるように混
合し、さらに光重合開始剤イルガキュアー907(チバ
ガイギー社)を樹脂固形分に対し7.2重量%、2,4
−ジエチルチオキサントンを同様に0.8重量%となる
ようにを加え、上記樹脂Aの酸基の1/3を中和する量
のトリエチルアミンを加え、常法により水分散して、光
硬化性電着塗料組成物を調製した。この組成物の非揮発
分は15%、pHは6.9、電導度は1.55m5/c
lIであった。
この電着液を用いて以下に示す条件で、予めブラッシン
グし、さらに洗浄脱脂した銅張り積層板に電着塗装して
、水切り後、100℃にて5分乾燥することにより、1
5μ■の厚みを持つ塗膜を得た。
グし、さらに洗浄脱脂した銅張り積層板に電着塗装して
、水切り後、100℃にて5分乾燥することにより、1
5μ■の厚みを持つ塗膜を得た。
得られた塗膜について後述するタック試験、感光性試験
および鉛筆硬度試験を行ない、結果を第1表に示した。
および鉛筆硬度試験を行ない、結果を第1表に示した。
(電着条件)
電着方法:アニオン電着
定電流法:90〜110IIA/ds2* 3分実施
例3 製造例1て得られた変性樹脂Aと製造例2で得られた変
性樹脂Cを固形分重量濃度比で10:5となるように混
合し、さらに光重合開始剤イルガキュアー 907(チ
バガイギー社)を樹脂固形分に対し8,0量%となるよ
うにを加え、遮光しつつ40℃以下で 1時間撹拌する
ことにより、光硬化性樹脂組成物を調製した。
例3 製造例1て得られた変性樹脂Aと製造例2で得られた変
性樹脂Cを固形分重量濃度比で10:5となるように混
合し、さらに光重合開始剤イルガキュアー 907(チ
バガイギー社)を樹脂固形分に対し8,0量%となるよ
うにを加え、遮光しつつ40℃以下で 1時間撹拌する
ことにより、光硬化性樹脂組成物を調製した。
予めブラッシングし、さらに洗浄脱脂した銅張り積層板
に、この組成物をアプリケータにて塗布し、80℃にて
20分乾燥し、15μ■の厚みを持つ塗膜を得た。
に、この組成物をアプリケータにて塗布し、80℃にて
20分乾燥し、15μ■の厚みを持つ塗膜を得た。
得られた塗膜について後述するタック試験、感光性試験
および鉛筆硬度試験を行ない、結果を第1表に示した。
および鉛筆硬度試験を行ない、結果を第1表に示した。
実施例4
製造例1で得られた変性樹脂Aと製造例3で得られた変
性樹脂りを固形分重量濃度比で10=1となるように混
合し、さらに光重合開始剤イルガキュアー907(チバ
ガイギー社)を樹脂固形分に対し8.0重量%となるよ
うにを加え、上記樹脂Aの酸基の1/3を中和する量の
トリエチルアミンを加え、常法により水分散して、光硬
化性電着塗料組成物を調製した。この組成物の非揮発分
は13%、pHは6゜9、電導度は1.58sS/αで
あった。
性樹脂りを固形分重量濃度比で10=1となるように混
合し、さらに光重合開始剤イルガキュアー907(チバ
ガイギー社)を樹脂固形分に対し8.0重量%となるよ
うにを加え、上記樹脂Aの酸基の1/3を中和する量の
トリエチルアミンを加え、常法により水分散して、光硬
化性電着塗料組成物を調製した。この組成物の非揮発分
は13%、pHは6゜9、電導度は1.58sS/αで
あった。
この電着液を用いて実施例2と同様の条件で、予めブラ
ッシングし、さらに洗浄脱脂した銅張り積層板に電着塗
装して、水切り後、100’Cにて5分乾燥することに
より、15μ■の厚みを持つ塗膜を得た。
ッシングし、さらに洗浄脱脂した銅張り積層板に電着塗
装して、水切り後、100’Cにて5分乾燥することに
より、15μ■の厚みを持つ塗膜を得た。
得られた塗膜について後述するタック試験、感光性試験
および鉛筆硬度試験を行ない、結果を第1表に示した。
および鉛筆硬度試験を行ない、結果を第1表に示した。
比較例1
製造例1で得られた変性樹脂Aと、全固形分に対し8重
量%となるように光重合開始剤ベンゾインイソブチルエ
ーテルを加え、遮光しつつ40℃以下で1時間撹拌する
ことにより、光硬化性樹脂組成物を調製した。
量%となるように光重合開始剤ベンゾインイソブチルエ
ーテルを加え、遮光しつつ40℃以下で1時間撹拌する
ことにより、光硬化性樹脂組成物を調製した。
予めブラッシングし、さらに洗浄脱脂した銅張り積層板
に、この組成物をアプリケータにて塗布し、80℃にて
20分乾燥し、15μ■の厚みを持つ塗膜を得た。
に、この組成物をアプリケータにて塗布し、80℃にて
20分乾燥し、15μ■の厚みを持つ塗膜を得た。
得られた塗膜について後述するタック試験、感光性試験
および鉛筆硬度試験を行なった。結果を第1表に示した
。
および鉛筆硬度試験を行なった。結果を第1表に示した
。
比較例2
製造例1で得られた変性樹脂Aと、全固形分に対し8重
量%となるように光重合開始剤イルガキュアー 907
(チバガイギー社)を加え、樹脂の酸基の1/3を中和
する量のトリエチルアミンを加え、常法により水分散し
て、光硬化性電着塗料組成物を調製した。この電着液の
固形分濃度は15%、pHは6.6、電導度は1.80
sS/ca+であった。
量%となるように光重合開始剤イルガキュアー 907
(チバガイギー社)を加え、樹脂の酸基の1/3を中和
する量のトリエチルアミンを加え、常法により水分散し
て、光硬化性電着塗料組成物を調製した。この電着液の
固形分濃度は15%、pHは6.6、電導度は1.80
sS/ca+であった。
この電着液を用いて実施例1に示す条件で、予めブラッ
シングし、さらに洗浄脱脂した銅張り積層板に電着塗装
して、水切り後、100℃にて5分乾燥することにより
、15μmの厚みを持つ塗膜を得た。
シングし、さらに洗浄脱脂した銅張り積層板に電着塗装
して、水切り後、100℃にて5分乾燥することにより
、15μmの厚みを持つ塗膜を得た。
得られた塗膜について後述するタック試験、感光性試験
および鉛筆硬度試験を行なった。結果を第1表に示した
。
および鉛筆硬度試験を行なった。結果を第1表に示した
。
(タック試験)
感光性塗膜を形成した銅張り積層板を、35℃の暗室恒
湿恒温槽に入れ、上に回路パターンを描いたネガマスク
(PETフィルム製)を重ね、上部に1、”rmm厚の
ガラス板と分銅を載せ、マスクと塗面の接触面に0.2
Kg/ciの圧力がかかるようにした(この圧力は、真
空密着による圧力として設定した)。この状態で5分間
保持した後、ガラス板と分銅を取り去り、ネガマスクを
剥したが、この時の剥離状態により以下のように評価し
た。なお、試験前にそれぞれの試験器具は予め雰囲気温
度に予熱をした。
湿恒温槽に入れ、上に回路パターンを描いたネガマスク
(PETフィルム製)を重ね、上部に1、”rmm厚の
ガラス板と分銅を載せ、マスクと塗面の接触面に0.2
Kg/ciの圧力がかかるようにした(この圧力は、真
空密着による圧力として設定した)。この状態で5分間
保持した後、ガラス板と分銅を取り去り、ネガマスクを
剥したが、この時の剥離状態により以下のように評価し
た。なお、試験前にそれぞれの試験器具は予め雰囲気温
度に予熱をした。
O:マスクは剥離音を発することなく抵抗なく剥がれる
。
。
×ニマスクを剥す時、抵抗感があり、また明瞭に剥離音
がする。
がする。
(感光性試験)
30、50. 100μmの幅のパターンラインヲ持つ
評価用回路パターンマスクを用いて、以下の露光、現像
条件でパターンラインを形成し、顕微鏡観察によりパタ
ーン再現性を評価した。
評価用回路パターンマスクを用いて、以下の露光、現像
条件でパターンラインを形成し、顕微鏡観察によりパタ
ーン再現性を評価した。
O:パターンが形成される。
×:パターンが形成されない。
(1)露光条件
露光装置;ウシオ電機製 UVC−2613光 源 :
メタルハライドランプ 光 量 ; 170sJ/cIi(2)現像条件 現像装置 二自社製スプレー装置(スプレー圧■、35
Ky/ci> 現 像 液; 1%炭酸ソーダ水 現像液温度;30℃
メタルハライドランプ 光 量 ; 170sJ/cIi(2)現像条件 現像装置 二自社製スプレー装置(スプレー圧■、35
Ky/ci> 現 像 液; 1%炭酸ソーダ水 現像液温度;30℃
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、(a)数平均分子量が500〜5000、ビニル基
含有量が50モル%以上の共役ジエン重合体または共役
ジエン共重合体から誘導される、軟化点(JIS−K−
2531−60の環球式軟化点測定法による)が70〜
200℃の範囲にあるα,β−不飽和ジカルボン酸無水
物付加物に、 一般式、 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R_1およびR_2は水素原子またはメチル、
R_3はヘテロ原子を含んでもよい炭素数2以上の炭化
水素残基) で表わされるアルコール性水酸基を持つα,β−不飽和
モノカルボン酸エステルを反応させることにより該付加
物の酸無水基を少なくとも10モル%開環させることに
より得られた変性樹脂100重量部、 (b)数平均分子量が500〜5000、ビニル基含有
量が50モル%以上の共役ジエン重合体または共役ジエ
ン共重合体から誘導される、軟化点(JIS−K−25
31−60の環球式軟化点測定法による)が70〜20
0℃の範囲にあるα,β−不飽和ジカルボン酸無水物付
加物の酸無水基の一部または全部を下記の一般式(II)
で表される化合物と反応されることにより得られる樹脂
1〜100重量部、 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、R_4、R_5およびR_6は、互いに同一、
または相異なる炭素数1〜20の有機残基を表す)、お
よび (c)重合開始剤0.1〜20重量部、 からなることを特徴とする光硬化性樹脂組成物。 2、前記(b)の添加量が、変性樹脂(a)100重量
部に対して、5〜100重量部である請求項1に記載の
組成物。 3、前記(b)の樹脂が下記の官能基を有する請求項1
または2に記載の組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_4、R_5およびR_6は上記と同じ)4
、前記(b)の樹脂が下記の官能基を有する請求項1ま
たは2に記載の組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_4、R_5およびR_6は上記と同じ)5
、前記(a)および(b)におけるa,β−不飽和ジカ
ルボン酸無水物が無水マレイン酸である請求項1または
2に記載の組成物。 6、前記(a)のα,β−不飽和モノカルボン酸エステ
ルが、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロ
キシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルア
クリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、
2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート
、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルメタクリレ
ートよりなる群から選ばれる請求項1または2に記載の
組成物。 7、前記共役ジエンがブタジエンである請求項1または
2に記載の組成物。 8、前記(b)の化合物(II)がN,N−ジメチルアミ
ノプロピルアミンである請求項1または2に記載の組成
物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1796890A JP2873706B2 (ja) | 1990-01-30 | 1990-01-30 | 光硬化性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1796890A JP2873706B2 (ja) | 1990-01-30 | 1990-01-30 | 光硬化性樹脂組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03223316A true JPH03223316A (ja) | 1991-10-02 |
| JP2873706B2 JP2873706B2 (ja) | 1999-03-24 |
Family
ID=11958534
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1796890A Expired - Lifetime JP2873706B2 (ja) | 1990-01-30 | 1990-01-30 | 光硬化性樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2873706B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008274066A (ja) * | 2007-04-27 | 2008-11-13 | Mitsui Chemicals Inc | カルボニル基含有ポリオレフィン重合体とその製造方法、それを含む樹脂組成物。 |
| WO2015083608A1 (ja) * | 2013-12-04 | 2015-06-11 | 株式会社クラレ | 変性液状ジエン系ゴム及びその製造方法 |
-
1990
- 1990-01-30 JP JP1796890A patent/JP2873706B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008274066A (ja) * | 2007-04-27 | 2008-11-13 | Mitsui Chemicals Inc | カルボニル基含有ポリオレフィン重合体とその製造方法、それを含む樹脂組成物。 |
| WO2015083608A1 (ja) * | 2013-12-04 | 2015-06-11 | 株式会社クラレ | 変性液状ジエン系ゴム及びその製造方法 |
| KR20150140856A (ko) * | 2013-12-04 | 2015-12-16 | 가부시키가이샤 구라레 | 변성 액상 디엔계 고무 및 그 제조 방법 |
| US9598507B2 (en) | 2013-12-04 | 2017-03-21 | Kuraray Co., Ltd. | Modified liquid diene-based rubber and production process for the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2873706B2 (ja) | 1999-03-24 |
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