JPH0139570B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0139570B2
JPH0139570B2 JP4921882A JP4921882A JPH0139570B2 JP H0139570 B2 JPH0139570 B2 JP H0139570B2 JP 4921882 A JP4921882 A JP 4921882A JP 4921882 A JP4921882 A JP 4921882A JP H0139570 B2 JPH0139570 B2 JP H0139570B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polyene
acid
methacrylate
composition
solution
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP4921882A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS57176035A (en
Inventor
Purosuko Suteiibun
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
EIDP Inc
Original Assignee
EI Du Pont de Nemours and Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by EI Du Pont de Nemours and Co filed Critical EI Du Pont de Nemours and Co
Publication of JPS57176035A publication Critical patent/JPS57176035A/ja
Publication of JPH0139570B2 publication Critical patent/JPH0139570B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】
本発明は䞍飜和重合䜓メルカプト酞およびラゞ
カル開始系を含有する光感受性組成物、前蚘組成
物から補造された゚レメント、および前蚘゚レメ
ントの光画像圢成法に関する。 発明の技術的背景ずしおは次のものがあげられ
る。 米囜特蚱第4179531号明现曞は、モノアルケニ
ル芳銙族ゞ゚ン共重合䜓暹脂、光亀叉結合性
含有単量䜓、ポリチオヌルおよび光開始剀を包
含する硬化性組成物を開瀺しおいる。 米囜特蚱第4234676号明现曞は䞍飜和重合䜓、
単量䜓、チオヌルおよび硬化剀を含有する硬化性
組成物を開瀺しおいる。 米囜特蚱第4248960号明现曞はその䞋偎薄局組
成物が奜たしくは光硬化性重合䜓組成物であるレ
リヌフ生成性積局䜓を開瀺しおいる。 米囜特蚱第4266004号明现曞は酞玠および光増
感剀の存圚䞋におけるある皮の有機サルフアむド
含有重合䜓の光画像圢成法を開瀺しおいる。 英囜特蚱第1390711号および米囜特蚱第3767398
号各明现曞はメチルビニル゚ヌテルマレむン酞
無氎物共重合䜓のモノアリル゚ステル反埩単䜍を
有する重合䜓およびポリチオヌルよりなりそしお
光硬化速床促進剀を含有するかたたはこれを含有
しおいない硬化性組成物を開瀺しおいる。 米囜特蚱第3809633号明现曞は分子内に反応性
䞍飜和炭玠―炭玠官胜基およびたたは反応性チ
オヌル基を含有する鎖延長ポリチオ゚ヌテル含有
重合䜓組成物を開瀺しおいる。 米囜特蚱第3660088号明现曞はポリ゚ン、ポリ
チオヌルおよび光硬化速床促進剀よりなる光硬化
性組成物を䜿甚する金属゚ツチング法を開瀺しお
いる。 米囜特蚱第3936530号明现曞はスチレン―アリ
ルアルコヌル共重合䜓ベヌスのポリ゚ンおよびポ
リチオヌル成分よりなる硬化性コヌテむング組成
物を開瀺しおいる。 米囜特蚱第3627529号明现曞ぱチレン性䞍飜
和ポリ゚ン、ポリチオヌルおよび光硬化性速床促
進剀の光硬化性組成物から石版印刷プレヌトを補
造する方法を開瀺しおいる。 米囜特蚱第4179295号明现曞は、分子䞭に脂肪
族䞍飜和結合を有する有機ポリシロキサンおよび
メルカプト含有有機ポリシロキサンを含有しおお
りそしおその有機ポリシロキサンが亀叉結合圢成
を行わせる玫倖線照射により硬化される光感受性
組成物を開瀺しおいる。 米囜特蚱第4130469号明现曞は、懞垂メルカプ
タン基を含有する重合䜓およびビスマレむミド亀
叉結合剀を含有する硬化性コヌテむング組成物を
開瀺しおいる。 英囜特蚱第1179252号明现曞は熱可塑性匟性組
成物の補造におけるカルボキシル基を含有するブ
タゞ゚ン重合䜓の䜿甚を開瀺しおいる。 米囜特蚱第2589151号明现曞は、遊離ラゞカル
開始剀を䜿甚しお溶液䞭で補造されたブタゞ゚ン
重合䜓のチオグリコヌル酞アダクト付加物を
開瀺しおおり、そしおそのアダクトの構造は「J.
Am.Chem.Soc.」第70巻第1804〜1808頁1948
䞭に曎に論じられおいる。 「Ind.Eng.Chem.」第45巻第2090〜2093頁
1953は極性基含有チオヌル䟋えばメルカプト
酢酞の添加によ぀おポリブタゞ゚ンを倉性せしめ
お改善された耐油性の重合䜓を生成させるこずを
開瀺しおいる。 「Research Disclosure」第143巻第24頁
1976は液䜓゚レクトログラフむヌ展開剀䞭の
成分ずしおの䞍飜和重合䜓のメルカプト酞誘導䜓
の䜿甚を開瀺しおいる。 本発明は次の成分すなわち (i) 成分(i)(ii)および(iii)の党重量の玄10〜90
の、玄1000〜1000000の数平均分子量を有しそ
しお100圓り玄20〜1800ミリ圓量の反応性䞍
飜和炭玠―炭玠基を含有するポリ゚ン、 (ii) 成分(i)(ii)および(iii)の党重量の玄〜70
の
反応性メルカプト酞、および (iii) 成分(i)(ii)および(iii)の党重量の玄0.001〜
50
の掻性線攟射によ぀お掻性化されおポリ゚ン
ぞのメルカプト酞の付加を開始せしめうる攟射
感受性ラゞカル生成系 を包含する光感受性組成物に関する。 本発明はたた玄0.1Ό〜7600Όたたはそれ以
䞊の範囲の厚さを有する光感受性組成物の局をコ
ヌテむングした基質を包含する光感受性゚レメン
トにも関する。奜たしい光感受性゚レメントはホ
トレゞストおよびプルヌフ系に䜿甚される。その
基質は任意の倩然たたは合成支持䜓奜たしくは可
撓性たたは剛性のフむルムたたはシヌトの圢態で
存圚しうるものでありうる。 本発明はたた、画像含有透明䜓を通しお2000〜
5000Åの波長を含有する掻性線攟射に光感受性゚
レメントを像様露光させ、そしおその像を珟像凊
理するこずを包含する光画像圢成法にも関する。 「反応性」䞍飜和炭玠―炭玠基なる衚珟は、掻
性線攟射の䞋で光増感剀の存圚䞋にメルカプト酞
のチオヌル基ず反応しおチオ゚ヌテル結合、
【匏】を生成する基を意味しおおり、こ れは芳銙栞䟋えばベンれン、ピリゞン、ナフタレ
ンその他に䟋瀺される環状構造䞭に芋出される、
同䞀条件䞋にチオヌル基ず反応しおチオ゚ヌテル
結合を生成させない「非反応性」基
【匏】 に察立するものである。 「䞍飜和炭玠炭玠基」なる語は および を意味しおいる。ポリ゚ンはそのような䞍飜和基
の䞀぀のタむプを含有しうるし、たたはそれは
皮たたはそれ以䞊のそのようなタむプを含有しう
る。これらの基は盞互に独立したものでありうる
したたは共圹したもの䟋えば―ゞ゚ンであ
りうるしたたは隣接する非反応性基 䟋えば―    ―、カルボニル、スルホニル、 ホスホニルその他ず共圹したものでありうる。 光感受性組成物の成分(i)のポリ゚ンは、玄5000
〜100000の奜たしい数平均分子量、およびポリ゚
ン100圓り玄50〜1000ミリ圓量の奜たしい皋床
の反応性䞍飜和炭玠―炭玠基を含有しおいる。奜
たしいポリ゚ン量は成分(i)(ii)および(iii)の党重量
の玄40〜80である。 ポリ゚ンの反応性䞍飜和炭玠―炭玠基は䞻重合
䜓䞭に末端的にか、末端近くにかそしおたたは
䞻重合䜓鎖から懞垂しお䜍眮しおいるこずが奜た
しい。「末端」なる語はその反応性基が分子内の
䞻鎖の端にあるこずを意味しおおり、䞀方「末端
近く」ずいうこずはその反応性基が分子䞭の䞻鎖
の端から炭玠原子16個以䞊は離れおいないこずを
意味しおいる。「懞垂」なる語は反応性基が䞻鎖
の端郚たたは端郚近くの䜍眮ず察照的に、䞻鎖の
分枝䞭に末端的にかたたは末端近くに䜍眮しおい
るこずを意味する。簡䟿の目的で、これらのいず
れかの䜍眮の䞍飜和は本明现曞䞭では「末端」䞍
飜和ずしお蚀及される。 奜たしいポリ゚ンは
〔方法 〕
メチルメタクリレヌト―ブチルメタクリレ
ヌトシンナミルメタクリレヌト454510
ランダム共重合䜓を次の方法により補造した。 この重合に察するすべおのガラス噚具は䜿甚前
に時間の間150℃でオヌブン也燥させた。装眮
を熱いうちに集成し、冷华するたでアルゎン眮換
させた。反応はアルゎンの陜圧䞋に実斜された。
テトラヒドロフランTHFを窒玠䞋にベンゟ
プノンナトリりムから新たに蒞留した。新た
に蒞留したシンナミルメタクリレヌトb.p.79〜
80゜0.005mm、5.06、25ミリモル、―ブチル
メタクリレヌト16.00、112ミリモルおよび
メチルメタクリレヌト11.26、112ミリモル
を混合し、䞭性アルミナを通しお過し、そしお
15分間アルゎンで脱気させた。別個にガラス機械
的撹拌機、枩床蚈プロヌベ、ゎム血枅キダツプお
よびアルゎン導入口を付した250ml容頚フラス
コに、THF300mlおよびゞプニル゚チレン
再蒞留、b.p.90゜mm、0.44、2.5ミリモル
を仕蟌んだ。この溶液を0゜に冷华し、そしお―
ブチルリチりム1.6Mヘキサン䞭、1.7ml、2.5ミ
リモルを加えた。血赀色溶液を−78゜に冷华し
そしお単量䜓混合物25.9、0.2モルをその
枩床が−70゜を越えないような速床10分で加
えた。15分埌酢酞0.2ml、ミリモルを加え、
そしお加枩した溶液を氎䞭に泚いだ。粒
状固䜓共重合䜓を単離しそしお真空デシケヌタヌ
䞭で䞀晩也燥させるず、シンナミルメタクリレヌ
ト共重合䜓25.8、100が埮现な癜色粉末
ずしお埗られた。90MHZ1H NMRスペクトルは
なかんずく4.5ブロヌド、d.J玄OC 2
CHC6H5、3.8ブロヌド、玄OC
2CH2CH2CH3および3.5OCH3のバンド
を1521の比で瀺したが、これは共重合䜓䞭
シンナミル―、47ブチル―および44メチ
ルメタクリレヌトの組成に盞圓する。ゲル透過ク
ロマトグラフむヌGPCo9700w10000。
走査瀺差カロリメトリヌによるTgDSC54゜。 〔方法 〕 メチルメタクリレヌトブチルメタクリレヌ
トアリルメタクリレヌトの404020ラン
ダム共重合䜓を次の方法により補造した。 すべおのガラス噚具および詊薬は方法におけ
るように準備された。アリルメタクリレヌト
15.14、0.12モル、ブチルメタクリレヌト
34.13、0.24モルおよびメチルメタクリレヌ
ト24.03、0.24モルを混合し、アルミナ
10を通しお過しそしおアルゎンで脱気し
た。方法におけるように装眮した500mlのフラ
スコにTHF300mlおよびカリりム第玚ブト
キシド5.61、0.05モルを仕蟌んだ。単量䜓
混合物61.1、0.5モルを23分間にわた぀お
滎加した。枩床はこの間に25゜から53゜に䞊昇し、
そしお次いで25゜に䜎䞋した。酢酞ml、70ミ
リモルを加えそしおこの反応混合物をブレンダ
ヌ䞭の氎に泚いだ。単離された共重合䜓
を真空デシケヌタヌ䞭で也燥させおアリルメタク
リレヌト共重合䜓59、97を埮现な癜色粉
末ずしお生成させた。MMR分析はその共重合䜓
組成が2.1アリル―、44ブチル―および35
メチルメタクリレヌトであるこずを瀺した。
GPCo6000w10000。 方法および方法により補造されたその他の
䞍飜和共重合䜓が衚に瀺されおいるがここに
MMAはメチルメタクリレヌトであり、BMAは
―ブチルメタクリレヌトである。
【衚】 リレヌト
【衚】 䟋  次の成分を混合するこずによ぀お、光感受性組
成物の20固䜓分コヌテむング溶液を補造した。 共重合䜓 1.00 メルカプトコハク酞 0.150 ゚チレングリコヌルゞカプリレヌト可塑剀
0.100 ベンゟプノンラゞカル生成剀 0.072 ―メチル――ゞ第玚ブチルプノヌ
ル阻害剀 0.010 メチレンクロリドメタノヌル95溶媒
5.328 ミル200Όドクタヌナむフを䜿甚しお
この溶液を新たに軜石で研磚したブランク銅積局
板䞊にコヌテむングした。コヌテむングした積局
板を空気䞭で宀枩で也燥させるず玄25Ό厚さの
透明で平滑な非粘着性フむルムが埗られた。この
コヌテむングした積局板を100Wランプシルバ
ニアフラツドランプ、―44―JM―100を包含
するりルトラバむオレツト・プロダクツ瀟補露光
源モデル―100Aに玄250mmHg圧でガラス
真空フレヌムヌアヌク瀟補品䞭で分間像様
露光せしめた。ランプは赀倖線フむルタヌなしで
板からむンチ17.8cmの距離で操䜜された。
プロセス透明画を露光の間板に密着保持せしめ
た。露光埌、板を氎む゜プロピルアルコヌル
玄1/1䞭の0.5氎酞化ナトリりムの溶液に浞
挬しそしおその衚面をしずかにやわらかなブラシ
でこするこずにより宀枩で珟像した。板の露光郚
分ではフむルムは迅速に溶解した。完党に積局板
の銅衚面たで像が珟出された時点で氎で掗うこず
により珟像を停止した。 露光時間を12分に䞊昇させるず、プロセス透明
画の透明画像に正確に盞圓するきれいなシダヌプ
な画像が銅衚面䞊に描かれた。この実隓においお
は、珟像は玄4.5の氎――ブトキシ
゚トキシ゚タノヌル溶媒混合物䞭0.8の炭酞
ナトリりム溶液を䜿甚しお35℃で実斜された。 䟋  䟋に蚘茉のようにしお補造されたコヌテむン
グ溶液をミル125Όドクタヌナむフを䜿
甚しお新たに軜石研磚したブランク銅積局板䞊に
コヌテむングした。このコヌテむングした板を也
燥させ、そしおこの板の䞀郚を前蚘のようにしお
プロセス透明画を通しお露光せしめた。露光埌、
この板を30〜35゜で皮々の時間の間マグネチツク
スタヌラヌで撹拌し぀぀氎――ブトキシ
゚トキシ゚タノヌル䞭の0.8炭酞ナ
トリりム溶液䞭で珟像した。その結果は衚に芁
玄されおいる。
【衚】 ダヌプな画像
コヌテむングした板のその他の郚分を12分間真
空フレヌム䞭で倧気圧䞋にガラスの䞋で露光させ
た。像は分の珟像時間で完党に珟像された。 コヌテむングした板のその他の郚分を空気䞭で
12分間露光させた。完党に珟像された画像は分
の珟像時間で埗られた。すなわちこの光感受性組
成物の写真速床には、酞玠は有意の悪圱響を䞎え
ない。この珟像された板を30分間106゜で送颚オヌ
ブン䞭で焌付けベヌキングした。それを次い
で宀枩で20〜30分間暙準塩化第二鉄゚ツチング济
䞭で゚ツチングさせた。露光画像パタヌンは未露
光ホトレゞストたたはその䞋にある銅に圱響を䞎
えるこずなく積局板の裏ばりパツキングたで
シダヌプに゚ツチングされた。 䟋  次のようにしお光感受性組成物のコヌテむング
溶液を補造した。 共重合䜓 1.00 メルカプトコハク酞 0.150 ゚チレングリコヌルゞカプリレヌト 0.143 ベンゞルゞメチルケタヌル 0.027 ―メチル――ゞ第玚ブチルプノヌ
ル 0.002 ベンゟトリアゟヌル 0.003 メチレンクロリドメタノヌル9010溶媒
5.300 ミル125Όドクタヌナむフを䜿甚しお
この溶液を新たに軜石研磚したブランク銅積局板
䞊にコヌテむングした。このコヌテむングした板
を也燥させ、そしおその板の䞀郚を䟋に蚘茉の
ようにしおプロセス透明画を通しお露光させた。
露光埌、この板を30゜〜35゜で皮々の時間の間、マ
グネチツクスタヌラヌで撹拌し぀぀、氎―
―ブトキシ゚トキシ゚タノヌル䞭
の0.8炭酞ナトリりム溶液䞭で珟像させた。そ
の結果は衚に芁玄されおいる。
【衚】 ダヌプな画像
䟋  次のようにしお光感受性組成物のコヌテむング
溶液を補造した。 共重合䜓 1.00 メルカプトコハク酞 0.100 ゚チレングリコヌルゞカプリレヌト 0.166 ベンゞルメチルケタヌル 0.054 ―メチル――ゞ第玚ブチルプノヌ
ル 0.002 ベンゟトリアゟヌル 0.003 メチレンクロリドメタノヌル9010溶媒
5.300 ミル125Όドクタヌナむフを䜿甚しお
この溶液を新たに軜石研磚したブランク銅積局板
䞊にコヌテむングした。この也燥フむルムは透明
でありそしおわずかに粘着性であり、そしお玄
25Όの厚さを有しおいた。透明な25Όポリプ
ロピレンカバヌシヌトをこのコヌテむングに適甚
しお露光の間にそれがプロセス透明画に粘着する
のを阻止した。ラバヌスクむヌゞヌを䜿甚しお、
コヌテむング䞊でこのカバヌシヌトを平滑化し
た。そしおこれは露光埌にコヌテむングしお損傷
を䞎えるこずなく陀去された。コヌテむングした
板の詊料を䟋に蚘茉のようにしおこのカバヌシ
ヌトを通しお像様露光させた。露光埌、この板を
32℃でマグネチツクスタヌラヌで撹拌し぀぀氎
――ブトキシ゚トキシ゚タノヌル
䞭の0.8炭酞ナトリりム溶液䞭で珟像させ
た。その結果は次の衚に芁玄されおいる。
【衚】 ダヌプな画像
このコヌテむングされた板は、優れた解像胜を
瀺した。このコヌテむングした板を70℃で30分間
送颚オヌブン䞭で焌付けさせその埌で露光させた
堎合、比肩しうる結果が埗られた。 コヌテむングされた板の詊料をたた倧気圧䞋で
真空フレヌム䞭でカバヌシヌトを通しお露光させ
た。完党珟像されたシダヌプな画像を埗るために
芁求される露光珟像時間は、真空䞭で露光され
た板に察しお芁求されるものず同様であ぀た。 䟋 〜 衚に瀺されおいるように、各溶液䞭に5.00
の異぀た䞍飜和共重合䜓、および皮々の量のメル
カプトコハク酞および゚チレングリコヌルゞカプ
リレヌトを䜿甚しお皮の光感受性組成のコヌテ
むング溶液を補造した。
【衚】 各コヌテむング溶液は0.270のベンゞルゞメ
チルケタヌル、0.010の―メチル――
ゞ第玚ブチルプノヌル、0.015のベンゟト
リアゟヌル、および26.66の9010メチレンク
ロリドメタノヌル溶媒を含有しおいた。䟋お
よび䟋の溶液は透明であ぀たがしかし䟋、䟋
および䟋のものはわずかにくも぀おいた。そ
れらは䜿甚の前に過された。 ミル180Όドクタヌナむフを䜿甚しお
この溶液を新たに軜石研磚したブランク銅積局板
䞊にコヌテむングし、そしお板を也燥させた。ポ
リプロピレンカバヌシヌトをこのコヌテむングに
適甚し、そしお板の詊料を䟋に蚘茉のようにし
おこのカバヌシヌトを通しお像様露光させた。露
光埌、この板を32℃でマグネチツクスタヌラヌで
撹拌し぀぀氎――ブトキシ゚トキシ゚
タノヌル䞭の0.8炭酞ナトリりム溶
液䞭で珟像させた。シダヌプな完党に珟像された
画像が衚に芁玄されおいる露光および珟像条件
䞋に埗られた。 衚  䟋 露光時間(分) 珟像時間  1.0 1.5  6.0 8.0  2.0 4.3  1.0 2.5  1.0 2.5 䟋の珟像フむルムは非垞に軟質でありそしお
それは攟眮するず珟像郚分䞭に埐々に流れた。 䟋 10 次のようにしお、光感受性組成物のコヌテむン
グ溶液を補造した。 共重合䜓 1.00 メルカプトコハク酞 0.134 ゚チレングリコヌルゞカプリレヌト 0.140 ベンゞルゞメチルケタヌル 0.054 ―メチル――ゞ第玚ブチルプノヌ
ル 0.002 ベンゟトリアゟヌル 0.003 メチレンクロリドメタノヌル9010溶媒
5.332 䜿甚されるメルカプトコハク酞の量は共重合䜓
䞭の炭玠―炭玠二重結合モル圓り玄0.56モルに
盞圓した。ミル200Όドクタヌナむフを
䜿甚しおこの溶液を新たに軜石研磚したブランク
銅積局板䞊にコヌテむングし、そしお板を也燥さ
せた。ポリプロピレンカバヌシヌトをこのコヌテ
むングに適甚し、そしお板の詊料を䟋に蚘茉の
ようにしおこのカバヌシヌトを通しお像様露光さ
せた。露光埌、この板を32℃でマグネチツクスタ
ヌラヌで撹拌し぀぀、氎――ブトキシ゚
トキシ゚タノヌル䞭の0.8炭酞ナ
トリりム溶液䞭で珟像させた。シダヌプな完党に
珟像された画像が0.5〜分の露光時間および2.5
〜分の珟像時間で埗られた。未露光で未珟像の
郚分は非粘着性であり、そしお珟像溶液によ぀お
可芖的には圱響されなか぀た。 分間像様露光させそしお2.5分珟像した詊料
板を宀枩で時間也燥させそしお次いでプロセス
透明画なしでポリプロピレンカバヌシヌトを通し
お再露光させた。このブランケツト露光は珟像溶
液䞭2.5分の埌には非画像郚分を板から容易に剥
離せしめた。察照的に、この非画像圢成板の光感
受性組成物は同䞀条件䞋に珟像溶液䞭に30分おい
た埌でさえも剥離しなか぀た。この実隓は光感受
性組成物の未露光郚分が䞀次珟像埌の远加の露光
によ぀お陀去しうるずいうこずたたは曎に像圢
成せしめうるこずを瀺しおいる。 分間像様露光させそしお2.5分珟像させた第
の詊料板を埪環空気オヌブン䞭で110℃で焌付
けさせた。そしお次いで宀枩で塩化第鉄゚ツチ
ング济䞭に浞した。20分埌、板の像圢成郚分䞭で
はレゞストの未露光郚分をリフトたたはアンダヌ
カツトするこずなく銅が゚ツチングし去られた。
゚ツチング抵抗性は50℃での゚ツチング分
の間満足すべきものではなか぀た。 䟋 11 次のようにしお光感受性組成物のコヌテむング
溶液を補造した。 スチレンブタゞ゚ン2872線状ABAブ
ロツク共重合䜓ラクトン 1102 7.2 メルカプトコハク酞 1.5 オレむン酞 1.2 ベンゞルゞメチルケタヌル 0.48 ―メチル――ゞ第玚ブチルプノヌ
ル 0.02 ベンゟトリアゟヌル 0.022 メチレンクロリドメタノヌル95.44.6
溶媒 65 この溶液を新たに軜石研磚したブランク銅積局
板䞊にコヌテむングしお、也燥埌臭のある、わず
かに粘着性のフむルムを生成させた。ポリプロピ
レンカバヌシヌトをこのコヌテむングに適甚し、
そしお䟋に蚘茉のようにしおこのカバヌシヌト
を通しお〜分像様露光させた。露光埌、この
板を32℃でマグネチツクスタヌラヌで撹拌し぀぀
氎――ブトキシ゚トキシ゚タノヌル
䞭の0.8炭酞ナトリりム溶液䞭で1.5
分珟像させた。 詊隓されたすべおの露光に察しお、プロセス透
明画の透明郚分に盞圓する像が板䞊に描かれた。
露光郚分䞭の物質は珟像液䞭で膚最したがしかし
それは板たで掗去されるには䞍充分な溶解床しか
有しおいなか぀た。 その他のコヌテむング板詊料を第䞀に70℃の空
気オヌブン䞭で15分焌成させ、次いでそれを分
間露光させた。カバヌシヌトを速やかに陀去する
ず未露光郚分の光感受性組成物は板に残る露光郚
分䞭のカバヌシヌトおよびフむルムず共に板から
持䞊げられた。すなわち露光郚分の溶媒掗去によ
぀おポゞずしお働く画像を䞎えるべく通垞䜿甚さ
れる本発明の組成物および゚レメントはたた蚘茉
のピヌルアパヌト珟像法で䜿甚しおネガずしお働
く画像を䞎えうるこずがわかる。 䟋 12 次のようにしお光感受性組成物のコヌテむング
溶液を補造した。 ハむカヌ1072―CG〔溶解床改善のために冷ミル
䞊でミル凊理20×した〕 10.0 メルカプトコハク酞 1.42 ゚チレングリコヌルゞカプリレヌト 1.32 ベンゞルゞメチルケタヌル 0.54 ―メチル――ゞ第玚ブチルプノヌ
ル 0.02 ベンゟトリアゟヌル 0.03 メチレンクロリドメタノヌル9010溶媒
106.64 「ハむカヌHycar 」1072―CGB.F.グツ
ドリツチ瀟補品は高分子量平均ムヌニヌ粘床
4.5o箄31000のカルボキシル化ブタゞ゚
ンアクリロニトリル共重合䜓〔玄27アクリロ
ニトリル含量、カルボキシル含量玄3.38、ゎム
100郚圓りの圓量EPHR基準での倀0.075〕で
ある。 この溶液を新たに軜石研磚したブランク銅積局
板䞊にコヌテむングしお、也燥埌にくも぀たフむ
ルムを生成させた。ポリプロピレンカバヌシヌト
をこのコヌテむングに適甚し、そしお䟋に蚘茉
のようにしおこのカバヌシヌトを通しお〜10分
像様露光させた。露光埌、この板を32゜でマグネ
チツクスタヌラヌで撹拌し぀぀、氎――
ブトキシ゚トキシ゚タノヌル䞭の
0.8炭酞ナトリりム溶液䞭で珟像させた。詊隓
されたすべおの時間に察しおプロセス透明画の透
明郚分に盞圓する画像が板䞊に描かれた。劣぀た
接着性の故に、この組成物の未露光郚分は珟像溶
液䞭分の埌には板から持䞊げられた。 䟋 13 1.0の共重合䜓、0.1のメルカプトコハク
酞、0.075のベンゞルメチルケタヌル、0.1の
゚チレングリコヌルゞカプリレヌトおよび50ÎŒ
の添加剀溶液をメチレンクロリドメタノヌル
溶媒混合物4.3mlに加えるこずによ぀お
溶液を補造した。この添加剀溶液はmgのベンゟ
トリアゟヌル、mgの―メチル――ゞ第
玚ブチルプノヌルおよびmgのC.I.゜ルベン
トレツドダむ109をメチレンクロリドメタノ
ヌル溶媒混合物に溶解させたものよりな぀おい
た。埗られた透明な溶液をミル200Όド
クタヌナむフを䜿甚しお軜石研磚銅基質䞊にコヌ
テむングした。このコヌテむングしたパネルを宀
枩で䞀晩也燥させた。 ポリプロピレンカバヌシヌトをこのパネル䞊に
眮き、そしおそれを√ステツプり゚ツゞ階段
くさびプロセス透明画を通しお真空印刷フレヌ
ムヌアヌク瀟補品䞭で38cmの距離においお
3600〜4500Åスペクトル範囲を包含する金属ハラ
むドランプからの攟射に透明画の露光衚面䞊の関
連するcm2圓り100ナニツトの攟射量および580mg
の集積光匷床に盞圓する時間の間露光させた。カ
バヌシヌトを陀去し、そしお露光パネルを2588ml
の氎、27の炭酞ナトリりムおよび300の―
―ブトキシ゚トキシ゚タノヌルから補造さ
れた溶液䞭で珟像させた。マグネチツクスタヌラ
ヌが撹拌に䜿甚された。35゜で分の埌、ステツ
プ32mjcm2たでのパネル露光郚分の珟像は
銅衚面たで完了した。より少い攟射に露光された
コヌテむング郚分はそのたた残぀た。 䟋 14 1.0の共重合䜓、200mgの―メルカプトメ
チル安息銙酞、100mgのベンゞルゞメチルケタヌ
ル、75mgの゚チレングリコヌルゞカプリレヌトお
よび50Όの䟋13の添加剀溶液の混合物をメチレ
ンクロリドメタノヌル溶媒混合物
4.3mlに溶解させた。この溶液をミル200Ό
ドクタヌナむフを䜿甚しお軜石研磚銅基質䞊にコ
ヌテむングした。 ポリプロピレンカバヌシヌトをこのパネル䞊に
眮き、そしおそれを√ステツプり゚ツゞプロセ
ス透明画を通しお䟋13の真空印刷フレヌム䞭で
100ナニツトの攟射量たで露光させた。カバヌシ
ヌトを陀去し、そしお露光パネルを䟋13の珟像溶
液䞭で35゜で分間珟像した。ステツプたでの
珟像132mjcm2は銅衚面たで完了した。露光
させた銅を宀枩で塩化第鉄济䞭でプレヌトから
゚ツチングさせた。次いでこの゚ツチングしたプ
レヌトを曎に290mjcm2の攟射にプロセス透明画
を通しお再露光させた。そしおこの再露光プレヌ
トを蚘茉のようにしお分間珟像させた。第の
露光郚分の珟像は銅衚面たで完了した。 本䟋は、この光感受性゚レメントがアド―オン
add―on胜力を有しおいるこずを瀺す。その
理由は未露光組成物は珟像および゚ツチング段階
の埌でもたた機胜性であるからである。 䟋 15〜54 これら実斜䟋は䟋13蚘茉の方法を䜿甚しお実斜
された。各々の堎合、溶液は蚘茉の共重合䜓1.0
、メルカプト酞、光開始剀、蚘茉量の゚チレン
グリコヌルゞアクリレヌト可塑剀および50Όの
添加剀パツケヌゞを4.3mlのメチレンクロリド
メタノヌル溶媒混合物に加えるこずに
よ぀お補造された。埗られた溶液をドクタヌナむ
フを䜿甚しお基質䞊にコヌテむングしお、蚘茉の
初期コヌテむング厚さを生成させた。䜿甚された
基質は軜石研磚された銅Cuたたは配向ポリ
゚ステルフむルムたたはポリプロピレンフむルム
Filmであ぀た。フむルムが䜿甚される堎合、
コヌテむングを露光の前の積局によ぀お、銅基質
に転写させた。也燥コヌテむングを蚘茉のように
しお蚘茉の積分光匷床mjcm2を䞎えるに必
芁なナニツト数に盞圓する時間の間攟射に露光さ
せた。露光コヌテむングを35゜で蚘茉の時間珟像
させた。ほずんどの䟋においお埗られる画像の解
像床をΌで枬定した。珟像された画像を怜査
し、そしお珟像皮別を次のように蚘録した。  珟像の間に銅基質たで陀去された。  画像はほずんど陀去された。  レリヌフ画像が埗られたがしかしそれは銅
衚面たでは陀去されなか぀た。  芖認できる画像が埗られたがしかしレリヌ
フは埗られなか぀た。 これらの䟋の芁玄は衚および衚に包含され
おいる。衚においおは、メルカプト酞およびラ
ゞカル生成開始剀は次の蚘号文字によ぀お参照さ
れおいる。 メルカプト酞  ―メルカプトカプロン酞  メルカプトコハク酞  メルカプトむタコン酞  ―メルカプトカプロン酞  ―メルカプトメチル安息銙酞  ―メルカプトメチルゞヒドロ桂皮酞  メルカプトコハク酞モノメチル゚ステル  メルカプトコハク酞モノ―ヘキシル゚ステ
ル  メルカプトコハク酞モノ――゚トキシ゚チ
ル゚ステル  ―アセチルシステむン  11―メルカプトりンデカン酞 開始剀 aa ベンゞルゞメチルケタヌル bb ベンゟむンメチル゚ヌテル cc ――クロロプニル――ゞフ
゚ニルむミダゟリル二量䜓 dd メチルベンゟむンメチル゚ヌテル ee メチルベンゟむン ff ベンゟプノン gg ペンチルアントラキノン hh ベンゟプノンミヒラヌのケトン
 ii ベンゟむン゚チル゚ヌテル jj デスオキシベンゟむン kk ベンゟプノンミヒラヌのケトン
 ll ―プニルベンゟプノン mm ベンゟむンむ゜ブチル゚ヌテル nn ミヒラヌのケトン
【衚】
【衚】
【衚】
【衚】 䟋55 ポゞずしお働くリ゜lithoフむルムの
補造 次の皮の溶液が補造された。  カヌボンブラツク 20 メチレンクロリド 120  共重合䜓  11―メルカプトりンデカン酞 0.20 ベンゞルゞメチルケタヌル 0.20 メチレンクロリドメタノヌル9010溶媒
4.3 10Όミリポアフむルタヌを通しお溶液を加
圧䞋に過し、そしおその液をミル100ÎŒ
ドクタヌナむフを䜿甚しおミル125Ό
のれラチンコヌテむングした配向ポリ゚ステルフ
むルム基質䞊にコヌテむングした。このコヌテむ
ングしたフむルムを也燥した。それは5.70の透過
床を有しおいた。溶液を同䞀ドクタヌナむフを
䜿甚しおこの溶液をコヌテむングした基質䞊に
コヌテむングした。 このコヌテむングしたフむルムを√ステツプ
り゚ツゞをよび0.4透過床の銀陰画を通しお䟋
13の真空印刷フレヌム䞭で67ナニツトの攟射量に
露光させた。露光されたフむルムを35゜で分間
スプレヌ珟像機䞭で氎――ブトキシ゚ト
キシ゚タノヌル䞭の0.8炭酞ナト
リりム溶液を䜿甚しお珟像した。掗去された最埌
のステツプはフむルム衚面の0.13mjcm2の゚ネル
ギヌに盞圓する。 䟋 56〜62 これらの䟋は䟋13および䟋15〜54に蚘茉の方法
を䜿甚しお実斜された。それ以䞊の可塑剀は䜿甚
されなか぀た。200Όのコヌテむング厚さが各
䟋においお䜿甚された。配向ポリ゚ステルたたは
ポリプロピレンフむルム基質が䜿甚された。これ
らの䟋の芁玄は衚および衚10に包含されおい
る。衚においおは以前の䟋に蚘茉されおいない
メルカプト酞およびラゞカル生成開始剀は次の蚘
号文字によ぀お参照されおいる。 メルカプト酞  ―メルカプトペンタン燐酞  ―メルカプトヘキサデカン酞 開始剀 oo ―メチル――トリクロロメチル―
―シクロヘキサゞ゚ノンTMCH
【衚】
【衚】
【衚】

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  次の成分すなわち 成分(i)(ii)および(iii)の党重量の玄10〜90
    の、玄1000〜1000000の数平均分子量を有しそ
    しお100圓り玄20〜1800ミリ圓量の反応性䞍
    飜和炭玠―炭玠基を含有するポリ゚ン、 成分(i)(ii)および(iii)の党重量の玄〜70の
    反応性メルカプト酞、および 成分(i)(ii)および(iii)の党重量の玄0.001〜50
    の、掻性線攟射によ぀お掻性化されおポリ゚
    ンぞのメルカプト酞の付加を開始せしめうる攟
    射感受性ラゞカル生成系 を包含する光感受性組成物。  ポリ゚ンが【匏】―CHCH―およ び―CHCH2より遞ばれた少くずも個の基を
    含有しおいる、前蚘特蚱請求の範囲第項蚘茉の
    組成物。  眮換アルキルメタクリレヌト共重合䜓のアル
    キル郚分䞭にそのような基を含有しおいる、前蚘
    特蚱請求の範囲第項蚘茉の組成物。  ポリ゚ンがメチルメタクリレヌトずアリルメ
    タクリレヌトたたはりンデセニルメタクリレヌト
    ずの共重合䜓およびメチルメタクリレヌト、ブチ
    ルメタクリレヌトおよびアリルメタクリレヌトの
    タヌポリマヌより遞ばれる、前蚘特蚱請求の範囲
    第項蚘茉の組成物。  ポリ゚ンの分子量が玄5000〜100000でありそ
    しおポリ゚ン100圓り玄50〜1000ミリ圓量の反
    応性䞍飜和炭玠―炭玠基が存圚しおいる、前蚘特
    蚱請求の範囲第項蚘茉の組成物。  メルカプト酞がメルカプトカルボン酞であ
    る、前蚘特蚱請求の範囲第項蚘茉の組成物。  ラゞカル生成系がベンゟむン゚ヌテルを包含
    しおいる、前蚘特蚱請求の範囲第項蚘茉の組成
    物。  メルカプト酞が11―メルカプトりンデカン酞
    でありそしおラゞカル生成系がベンゞルゞメチル
    ケタヌル化合物である、前蚘特蚱請求の範囲第
    項蚘茉の組成物。  ラゞカル生成系が―メチル――トリクロ
    ロメチル――シクロヘキサゞ゚ンオンを包
    含する、前蚘特蚱請求の範囲第項蚘茉の組成
    物。
JP4921882A 1981-03-30 1982-03-29 Photosensitive composition Granted JPS57176035A (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US27141181A 1981-03-30 1981-03-30

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS57176035A JPS57176035A (en) 1982-10-29
JPH0139570B2 true JPH0139570B2 (ja) 1989-08-22

Family

ID=23035431

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4921882A Granted JPS57176035A (en) 1981-03-30 1982-03-29 Photosensitive composition

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS57176035A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06144486A (ja) * 1991-04-16 1994-05-24 Shinko Seisakusho Co Ltd 荷物自動受枡し装眮

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6281404A (ja) * 1985-10-07 1987-04-14 Mitsubishi Rayon Co Ltd 光重合性組成物

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06144486A (ja) * 1991-04-16 1994-05-24 Shinko Seisakusho Co Ltd 荷物自動受枡し装眮

Also Published As

Publication number Publication date
JPS57176035A (en) 1982-10-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4234676A (en) Polythiol effect curable polymeric composition
US4857434A (en) Radiation curable liquid (meth) acrylated polymeric hydrocarbon maleate prepolymers and formulations containing same
US4431723A (en) Aqueous processible, alcohol resistant flexographic printing plates
US4415651A (en) Aqueous processable, positive-working photopolymer compositions
US4916045A (en) Photosensitive recording element containing an ionic polymer
US4248960A (en) Radiation responsive relief imageable plastic laminate
JPS5922219B2 (ja) フレキ゜印刷版甚感光性暹脂組成物
JP2962739B2 (ja) 光硬化塗膜の圢成方法
EP0246918B1 (en) Curable prepolymers
JP2025037999A (ja) フレキ゜印刷甚感光性暹脂組成物
JP2761483B2 (ja) 光硬化性゚ラストマヌ混合物およびそこから埗られる、凞版印刷板補造甚の蚘録材料
US4446220A (en) Method of making a photosensitive elastomeric composition
JP2873705B2 (ja) 光硬化性暹脂組成物
JPH0141972B2 (ja)
JPH0710941A (ja) 平版印刷板補造甚の、新芏な䞡芪媒性の゚ラストマヌ性ブロック共重合䜓
JP3716330B2 (ja) 感光性組成物及び感光性ゎム版
JP2877868B2 (ja) 光硬化性暹脂組成物
JPH03223316A (ja) 光硬化性暹脂組成物
JPH03223317A (ja) 光硬化性暹脂組成物
WO1991011473A1 (fr) Composition de resine photopolymerisable et procede de production de resine photopolymerisable
EP0499271A1 (en) Photosensitive resin
JPH06186741A (ja) 光硬化性の゚ラストマヌ混合物およびそこから埗られる、凞版印刷板補造甚の蚘録材料
JPH03223314A (ja) 光硬化性暹脂組成物
JPS58127922A (ja) 感光性暹脂組成物
JPS6348328B2 (ja)