JPH03224119A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録
媒体に関し、特にこの種の磁気記録媒体の磁気記録層で
ある強磁性金属薄膜に対する耐食性の改良技術に関する
。

（従来の技術） 強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒体は、磁
性粉をバインダと共に塗布、硬化した層を磁気記録層と
する磁気記録媒体よりも磁気記録特性を優れたものとす
ることができるが、磁気記録層である強磁性金属薄膜が
腐食し易いといった問題がある。

従来、この種の磁気記録媒体の磁気記録層である強磁性
金属薄膜に対する耐食性の改良のため、この強磁性金属
薄膜の表面に保護膜を形成することが検討されたが、表
面に保護膜を設けると、スペーシングロスにより出力の
低下が発生する。そこで耐食性の良好なＮｉＣｒ合金膜
を保護膜とする磁気記録媒体（特開昭５３−７３１０８
号）等が提案されている。

他方、このような強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁
気記録媒体については、この強磁性金属薄膜と非磁性基
板との間に、耐食性の改良を目的とするものではないが
、チタン金属薄膜等の下地層を形成した磁気記録媒体（
特開昭５８−７７０２４号）が提案されている。

（発明が解決しようとする課題） 磁気記録層である強磁性金属薄膜が腐食すると、飽和磁
化や再生出力等が低下するなどの問題がある。

また、上述したように磁気記録層である強磁性金属薄膜
の上に保護膜を形成すると、ＮｉＣｒ合金膜を保護膜と
した場合にもこの層の磁化が小さいため磁気記録媒体の
磁気記録特性、特に再生出力の低下が生じ、磁気記録層
を金属薄膜としたことのメリットが大幅に削減されるこ
ととなる。

従って、強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒
体においては、経時において飽和磁化や再生出力等が安
定して高い水準に維持される磁気記録媒体が望まれてい
る。

（課題を解決するための手段） 本発明は上記課題を解決するため、非磁性基板と磁気記
録層である強磁性金属薄膜との間に膜厚が略０．０１μ
ｍ乃至１μｍのチタン酸化物薄膜を形成して磁気記録媒
体を構成したものである。

ここで、本発明の磁気記録媒体に使用される非磁性基板
としては、ポリエステル、ポリイミド、ポリアミド、ポ
リプロピレン、ポリカーボネイト等のプラスチック、あ
るいはアルミニウム、銅等の非磁性金属などからなるも
のが挙げられる。

また、磁気記録層を構成する強磁性金属としては、例え
ばＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ及びこれ等の少なくとも一種を含む
Ｃｏ−Ｃｒ合金等の合金、並びにこれ等の酸化物が挙げ
られる。

そして本発明の磁気記録媒体は、例えば非磁性基板上に
真空蒸着法、スパッタリング法、イオンブレーティング
法、メツキ法等によりチタン金属薄膜を形成した後にこ
のチタン金属薄膜を酸化させるか、あるいは酸素雰囲気
中でチタン金属を真空蒸着したりスパッタリングしたり
することによりチタン酸化物薄膜を形成し、しかる後、
チタン金属薄膜を形成するのと同様の薄膜形成方法によ
って磁気記録層である強磁性金属薄膜を形成することに
よりて製造することができる。

（作用） 上記本発明の構成によれば、チタン酸化物薄膜の膜厚が
略０．０１μｍ以上の場合には磁気記録層である強磁性
金属薄膜の腐食の進行が抑制される。

この腐食抑制のメカニズムは明らかでないが、強磁性金
属薄膜の腐食の進行にその下地の物理的、化学的状態が
大きく影響していることが示唆される。これに対し、チ
タン酸化物薄膜の膜厚が０．０１μｍ未満の場合には上
記腐食抑制の効果がなく、１μｍを越える場合には磁気
記録媒体の表面にある強磁性金属薄膜が傷付き易いもの
となる。

他方、非磁性基板と磁気記録層である強磁性金属薄膜と
の間に例えばチタン金属薄膜やアルミニウム金属薄膜を
形成した場合にはチタン酸化物薄膜を形成した場合に比
較して強磁性金属薄膜の腐食の進行を抑制する効果が数
段落ちる。

（実施例） 以下に実施例を示し、本発明を更に詳しく説明する。

〈実施例〉 図面は本発明に係る磁気記録媒体を示すもので、この磁
気記録媒体は非磁性基板１とこの上の磁気記録層である
強磁性金属薄膜２との間に膜厚が略０．Ｏ１μｍ〜１μ
ｍのチタン酸化物薄膜３が形成され、非磁性基板ｉ上に
チタン酸化物薄膜３と強磁性金属薄膜２とを順次積層し
た構成となっている。

この種の磁気記録媒体は以下のようにして製造すること
ができる。

即ち、真空槽を１　ｘ　１０−５Ｔｏｒｒに排気した後
、真空槽中に酸素を真空槽の内部が一定の真空度５　Ｘ
　１０−’Ｔｏｒｒになるように入れ、反応蒸着法によ
り膜厚０，１μｍの酸化チタン薄膜３を非磁性基板１で
あるポリエステルベースフィルム上に形成する。次ぎに
真空槽中の酸素を不活性ガスの例えばＡｒで置換して再
び真空槽の内部の真空度をＩ　Ｘ　１０−’Ｔｏｒｒと
した後、得られた酸化チタン薄膜３上にＮｉを２０ａｔ
％含むＣｏＮｉ合金薄膜を斜方蒸着法により形成し、長
尺フィルム状の実施例の磁気記録媒体を形成する。

〈比較例１〉 酸素を入れずに（反応蒸着を行なわずに）蒸着を行ない
同様の膜厚のチタン金属薄膜を非磁性基板１上に形成し
た他は上記実施例と同様にして比較例１の磁気記録媒体
を得た。

〈比較例２〉 上記実施例と同様にして酸化チタン薄膜３の膜厚が０．
００５μｍである比較例２の磁気記録媒体を得た。

〈比較例３〉 上記実施例と同様にして酸化チタン薄膜３の膜厚が１．
５μｍである比較例３の磁気記録媒体を得た。

〈比較例４〉 上記実施例における酸化チタン薄膜３の形成工程を省略
して非磁性基板１上に直接強磁性金属薄膜２を形成した
比較例４の磁気記録媒体を得た。

く比較例５〉 チタン金属薄膜の代りにアルミニウム金属薄膜を形成し
た他は比較例１と同様にして比較例５の磁気記録媒体を
得た。

〈比較例６〉 比較例４の磁気記録媒体の強磁性金属薄膜２上にＣｒを
１５ａｔ％含むＮｉＣｒ合金薄膜を形成してこのＮｉＣ
ｒ合金薄膜を保護膜とする比較例６の磁気記録媒体を得
た。

以上の実施例及び比較例１〜６の磁気記録媒体の１週間
６０℃９０％環境下に放置した後の飽和磁化Ｍｓ及びの
製造直後の４ＭＨ，の正弦波を記録した時の再生出力、
並びに堅牢性（磁気記録媒体の表面に０．０５ｍ　ｍ　
Ｒのサファイヤ針を１００ｇ荷重をかけて接触させ、２
００　ｍｍ／ｍ　ｉ　ｎ（７）速度テ引っ張った時の顕
微鏡で観察した傷付き具合）を測定し、飽和磁化の減少
率ΔＭ５と実施例を基準とした再生出力の低下（ｄＢ）
、及び傷の有無で堅牢性を評価した。

以上の結果を表に示す。

（発明の効果） 上記表から明らかなように、本発明の磁気記録媒体は、
非磁性基板上に強磁性金属薄膜を形成した磁気記録媒体
、非磁性基板と磁気記録層である強磁性金属薄膜との間
にチタン酸化物薄膜以外の例えばチタン金属薄膜やアル
ミニウム金属薄膜を形成した磁気記録媒体、従来の保護
膜、例えばＮｉＣｒ合金膜を磁気記録層である強磁性金
属薄膜上に形成した磁気記録媒体、及びチタン酸化物薄
膜の膜厚が本発明範囲から外れた磁気記録媒体に比較し
て経時における飽和磁化の減少及び再生出力が小さく、
またチタン酸化物薄膜の膜厚が本発明範囲を越える磁気
記録媒体のように堅牢性が低下することもない。

このように、本発明によれば、経時における飽和磁化特
性、再生出力及び堅牢性がともに安定して高い水準に維
持される磁気記録媒体が提供される。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明に係る磁気記録媒体を示す断面図である。 １・・・非磁性基板、 ２・・・強磁性金属薄膜、 ３・・・チ タン酸化物薄膜。 特 許 出 願 人 日本ビクター株式会社

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 非磁性基板上に強磁性金属薄膜を形成してなる磁気記録
   媒体において、前記非磁性基板と強磁性金属薄膜との間
   に膜厚が略０．０１μｍ乃至１μｍのチタン酸化物薄膜
   を形成したことを特徴とする磁気記録媒体。