JPH0322424A - 真空予備室 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は真空予備室に関し、特に半導体製造装置の真空
予備室に関する。

〔従来の技術〕

従来の半導体製造装置の真空予備室は、第３図に示すよ
うに、バルブ５によりＮ２ガスを真空予備室１の内部に
導入して、真空予備室１内の気圧を大気圧に等しくなる
ようにし、これを大気圧センサ６により感知して大気側
ゲートバルブ３を開く構造となっていた。

〔発明が解決しようとする課題〕

上述した従来の真空予備室は、大気圧センサにて、室内
の圧力を検知し大気側のゲートバルブを開ける構造とな
っているため、大気圧センサの検出誤差により真空予備
室内の圧力が大気圧と同じにならず、真空処理室のゲー
トバルプが開く瞬間差圧によりガスの流れが生じるとい
う欠点がある。このガスの流れにより微細な塵埃が半導
体ウェーハ上に付着しＩＣの歩留り低下の原因となって
いた。

〔課題を解決するための手段〕

本発明の半導体製造装置の真空予備室は大気開放バルブ
を有している。

〔実施例〕

次に本発明について図面を参照して説明する。

第１図は本発明の第１の実施例の断面図である。

真空予備室１は半導体ウェーハ２が通るための大気側ゲ
ートバルブ３と真空側ゲートバルブ４が前後に設けられ
、Ｎ２ガス導入バルブ５と大気圧センサ６と大気開放バ
ルブ７が取付けられた構造となっており、内部には半導
体ウェーハ２を搬送するための搬送機構８を有する。大
気開放バルブ７の大気取入れ口９は仕切り板１０を通し
て接続開き半導体ウェーハ２を大気側へ搬送する。

第２図は本発明の第２の実施例の断面図である。

本実施例では実施例１の大気開放バルブ７と真空予備室
１の配管の途中に流量制御弁１１を有する。

この実施例では、ガスの流速を落とせるため予備室内の
塵埃の舞い上がりを防止する利点がある。

〔発明の効果〕

以上説明したように本発明は大気開放バルブを追加する
事により真空予備室の大気側ゲートバルブが開く塵埃の
発生を防止できる効果がある。

【図面の簡単な説明】 第１図及び第２図は本発明の第１及び第２の実施例の断
面図、第３図は従来の真空予備室断面図である。 １・・・真空予備室、２・・・半導体ウェーハ、３・・
・大気側ゲートバルプ、４・・・真空側ゲートバルプ、
５・・・Ｎ２ガス導入バルプ、６・・・大気圧センサー
、７・・・大気開放バルプ、８・・・搬送機構、９・・
・大気取入れ口、１０・・・仕切り板、１１・・・流量
制御弁。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　不活性ガス導入バルブと、前記不活性導入バルブより
   導入した不活性ガスの圧力が大気圧になるのを検出する
   大気圧センサーとを有する真空予備室において、前記大
   気圧センサーが前記真空予備室内の圧力を大気圧と殆ん
   ど等しいと検出した信号により作動して真空予備室内を
   外気に接続する大気開放バルプを備えたことを特徴とす
   る真空予備室。