JPH03223317A - 光硬化性樹脂組成物 - Google Patents
光硬化性樹脂組成物Info
- Publication number
- JPH03223317A JPH03223317A JP2017970A JP1797090A JPH03223317A JP H03223317 A JPH03223317 A JP H03223317A JP 2017970 A JP2017970 A JP 2017970A JP 1797090 A JP1797090 A JP 1797090A JP H03223317 A JPH03223317 A JP H03223317A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- weight
- parts
- acid anhydride
- formula
- aminoacrylate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Paints Or Removers (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Graft Or Block Polymers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は共役ジエン重合体もしくは共役ジエン共重合体
を変性してなる特定の変性樹脂に、特定のアミノアクリ
レート類を配合してなる光硬化性樹脂組成物に関するも
のである。特に光硬化させるプリント配線板の製造に適
した光硬化性樹脂組成物に関するものである。
を変性してなる特定の変性樹脂に、特定のアミノアクリ
レート類を配合してなる光硬化性樹脂組成物に関するも
のである。特に光硬化させるプリント配線板の製造に適
した光硬化性樹脂組成物に関するものである。
[従来の技術]
従来、プリント配線板の製造方法には種々の方法が開発
されてきたが、特に光硬化性の感光性樹脂をエツチング
レジストまたはメツキレジストとして用いる方法が、近
年主流となってきた。
されてきたが、特に光硬化性の感光性樹脂をエツチング
レジストまたはメツキレジストとして用いる方法が、近
年主流となってきた。
前者は、基板上に光硬化性樹脂組成物の層を何らかの方
法で作成し、次いでネガ型の回路パターンマスクを密着
させ、活性光線を照射し、必要部を硬化させ、未硬化部
分を現像により除去し、次いでエツチングすることによ
り所定の回路パターンを得る方法である。
法で作成し、次いでネガ型の回路パターンマスクを密着
させ、活性光線を照射し、必要部を硬化させ、未硬化部
分を現像により除去し、次いでエツチングすることによ
り所定の回路パターンを得る方法である。
後者は、マスクを逆パターンとし、必要部の樹脂膜を現
像で除去し、この部分を耐エツチング性の半田メツキ等
を行ない、次いで不必要部の樹脂膜を剥離した後、エツ
チングして所定の回路パターンを得るものである。
像で除去し、この部分を耐エツチング性の半田メツキ等
を行ない、次いで不必要部の樹脂膜を剥離した後、エツ
チングして所定の回路パターンを得るものである。
ここで回路パターンマスクとは、写真におけるネガに相
当し、透明基板上に適宜のパターンを形成する先遮断層
が形成されている。基板はガラス性のものもあるが、ポ
リエステル等のプラスチックフィルムが主流である。遮
断層の材料はCrやAg等の金属が使用されることが多
い。
当し、透明基板上に適宜のパターンを形成する先遮断層
が形成されている。基板はガラス性のものもあるが、ポ
リエステル等のプラスチックフィルムが主流である。遮
断層の材料はCrやAg等の金属が使用されることが多
い。
この光硬化性樹脂組成物の一般的な構成は、■バインダ
ーポリマー、■光重合性の七ツマ−またはオリゴマー(
架橋剤)、■光重合開始剤、■その他(安定剤、着色剤
、難燃化剤)等からなる。
ーポリマー、■光重合性の七ツマ−またはオリゴマー(
架橋剤)、■光重合開始剤、■その他(安定剤、着色剤
、難燃化剤)等からなる。
バインダーポリマーの役割はフィルム形状を持たせるこ
とで、アクリル系のポリマーが主に使われ、アクリル酸
、アクリル酸エステル、メタクリル酸、メタクリル酸エ
ステルおよびスチレン等を共重合させた分子量致方のも
のである。
とで、アクリル系のポリマーが主に使われ、アクリル酸
、アクリル酸エステル、メタクリル酸、メタクリル酸エ
ステルおよびスチレン等を共重合させた分子量致方のも
のである。
光重合性七ツマ−7オリゴマーにもアクリロイル基やメ
タクリロイル基を持ったものが使われる。
タクリロイル基を持ったものが使われる。
この組成物を用い必要部のみ露光して、不溶化させるの
が原理である。
が原理である。
〔発明が解決しようとする課題]
特定のマレイン化変性油を用いた光硬化性樹脂組成物を
エツチングレジスト等の、いわゆるフォトレジストとし
て用いる方法として、例えば特公昭52−21528号
公報に記載されているが、ここに記載の組成物はマレイ
ン化変性油と一分子中に不飽和結合を2個以上有するエ
チレン性不飽和化合物との混合物であるため、得られた
光照射前の塗膜は、指触試験において常温タック性を有
していることが本発明者等の試験により判明した。
エツチングレジスト等の、いわゆるフォトレジストとし
て用いる方法として、例えば特公昭52−21528号
公報に記載されているが、ここに記載の組成物はマレイ
ン化変性油と一分子中に不飽和結合を2個以上有するエ
チレン性不飽和化合物との混合物であるため、得られた
光照射前の塗膜は、指触試験において常温タック性を有
していることが本発明者等の試験により判明した。
すなわち、通常プリント配線板の製造に当たり、形成し
た感光塗膜に回路パターンマスクを真空密着し、UV露
光するが、このとき感光性樹脂塗膜に常温タック性があ
ると、露光後の回路パターンマスクを剥離する際、塗膜
が一部マスクに付着する。これを防ぐために露光後、冷
却装置や冷却槽を置けばよいが、この結果、設備費が多
くかかる、工程が一つ増え、煩雑になる等の欠点が生じ
るため好ましくない。回路パターンマスクに剥離剤等を
塗布することはファインパターン形成に悪影響を与える
。そこで、本発明者等は特願昭83−189596号に
おいて、共役ジエン重合体または共役ジエン共重合体に
α、β−不飽和ジカルボン酸無水物を付加することによ
り軟化点(JIS−に−2531−60の環球式軟化点
測定法による)が70〜200℃の範囲にある付加生成
物を得て、次いでアルコール性水酸基を持つα、β−不
飽和モノジカルボン酸エステルで一部または全部を開環
し、共役二重結合を導入することにより製造された変性
樹脂により形成された感光性樹脂塗膜は、指触試験にお
ける常温タック性は殆ど無いことを報告した。
た感光塗膜に回路パターンマスクを真空密着し、UV露
光するが、このとき感光性樹脂塗膜に常温タック性があ
ると、露光後の回路パターンマスクを剥離する際、塗膜
が一部マスクに付着する。これを防ぐために露光後、冷
却装置や冷却槽を置けばよいが、この結果、設備費が多
くかかる、工程が一つ増え、煩雑になる等の欠点が生じ
るため好ましくない。回路パターンマスクに剥離剤等を
塗布することはファインパターン形成に悪影響を与える
。そこで、本発明者等は特願昭83−189596号に
おいて、共役ジエン重合体または共役ジエン共重合体に
α、β−不飽和ジカルボン酸無水物を付加することによ
り軟化点(JIS−に−2531−60の環球式軟化点
測定法による)が70〜200℃の範囲にある付加生成
物を得て、次いでアルコール性水酸基を持つα、β−不
飽和モノジカルボン酸エステルで一部または全部を開環
し、共役二重結合を導入することにより製造された変性
樹脂により形成された感光性樹脂塗膜は、指触試験にお
ける常温タック性は殆ど無いことを報告した。
ところで、プリント配線板の製造において、レジストパ
ターンライン形成に必要な光量、すなわち適性光量は少
ない方がよい。これは、通常の生産ラインにおいて露光
機の単位時間当りの光量は一定であるため、適性光量が
少ないとUV照射時間が短くなり生産性の向上をもたら
す。
ターンライン形成に必要な光量、すなわち適性光量は少
ない方がよい。これは、通常の生産ラインにおいて露光
機の単位時間当りの光量は一定であるため、適性光量が
少ないとUV照射時間が短くなり生産性の向上をもたら
す。
前述の変性樹脂により形成された感光性樹脂塗膜は光感
度が十分ではないため、適性光量が大きく、生産性にお
いて好ましくないことが判明した。
度が十分ではないため、適性光量が大きく、生産性にお
いて好ましくないことが判明した。
本発明の目的は前記の課題を解決すべく、タックフリー
を維持しつつ、光感度が十分で、適性光量がより少ない
感光性塗膜が得られる組成物を提供することにある。
を維持しつつ、光感度が十分で、適性光量がより少ない
感光性塗膜が得られる組成物を提供することにある。
[課題を解決するための手段]
本発明は、(a)数平均分子量が500〜5000、ビ
ニル基含有量が50モル%以上の共役ジエン重合体また
は共役ジエン共重合体から誘導される、軟化点(JIS
−に−2531−60の環球式軟化点測定法による)が
70〜200℃の範囲にあるα、β−不飽和ジカルボン
酸無水物付加物に、 一般式、 (式中、R1およびR2は水素原子またはメチル、R3
はへテロ原子を含んでもよい炭素数2以上の炭化水素残
基) で表わされるアルコール性水酸基を持つα、β−不飽和
モノカルボン酸エステルを反応させることにより該付加
物の酸無水基を少なくとも10モル%開環させることに
より得られた変性樹脂100重量部、 (b)下記一般式(II)で表わされるアミノアクリレ
ート類3〜40重量部、 (式中、R4およびR5は水素原子またはメチル、R6
はへテロ原子を含んでもよい炭素数2以上の炭化水素残
基、R7およびR8は炭化水素残基)、および (C)光重合開始剤0.1〜20重量部、からなること
を特徴とする光硬化性樹脂組成物に関する。
ニル基含有量が50モル%以上の共役ジエン重合体また
は共役ジエン共重合体から誘導される、軟化点(JIS
−に−2531−60の環球式軟化点測定法による)が
70〜200℃の範囲にあるα、β−不飽和ジカルボン
酸無水物付加物に、 一般式、 (式中、R1およびR2は水素原子またはメチル、R3
はへテロ原子を含んでもよい炭素数2以上の炭化水素残
基) で表わされるアルコール性水酸基を持つα、β−不飽和
モノカルボン酸エステルを反応させることにより該付加
物の酸無水基を少なくとも10モル%開環させることに
より得られた変性樹脂100重量部、 (b)下記一般式(II)で表わされるアミノアクリレ
ート類3〜40重量部、 (式中、R4およびR5は水素原子またはメチル、R6
はへテロ原子を含んでもよい炭素数2以上の炭化水素残
基、R7およびR8は炭化水素残基)、および (C)光重合開始剤0.1〜20重量部、からなること
を特徴とする光硬化性樹脂組成物に関する。
以下に本発明をさらに説明する。
本発明においては、共役ジエン重合体または共役ジエン
共重合体にα、β−不飽和ジカルボン酸無水物を付加す
ることにより、軟化点(JIS−に−2531−60の
環球式軟化点測定法による)が70〜200℃の範囲に
ある付加生成物を得て、次いでこれにアルコール性水酸
基を有するα、β−不飽和モノカルボン酸エステルによ
り酸無水基の一部または全部を開環することにより製造
された変性樹脂(a)を用いる。
共重合体にα、β−不飽和ジカルボン酸無水物を付加す
ることにより、軟化点(JIS−に−2531−60の
環球式軟化点測定法による)が70〜200℃の範囲に
ある付加生成物を得て、次いでこれにアルコール性水酸
基を有するα、β−不飽和モノカルボン酸エステルによ
り酸無水基の一部または全部を開環することにより製造
された変性樹脂(a)を用いる。
ここで用いられる共役ジエン重合体または共役ジエン共
重合体とは、ブタジェンおよびイソプレン等の炭素数4
〜5の共役ジオレフィンの低重合体、またはこれらの共
役ジオレフィンの一種または二種以上とエチレン性不飽
和結合を有するこれらの共役ジオレフィン以外の七ツマ
−1特にイソブチレン、ジイソブチレン、スチレン、α
−メチルスチレン、ビニルトルエン、ジビニルトルエン
のような脂肪族または芳香族七ツマ−との低重合度共重
合体である。またこれらの二種以上の混合物も利用する
ことができる。
重合体とは、ブタジェンおよびイソプレン等の炭素数4
〜5の共役ジオレフィンの低重合体、またはこれらの共
役ジオレフィンの一種または二種以上とエチレン性不飽
和結合を有するこれらの共役ジオレフィン以外の七ツマ
−1特にイソブチレン、ジイソブチレン、スチレン、α
−メチルスチレン、ビニルトルエン、ジビニルトルエン
のような脂肪族または芳香族七ツマ−との低重合度共重
合体である。またこれらの二種以上の混合物も利用する
ことができる。
上記共役ジエン重合体または共役ジエン共重合体はビニ
ル基含有量が50モル%以上で数平均分子量500〜5
000の範囲のものが用いられる。この時、ビニル基含
有量が50モル%未満のものは架橋密度が小さく好まし
くない。また、数平均分子量が500未満のものは、得
られる感光性塗膜の強度が低く、−刃数平均分子量が5
000を越えるものは平滑な塗膜が得られないので何れ
も好ましくない。
ル基含有量が50モル%以上で数平均分子量500〜5
000の範囲のものが用いられる。この時、ビニル基含
有量が50モル%未満のものは架橋密度が小さく好まし
くない。また、数平均分子量が500未満のものは、得
られる感光性塗膜の強度が低く、−刃数平均分子量が5
000を越えるものは平滑な塗膜が得られないので何れ
も好ましくない。
ここで、上記変性樹脂(a)の製造は以下のようにして
行なうことが出来る。
行なうことが出来る。
共役ジエン重合体または共役ジエン共重合体の製造は従
来公知の方法で行われる。すなわちアルカリ金属または
有機アルカリ金属化合物を触媒として炭素数4〜5の共
役ジオレフィン単独、またはこれらのジオレフィン混合
物、あるいは共役ジオレフィンに対して好ましくは50
モル%以下の量の芳香族ビニル七ツマ−1例えばスチレ
ン、α−メチルスチレン、ビニルトルエンまたはジビニ
ルベンゼンとを0℃から 100℃の温度でアニオン重
合させる方法が代表的な製造方法である。この場合、分
子量を制御し、ゲル分率等の少ない、淡色の低重合物を
得るためには、ベンジルナトリウムのような有機アルカ
リ金属化合物を触媒とし、アルキルアリール基を有する
化合物、例えばトルエンを連鎖移動剤とする連鎖移動重
合法(米国特許IJ 3,789.090号)またはテ
トラヒドロフラン溶媒中でナフタリンのような多環芳香
族化合物を活性剤とし、ナトリウムのようなアルカリ金
属を触媒とするリビング重合法(特公昭42−1748
5号公報、同43−27432号公報)、あるいはトル
エン、キシレンのような芳香族炭化水素を溶媒とし、ナ
トリウムのような金属の分散体を触媒とし、ジオキサン
のようなエーテル類を添加して分子量を制御する重合法
(特公昭32−7446号公報、同33−1245号公
報、同31−10188号公報)等が好適な製造方法で
ある。また周期律表中第■族金属、例えばコバルトまた
はニッケルのアセチルアセトナート化合物およびアルキ
ルアルミニウムハロゲニドを触媒とする配位アニオン重
合によって製造される低重合体(特公昭45−507号
公報、同48−30300号公報)も用いることができ
る。
来公知の方法で行われる。すなわちアルカリ金属または
有機アルカリ金属化合物を触媒として炭素数4〜5の共
役ジオレフィン単独、またはこれらのジオレフィン混合
物、あるいは共役ジオレフィンに対して好ましくは50
モル%以下の量の芳香族ビニル七ツマ−1例えばスチレ
ン、α−メチルスチレン、ビニルトルエンまたはジビニ
ルベンゼンとを0℃から 100℃の温度でアニオン重
合させる方法が代表的な製造方法である。この場合、分
子量を制御し、ゲル分率等の少ない、淡色の低重合物を
得るためには、ベンジルナトリウムのような有機アルカ
リ金属化合物を触媒とし、アルキルアリール基を有する
化合物、例えばトルエンを連鎖移動剤とする連鎖移動重
合法(米国特許IJ 3,789.090号)またはテ
トラヒドロフラン溶媒中でナフタリンのような多環芳香
族化合物を活性剤とし、ナトリウムのようなアルカリ金
属を触媒とするリビング重合法(特公昭42−1748
5号公報、同43−27432号公報)、あるいはトル
エン、キシレンのような芳香族炭化水素を溶媒とし、ナ
トリウムのような金属の分散体を触媒とし、ジオキサン
のようなエーテル類を添加して分子量を制御する重合法
(特公昭32−7446号公報、同33−1245号公
報、同31−10188号公報)等が好適な製造方法で
ある。また周期律表中第■族金属、例えばコバルトまた
はニッケルのアセチルアセトナート化合物およびアルキ
ルアルミニウムハロゲニドを触媒とする配位アニオン重
合によって製造される低重合体(特公昭45−507号
公報、同48−30300号公報)も用いることができ
る。
次に、これら共役ジエン重合体または共役ジエン共重合
体にα、β−不飽和ジカルボン酸無水物を付加させるこ
とにより酸無水基の付加物を製造する。
体にα、β−不飽和ジカルボン酸無水物を付加させるこ
とにより酸無水基の付加物を製造する。
本発明に言うα、β−不飽和ジカルボン酸無水物として
は無水マレイン酸、無水シトラコン酸、クロル無水マレ
イン酸等が挙げられる。
は無水マレイン酸、無水シトラコン酸、クロル無水マレ
イン酸等が挙げられる。
通常、この付加反応は、これら単独、もしくはこれら両
者を溶解する不活性溶媒中で、反応温度100〜250
℃で行なわれる。この際、ゲル化防止剤として、ハイド
ロキノン、カテコール類、p〜フェニレンジアミン誘導
体等が0,1〜0.3重量部添加される。
者を溶解する不活性溶媒中で、反応温度100〜250
℃で行なわれる。この際、ゲル化防止剤として、ハイド
ロキノン、カテコール類、p〜フェニレンジアミン誘導
体等が0,1〜0.3重量部添加される。
本発明においては、得られる酸無水物の付加物の軟化点
(前記環球式軟化点の測定方法による)が70〜200
℃の範囲となるようα、β−不飽和ジカルボン酸無水物
を付加することが肝要である。
(前記環球式軟化点の測定方法による)が70〜200
℃の範囲となるようα、β−不飽和ジカルボン酸無水物
を付加することが肝要である。
軟化点が70℃未満だと得られる塗膜にタックが生じ、
200℃を越えると平滑な塗膜が得られず、好ましくな
い。この軟化点は主に原料である共役ジエン重合体また
は共役ジエン共重合体の不飽和結合の含有量、分子量お
よびα、β−不飽和ジカルボン酸無水物の付加量等に依
存する。例えば数平均分子R1000の液状ブタジェン
重合体を用いた場合は、全酸価として400#tgK
OH/ g以上の値が必要である。
200℃を越えると平滑な塗膜が得られず、好ましくな
い。この軟化点は主に原料である共役ジエン重合体また
は共役ジエン共重合体の不飽和結合の含有量、分子量お
よびα、β−不飽和ジカルボン酸無水物の付加量等に依
存する。例えば数平均分子R1000の液状ブタジェン
重合体を用いた場合は、全酸価として400#tgK
OH/ g以上の値が必要である。
次に、本発明では上記のようにして得られた酸無水物の
付加物に、前記(I)式で表されるアルコール性水酸基
を有するα、β−不飽和モノカルボン酸エステルを反応
させ酸無水基の少なくとも一部を開環させた前記(a)
に記載の変性樹脂を製造する。
付加物に、前記(I)式で表されるアルコール性水酸基
を有するα、β−不飽和モノカルボン酸エステルを反応
させ酸無水基の少なくとも一部を開環させた前記(a)
に記載の変性樹脂を製造する。
前記式(1)におけるR3基の炭素数は、好ましくは2
〜20であり、含んでも良い好ましいヘテロ原子は窒素
および酸素である。
〜20であり、含んでも良い好ましいヘテロ原子は窒素
および酸素である。
具体的な前記(I)式で表されるアルコール性水酸基を
有するα、β−不飽和モノカルボン酸エステルは具体的
には、例えば2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−
ヒドロキシエチルメタクリレート、 2−ヒドロキシプ
ロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリ
レート、N−メチロールアクリルアミド、2−ヒドロキ
シ−3−フェノキシプロピルアクリレート、2−ヒドロ
キシ−3−フェノキシプロピルメタクリレート等があり
、これらは単独、または混合して用いることができる。
有するα、β−不飽和モノカルボン酸エステルは具体的
には、例えば2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−
ヒドロキシエチルメタクリレート、 2−ヒドロキシプ
ロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリ
レート、N−メチロールアクリルアミド、2−ヒドロキ
シ−3−フェノキシプロピルアクリレート、2−ヒドロ
キシ−3−フェノキシプロピルメタクリレート等があり
、これらは単独、または混合して用いることができる。
これらによる酸無水基の開環反応は通常塩基触媒の存在
下で、100℃以下の比較的低温で行なわれる。ここに
おいて、開環反応は必ずしも酸無水基の全部を行なう必
要がなく、例えば50%開環し、残りの酸無水基は不飽
和基を持たないアルコールや水で開環したものでよい。
下で、100℃以下の比較的低温で行なわれる。ここに
おいて、開環反応は必ずしも酸無水基の全部を行なう必
要がなく、例えば50%開環し、残りの酸無水基は不飽
和基を持たないアルコールや水で開環したものでよい。
また−級アミン含有化合物でイミド化したものも挙げら
れる。もちろん全ての酸無水基を開環させてもよい。な
お、この反応の際、これらに対し反応性を持たなく、か
つ両者を溶解する溶媒を用いることが好ましい。
れる。もちろん全ての酸無水基を開環させてもよい。な
お、この反応の際、これらに対し反応性を持たなく、か
つ両者を溶解する溶媒を用いることが好ましい。
この例としてトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類
、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケ
トン類、酢酸エチル等のエステル類、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチ
ルエーテル等の水酸基を有しないエーテル類、およびジ
アセトンアルコール等の三級アルコール類等が挙げられ
る。
、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケ
トン類、酢酸エチル等のエステル類、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチ
ルエーテル等の水酸基を有しないエーテル類、およびジ
アセトンアルコール等の三級アルコール類等が挙げられ
る。
何れにしろアルコール性水酸基を有するα、β−不飽和
モノカルボン酸エステルにより開環させる割合は、酸無
水基の10モル%以上、好ましくは30モル%以上であ
ることが光硬化性の点から適当である。10モル%未満
では、光硬化性が不十分となるので好ましくない。
モノカルボン酸エステルにより開環させる割合は、酸無
水基の10モル%以上、好ましくは30モル%以上であ
ることが光硬化性の点から適当である。10モル%未満
では、光硬化性が不十分となるので好ましくない。
かくすることにより前記(a)の変性樹脂が製造される
。
。
本発明で用いる前記(b)のアミノアクリレート類は、
前記の様に下記一般式(n)で表される化合物である。
前記の様に下記一般式(n)で表される化合物である。
(式中、R4およびR5は水素原子またはメチル、R6
はへテロ原子を含んでもよい炭素数2以上の炭化水素残
基、R7およびR8炭化水素残基) R6は、エチル、プロピル、ブチル等の好ましくは炭素
数20以下の炭化水素残基であり、R7およびR8はエ
チル、プロピル、ブチル等の炭化水素残基、好ましくは
炭素数20以下の炭化水素残基である。
はへテロ原子を含んでもよい炭素数2以上の炭化水素残
基、R7およびR8炭化水素残基) R6は、エチル、プロピル、ブチル等の好ましくは炭素
数20以下の炭化水素残基であり、R7およびR8はエ
チル、プロピル、ブチル等の炭化水素残基、好ましくは
炭素数20以下の炭化水素残基である。
この化合物として、具体的にはジメチルアミノエチルア
クリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジ
エチルアミノエチルメタクリレート等があり、これらは
単独または混合して用いることができる。
クリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジ
エチルアミノエチルメタクリレート等があり、これらは
単独または混合して用いることができる。
アミノアクリレール類(b)の添加量は、変性樹脂(a
) 100重量部に対し、3〜40重量部、好ましく
は3〜20重量部である。アミノアクリレール類(b)
の添加量が3重量部未満では目的とする光感度向上か十
分でなく、また添加量が40重量部を越えると、光感度
は十分であるが得られる樹脂組成物により形成された塗
膜にタックが生じ、露光時に密着するパターンマスクに
塗膜が付着するためいずれも好ましくない。より完全な
タックフリーを実現するには3〜20重量部の範囲にあ
ることが必要である。
) 100重量部に対し、3〜40重量部、好ましく
は3〜20重量部である。アミノアクリレール類(b)
の添加量が3重量部未満では目的とする光感度向上か十
分でなく、また添加量が40重量部を越えると、光感度
は十分であるが得られる樹脂組成物により形成された塗
膜にタックが生じ、露光時に密着するパターンマスクに
塗膜が付着するためいずれも好ましくない。より完全な
タックフリーを実現するには3〜20重量部の範囲にあ
ることが必要である。
アミノアクリレート類(b)の添加効果は次のように説
明される。
明される。
すなわち、一般に感光性樹脂組成物は、感光性基である
(メタ)アクリロイル基を持つ各成分が適切に共重合す
ることが光感度向上に大きく貢献するといわれている。
(メタ)アクリロイル基を持つ各成分が適切に共重合す
ることが光感度向上に大きく貢献するといわれている。
この共重合を速やかに遂行させるにはUV露先による光
重合開始剤の開裂時、各成分が均一に混合していること
が必要である。
重合開始剤の開裂時、各成分が均一に混合していること
が必要である。
本発明において変性樹脂(a)は(メタ)アクリロイル
基の近傍にカルボキシル基を有している。
基の近傍にカルボキシル基を有している。
方、アミノアクリレート類(b)は(メタ)アクリロイ
ル基の近傍にアミノ基を有している。ここでカルボキシ
ル基とアミノ基の酸−塩基の引力により、変性樹脂(a
)とアミノアクリレート類(b)は互いに引き付は合い
均一に混合されることになる。
ル基の近傍にアミノ基を有している。ここでカルボキシ
ル基とアミノ基の酸−塩基の引力により、変性樹脂(a
)とアミノアクリレート類(b)は互いに引き付は合い
均一に混合されることになる。
このように樹脂(a)とアミノアクリレート類(b)は
均一に混合され光照射時には適切に共重合されるために
、本発明の樹脂組成物は光感度が向上するものと考えら
れる。
均一に混合され光照射時には適切に共重合されるために
、本発明の樹脂組成物は光感度が向上するものと考えら
れる。
本発明で更に加える前記(c)の光重合開始剤とは、従
来公知の通常の光重合開始剤でよく、ベンゾイン、ベン
ゾインメチルエーテル、ベンゾインメチルエーテル、ベ
ンゾインイソブチルエーテル、ベンジル、ミヒラーケト
ン、2.4−ジエチルチオキサントン等に加え、通常イ
ルガキュアー 184、イルガキュアー 651、イル
ガキュアー 907(チバガイギー社)、フロキュア−
1173(メルク社)等の商品名で市販される市販品で
もよい。これらは単独または混合して使用することが出
来る。これらの使用量は変性樹脂(a) 100重量
部に対し0.1〜20重量部であり、0.1重量部より
少なくなると光硬化性が低下するので好ましくなく、2
0重量部より多くなると得られた感光性塗膜の強度が劣
化するので好ましくない。
来公知の通常の光重合開始剤でよく、ベンゾイン、ベン
ゾインメチルエーテル、ベンゾインメチルエーテル、ベ
ンゾインイソブチルエーテル、ベンジル、ミヒラーケト
ン、2.4−ジエチルチオキサントン等に加え、通常イ
ルガキュアー 184、イルガキュアー 651、イル
ガキュアー 907(チバガイギー社)、フロキュア−
1173(メルク社)等の商品名で市販される市販品で
もよい。これらは単独または混合して使用することが出
来る。これらの使用量は変性樹脂(a) 100重量
部に対し0.1〜20重量部であり、0.1重量部より
少なくなると光硬化性が低下するので好ましくなく、2
0重量部より多くなると得られた感光性塗膜の強度が劣
化するので好ましくない。
この塗膜にタックを生しさせない範囲で樹脂組成物に任
意の第4成分を加えることは許される。
意の第4成分を加えることは許される。
この第4成分としてトリメチロールプロパントリアクリ
レートやペンタエリスリトールトリアクリレート等の光
重合性モノマー アミノアクリレート等が挙げられる。
レートやペンタエリスリトールトリアクリレート等の光
重合性モノマー アミノアクリレート等が挙げられる。
本発明において、変性樹脂(a)、特定のアミノアクリ
レート類(b)および光重合開始剤(e)を配合した光
硬化性樹脂組成物は、従来公知の適当な溶剤に溶解させ
たいわゆるフェスとしてロールコータ、アプリケータ等
の塗布用塗料として用いられても良いし、水溶化または
水分散して電着塗装液としても用いられる。
レート類(b)および光重合開始剤(e)を配合した光
硬化性樹脂組成物は、従来公知の適当な溶剤に溶解させ
たいわゆるフェスとしてロールコータ、アプリケータ等
の塗布用塗料として用いられても良いし、水溶化または
水分散して電着塗装液としても用いられる。
後者の電着塗装の場合、水溶化または水分散化するため
には変性樹脂(a)の有する酸量のうち少なくとも10
%以上を通常の塩基化合物で中和する方法が好適に使用
できる。中和が少なければ水溶性または水分散性が悪く
、水系塗料として好ましくない。中和に用いられる塩基
としては、アンモニア、ジエチルアミン、トリエチルア
ミン、モノエタノールアミン、ジェタノールアミン、N
、 N−ジメチルエタノールアミン、N、N−ジメチ
ルベンジルアミン等のアミン類および水酸化カリウム等
が用いられる。また、水溶性あるいは水分散性を改良し
たり、塗膜のフロー性を調整する目的で、必要に応じ各
種の有機溶剤を使用することができる。このような有機
溶剤の例としては、エチルセルソルブ、ブチルセルソル
ブ、エチレングリコールジメチルエーテル、ジアセトン
アルコール、4−メトキシ−4−メチルペンタノン−2
、メチルエチルケトン等の水溶性有機溶剤、キシレン、
トルエン、メチルイソブチルケトン、2−エチルヘキサ
ノール等の非水系有機溶剤がある。
には変性樹脂(a)の有する酸量のうち少なくとも10
%以上を通常の塩基化合物で中和する方法が好適に使用
できる。中和が少なければ水溶性または水分散性が悪く
、水系塗料として好ましくない。中和に用いられる塩基
としては、アンモニア、ジエチルアミン、トリエチルア
ミン、モノエタノールアミン、ジェタノールアミン、N
、 N−ジメチルエタノールアミン、N、N−ジメチ
ルベンジルアミン等のアミン類および水酸化カリウム等
が用いられる。また、水溶性あるいは水分散性を改良し
たり、塗膜のフロー性を調整する目的で、必要に応じ各
種の有機溶剤を使用することができる。このような有機
溶剤の例としては、エチルセルソルブ、ブチルセルソル
ブ、エチレングリコールジメチルエーテル、ジアセトン
アルコール、4−メトキシ−4−メチルペンタノン−2
、メチルエチルケトン等の水溶性有機溶剤、キシレン、
トルエン、メチルイソブチルケトン、2−エチルヘキサ
ノール等の非水系有機溶剤がある。
また上記のように中和してなる電着塗料組成物は水系で
あるので、安全上および製造上の利点は明らかである。
あるので、安全上および製造上の利点は明らかである。
本発明の光硬化性樹脂組成物には、熱重合安定剤として
従来公知のハイドロキノン、2.6−ジ−ターシャルブ
チルバラクレゾール、バラベンゾキノン、ハイドロキノ
ンモノメチルエーテル、フェノチアジン、α−ナフチル
アミン等を適宜に配合し使用できる。
従来公知のハイドロキノン、2.6−ジ−ターシャルブ
チルバラクレゾール、バラベンゾキノン、ハイドロキノ
ンモノメチルエーテル、フェノチアジン、α−ナフチル
アミン等を適宜に配合し使用できる。
本発明の感光性組成物は任意の基板に塗布することが出
来るが、以下に銅張り積層板に塗布する場合を例に取り
説明する。
来るが、以下に銅張り積層板に塗布する場合を例に取り
説明する。
銅張り積層板への塗布方法は通常のデイツプコート、ロ
ールコート、カーテンコートのほか常法に従って水系塗
料とし電着法を用いて塗布してもよい。なお、乾燥は通
常120℃以下、好ましくは100℃以下で5〜20分
行なう。この時温度が120℃以上になると塗膜の熱硬
化が生じるため好ましくない。
ールコート、カーテンコートのほか常法に従って水系塗
料とし電着法を用いて塗布してもよい。なお、乾燥は通
常120℃以下、好ましくは100℃以下で5〜20分
行なう。この時温度が120℃以上になると塗膜の熱硬
化が生じるため好ましくない。
こうして得られた塗膜は常温でタックがなく平滑な塗布
を持つために回路パターン製造用の感光性塗膜に最適で
ある。
を持つために回路パターン製造用の感光性塗膜に最適で
ある。
この銅張り積層板に塗布した感光性塗膜に、ネガ型マス
クを□介して紫外線等の活性線を露光し、マスクの露光
部の塗膜を硬化せしめる。
クを□介して紫外線等の活性線を露光し、マスクの露光
部の塗膜を硬化せしめる。
硬化のための活性線は、光重合開始剤の吸収波長によっ
ても異なるが通常は、キセノンランプ、メタルハライド
ランプ、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧
水銀灯等の光源から発せられる紫外線または電子線加速
器から取り出される電子線、α線、β線、γ線等の活性
エネルギー線である。光源光度、照射時間等は適宜に決
定することが出来る。活性線を照射する雰囲気としては
大気中でもまた窒素等の不活性雰囲気下でも良い。
ても異なるが通常は、キセノンランプ、メタルハライド
ランプ、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧
水銀灯等の光源から発せられる紫外線または電子線加速
器から取り出される電子線、α線、β線、γ線等の活性
エネルギー線である。光源光度、照射時間等は適宜に決
定することが出来る。活性線を照射する雰囲気としては
大気中でもまた窒素等の不活性雰囲気下でも良い。
光硬化後、適当な現像液で現像することにより、未露光
部が溶出して回路パターン部の導電性被膜が露出し、こ
れをエツチング液で除去し、さらに適当な剥離液で硬化
塗膜を除くことにより、極めて高解像度の配線パターン
が完成する。なお、現像後、耐エツチング性をより高め
るため、さらにUV照射や120℃以上の温度で残存塗
膜の後硬化をおこなってもよい。
部が溶出して回路パターン部の導電性被膜が露出し、こ
れをエツチング液で除去し、さらに適当な剥離液で硬化
塗膜を除くことにより、極めて高解像度の配線パターン
が完成する。なお、現像後、耐エツチング性をより高め
るため、さらにUV照射や120℃以上の温度で残存塗
膜の後硬化をおこなってもよい。
[発明の効果コ
本発明により実機の露光装置においても実質的にタック
フリーでかつ十分な硬度を有する感光性塗膜が得られる
。従って、本発明の光硬化性樹脂組成物は光感元型のプ
リント配線板の製造方法に適するものである。
フリーでかつ十分な硬度を有する感光性塗膜が得られる
。従って、本発明の光硬化性樹脂組成物は光感元型のプ
リント配線板の製造方法に適するものである。
「実施例」
以下に本発明を実施例等によって詳細に説明する。なお
、本発明は以下の実施例には限定されない。
、本発明は以下の実施例には限定されない。
製造例1
ベンジルナトリウムを触媒とし、連鎖移動剤トルエンの
存在下に30℃でブタジェンを重合させて得られた数平
均分子量1000.25℃における粘度14ボイズ、
1.2結合65%の液状ブタジェン重合体322g、無
水マレイン酸245g、キシレンlOgおよびアンチゲ
ン6C(住友化学■製、商品名)1.1gを還流冷却管
および窒素吹き込み管付きのIJのセパラブルフラスコ
に仕込み、窒素気流下に 190℃で4.5時間反応さ
せた。次に未反応無水マレイン酸、キシレンを留去させ
、全酸価480りKOH/gのマレイン化ブタジェン重
合体を合成した。このものの軟化点(環球式軟化点 J
IS−に−2531−60)は128℃であった。
存在下に30℃でブタジェンを重合させて得られた数平
均分子量1000.25℃における粘度14ボイズ、
1.2結合65%の液状ブタジェン重合体322g、無
水マレイン酸245g、キシレンlOgおよびアンチゲ
ン6C(住友化学■製、商品名)1.1gを還流冷却管
および窒素吹き込み管付きのIJのセパラブルフラスコ
に仕込み、窒素気流下に 190℃で4.5時間反応さ
せた。次に未反応無水マレイン酸、キシレンを留去させ
、全酸価480りKOH/gのマレイン化ブタジェン重
合体を合成した。このものの軟化点(環球式軟化点 J
IS−に−2531−60)は128℃であった。
得られたマレイン化ブタジェン重合体200g。
ジアセトンアルコール180g、ヒドロキノン0.2g
を還流冷却管および空気吹き込み管付きの IJのセパ
ラブルフラスコに仕込み、80℃のオイルノくスに漬け
、フラスコ内を軽く撹拌しマレイン化ブタジェン重合体
を完全に溶解させた。
を還流冷却管および空気吹き込み管付きの IJのセパ
ラブルフラスコに仕込み、80℃のオイルノくスに漬け
、フラスコ内を軽く撹拌しマレイン化ブタジェン重合体
を完全に溶解させた。
次いで、吹き込み管にて空気を少量づつ反応混合液内に
吹き込みつつ、2−ヒドロキシプロピルアクリレート
117.6g 、およびトリエチルアミンlegを加え
、70℃で6時間反応させて変性樹脂Aを得た。変性樹
脂Aの不揮発分濃度は57%、酸価は178ay K
OH/樹脂gてあった。
吹き込みつつ、2−ヒドロキシプロピルアクリレート
117.6g 、およびトリエチルアミンlegを加え
、70℃で6時間反応させて変性樹脂Aを得た。変性樹
脂Aの不揮発分濃度は57%、酸価は178ay K
OH/樹脂gてあった。
実施例1
製造例1て得られた変性樹脂Aに、ジメチルアミノエチ
ルメタクリレート(和光純薬玉業観製)を樹脂固形分1
00重量部に対し10重量部となるように加え、さらに
光重合開始剤イルガキュア907(チバガイギー社)を
樹脂固形分に対し7.2重量%、2.4−ジエチルチオ
キサントンを同様に0.8重量%となるように加え、遮
光しつつ40℃以下で1時間撹拌することにより、光硬
化性樹脂組成物を調製した。
ルメタクリレート(和光純薬玉業観製)を樹脂固形分1
00重量部に対し10重量部となるように加え、さらに
光重合開始剤イルガキュア907(チバガイギー社)を
樹脂固形分に対し7.2重量%、2.4−ジエチルチオ
キサントンを同様に0.8重量%となるように加え、遮
光しつつ40℃以下で1時間撹拌することにより、光硬
化性樹脂組成物を調製した。
予めブラッシングし、さらに洗浄脱脂した銅張り積層板
に、この組成物をアプリケータにて塗布し、80℃にて
20分乾燥し、15μmの厚みを持つ塗膜を得た。
に、この組成物をアプリケータにて塗布し、80℃にて
20分乾燥し、15μmの厚みを持つ塗膜を得た。
得られた塗膜について後述する指触タック試験および感
光性試験を行ない、結果を第1表に示した。
光性試験を行ない、結果を第1表に示した。
実施例2
製造例1で得られた変性樹脂Aに、ジメチルアミノエチ
ルメタクリレート(和光純薬工業妹製)を樹脂固形分1
00重量部に対し5重量部となるように加え、さらに光
重合開始剤イルガキュア907(チバガイギー社)を樹
脂固形分に対し7,2重量%、2,4−ジエチルチオキ
サントンを同様に0.8重量%となるように加え、上記
樹脂の酸基の1/3を中和する量のトリエチルアミンを
加え、常法により水分散して、光硬化性電着塗料組成物
を調製した。この組成物の非揮発分は15%、pHは6
.9、電導度は1.55+ms/ca+であった。
ルメタクリレート(和光純薬工業妹製)を樹脂固形分1
00重量部に対し5重量部となるように加え、さらに光
重合開始剤イルガキュア907(チバガイギー社)を樹
脂固形分に対し7,2重量%、2,4−ジエチルチオキ
サントンを同様に0.8重量%となるように加え、上記
樹脂の酸基の1/3を中和する量のトリエチルアミンを
加え、常法により水分散して、光硬化性電着塗料組成物
を調製した。この組成物の非揮発分は15%、pHは6
.9、電導度は1.55+ms/ca+であった。
次いで、下記組成のワックスエマルジョンを固形分換算
で変性樹脂に対して1重量部加えた。
で変性樹脂に対して1重量部加えた。
この電着液を用いて以下に示す条件で、予めブラッシン
グし、さらに洗浄脱脂した銅張り積層板に電着塗装して
、水切り後、100℃にて5分乾燥することにより、1
5μ膳の厚みを持つ塗膜を得た。
グし、さらに洗浄脱脂した銅張り積層板に電着塗装して
、水切り後、100℃にて5分乾燥することにより、1
5μ膳の厚みを持つ塗膜を得た。
得られた塗膜について後述する指触タック試験および感
光性試験を行ない、結果を第1表に示した。
光性試験を行ない、結果を第1表に示した。
ワックスエマルジョン
融点57.1’Cのパラフィンワックス 27.0重1
%マレイン化ポリエチレンワックス 9.0重量%水
残 部*
マレイン化ポリエチレンワックス 酸価(ASTM D 138B ) 80mgK
OH/ g融 点
69℃平均分子量 730 (電着条件) 電着方法:アニオン電着 定電流法=90〜110mA/dII2* 3分実施
例3 製造例1で得られた変性樹脂Aに、ジメチルアミノエチ
ルメタクリレート(和光純薬玉業■製)を樹脂固形分1
00重量部に対し30重量部となるように加え、さらに
光重合開始剤イルガキュアー907(チバガイギー社)
を樹脂固形分に対し7.2重量%、2,4−ジエチルチ
オキサントンを同様に08重量%となるように加え、遮
光しつつ40℃以下で1時間撹拌することにより、光硬
化性樹脂組成物を調製した。
%マレイン化ポリエチレンワックス 9.0重量%水
残 部*
マレイン化ポリエチレンワックス 酸価(ASTM D 138B ) 80mgK
OH/ g融 点
69℃平均分子量 730 (電着条件) 電着方法:アニオン電着 定電流法=90〜110mA/dII2* 3分実施
例3 製造例1で得られた変性樹脂Aに、ジメチルアミノエチ
ルメタクリレート(和光純薬玉業■製)を樹脂固形分1
00重量部に対し30重量部となるように加え、さらに
光重合開始剤イルガキュアー907(チバガイギー社)
を樹脂固形分に対し7.2重量%、2,4−ジエチルチ
オキサントンを同様に08重量%となるように加え、遮
光しつつ40℃以下で1時間撹拌することにより、光硬
化性樹脂組成物を調製した。
予めブラッシングし、さらに洗浄脱脂した銅張り積層板
に、この組成物をアプリケータにて塗布し、80℃にて
20分乾燥し、15μmの厚みを持つ塗膜を得た。
に、この組成物をアプリケータにて塗布し、80℃にて
20分乾燥し、15μmの厚みを持つ塗膜を得た。
得られた塗膜について後述する指触タック試験および感
光性試験を行ない、結果を第1表に示した。
光性試験を行ない、結果を第1表に示した。
比較例1
製造例1で得られた変性樹脂Aと、全固形分に対し8重
量%となるように光重合開始剤ベンゾインイソブチルエ
ーテルを加え、遮光しつつ40℃以下で1時間撹拌する
ことにより、光硬化性樹脂組成物を調製した。
量%となるように光重合開始剤ベンゾインイソブチルエ
ーテルを加え、遮光しつつ40℃以下で1時間撹拌する
ことにより、光硬化性樹脂組成物を調製した。
予めブラッシングし、さらに洗浄脱脂した銅張り積層板
に、この組成物をアプリケータにて塗布し、80℃にて
20分乾燥し、15μlの厚みを持つ塗膜を得た。
に、この組成物をアプリケータにて塗布し、80℃にて
20分乾燥し、15μlの厚みを持つ塗膜を得た。
得られた塗膜について後述する指触タック試験および感
光性試験を行なった。結果を第1表に示した。
光性試験を行なった。結果を第1表に示した。
比較例2
製造例1で得られた変性樹脂Aと、全固形分に対し8重
1it9oとなるように光重合開始剤イルガキュアー
907(チバガイギー社)を加え、樹脂の酸基の 1/
3を中和する量のトリエチルアミンを加え、常法により
水分散して、光硬化性電着塗料組成物を調製した。この
組成物の゛非揮発分は15%、pHは6.6、電導度は
1.80m5/cIRであった。
1it9oとなるように光重合開始剤イルガキュアー
907(チバガイギー社)を加え、樹脂の酸基の 1/
3を中和する量のトリエチルアミンを加え、常法により
水分散して、光硬化性電着塗料組成物を調製した。この
組成物の゛非揮発分は15%、pHは6.6、電導度は
1.80m5/cIRであった。
この電着液を用いて実施例3に示す条件で、予めブラッ
シングし、さらに洗浄脱脂した銅張り積層板に電着塗装
して、水切り後、100℃にて5分乾燥することにより
、15μlの厚みを持つ塗膜を得た。
シングし、さらに洗浄脱脂した銅張り積層板に電着塗装
して、水切り後、100℃にて5分乾燥することにより
、15μlの厚みを持つ塗膜を得た。
得られた塗膜について後述する指触タック試験および感
光性試験を行なった。結果を第1表に示した。
光性試験を行なった。結果を第1表に示した。
(感光性試験)
30.50. 100μmの幅のパターンラインを持つ
評価用回路パターンマスクを用いて、以下の露光、現像
条件でパターンラインを形成し、顕微鏡観察によりパタ
ーン再現性を評価した。
評価用回路パターンマスクを用いて、以下の露光、現像
条件でパターンラインを形成し、顕微鏡観察によりパタ
ーン再現性を評価した。
O:パターンが形成される。
×:パターンが形成されない。
(1)露光条件
露光装置;ウシオ電機製 UVC−2813光 源 ;
メタルハライドランプ 光 量 ;84IIJ/Cat (2)現像条件 現像装置 ;自社製スプレー装置(スプレー圧1.3E
JiF/cm) 現 像 液; 1%炭酸ソーダ水 現像液温度;、30℃
メタルハライドランプ 光 量 ;84IIJ/Cat (2)現像条件 現像装置 ;自社製スプレー装置(スプレー圧1.3E
JiF/cm) 現 像 液; 1%炭酸ソーダ水 現像液温度;、30℃
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、(a)数平均分子量が500〜5000、ビニル基
含有量が50モル%以上の共役ジエン重合体または共役
ジエン共重合体から誘導される、軟化点(JIS−K−
2531−60の環球式軟化点測定法による)が70〜
200℃の範囲にあるα,β−不飽和ジカルボン酸無水
物付加物に、 一般式、 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R_1およびR_2は水素原子またはメチル、
R_3はヘテロ原子を含んでもよい炭素数2以上の炭化
水素残基) で表わされるアルコール性水酸基を持つα,β−不飽和
モノカルボン酸エステルを反応させることにより該付加
物の酸無水基を少なくとも10モル%開環させることに
より得られた変性樹脂100重量部、 (b)下記一般式(II)で表わされるアミノアクリレー
ト類3〜40重量部、 一般式、 ▲数式、化学式、表等があります▼ (II) (式中、R_4およびR_5は水素原子またはメチル、
R_6はヘテロ原子を含んでもよい炭素数2以上の炭化
水素残基、R_7およびR_8炭化水素残基)、および (c)光重合開始剤0.1〜20重量部、 からなることを特徴とする光硬化性樹脂組成物。 2、前記変性樹脂(a)100重量部に対し、前記アミ
ノアクリレート類(b)3〜20重量部、前記光重合開
始剤(c)0.1〜20重量部よりなる請求項1または
2に記載の組成物。 3、前記α,β−不飽和ジカルボン酸無水物が無水マレ
イン酸である請求項1または2に記載の組成物。 4、前記α,β−不飽和モノカルボン酸エステルが、2
−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレー
ト、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−ヒド
ロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、2−ヒ
ドロキシ−3−フェノキシプロピルメタクリレートより
なる群から選ばれる請求項1または2に記載の組成物。 5、前記共役ジエンがブタジエンである請求項1または
2に記載の組成物。 6、前記(b)のアミノアクリレート類が油溶性である
請求項1または2に記載の組成物。 7、前記(b)のアミノアクリレート類がN,N−ジエ
チルアミノエチルアクリレートまたはN,N−ジエチル
アミノエチルメタクリレートである請求項1または2に
記載の組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017970A JPH03223317A (ja) | 1990-01-30 | 1990-01-30 | 光硬化性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017970A JPH03223317A (ja) | 1990-01-30 | 1990-01-30 | 光硬化性樹脂組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03223317A true JPH03223317A (ja) | 1991-10-02 |
Family
ID=11958591
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2017970A Pending JPH03223317A (ja) | 1990-01-30 | 1990-01-30 | 光硬化性樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03223317A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001057094A3 (en) * | 2000-02-07 | 2002-02-21 | Sartomer Co Inc | Curable polymeric compositions |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52117385U (ja) * | 1976-03-02 | 1977-09-06 | ||
| JPS641697U (ja) * | 1987-06-24 | 1989-01-06 |
-
1990
- 1990-01-30 JP JP2017970A patent/JPH03223317A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52117385U (ja) * | 1976-03-02 | 1977-09-06 | ||
| JPS641697U (ja) * | 1987-06-24 | 1989-01-06 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001057094A3 (en) * | 2000-02-07 | 2002-02-21 | Sartomer Co Inc | Curable polymeric compositions |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPWO1991011473A1 (ja) | 光硬化性樹脂組成物および光硬化性樹脂の製造方法 | |
| TWI417660B (zh) | A photohardenable thermosetting resin composition and a printed circuit board obtained using the same | |
| US5942371A (en) | Aqueous acrylic photopolymerisable compositions | |
| JPH0154390B2 (ja) | ||
| JPS63258975A (ja) | ソルダーレジストインキ組成物 | |
| JP2962739B2 (ja) | 光硬化塗膜の形成方法 | |
| JP2873705B2 (ja) | 光硬化性樹脂組成物 | |
| JP2003228166A (ja) | ネガ型感光性樹脂組成物 | |
| JP2700933B2 (ja) | 永久保護膜用樹脂組成物および永久保護膜の製造方法 | |
| JP2873706B2 (ja) | 光硬化性樹脂組成物 | |
| JPH03223317A (ja) | 光硬化性樹脂組成物 | |
| US5523383A (en) | Photocurable resin composition for the preparation of a printed wiring board and process for the preparation of photocurable resin | |
| JP2877868B2 (ja) | 光硬化性樹脂組成物 | |
| JPH03223314A (ja) | 光硬化性樹脂組成物 | |
| KR940003366B1 (ko) | 광경화성수지조성물 및 광경화성수지의 제조방법 | |
| KR950001287B1 (ko) | 광경화성 수지조성물 | |
| JP4132722B2 (ja) | ネガ型水溶性感光性樹脂組成物およびそれに用いられる光重合性モノマー | |
| TWI305222B (ja) | ||
| JPH03223318A (ja) | 光硬化性樹脂組成物 | |
| JPH07219221A (ja) | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルム | |
| JPH0299504A (ja) | 永久保護膜用樹脂組成物および永久保護膜の製造方法 | |
| JP2002341530A (ja) | ネガ型水溶性感光性樹脂組成物 | |
| JPH0139570B2 (ja) | ||
| JPH03100185A (ja) | レジストパターンの製造法 | |
| JPH04107459A (ja) | 光重合速度が増大した感光性組成物 |