JPH0322578A - ガスレーザ発振装置 - Google Patents
ガスレーザ発振装置Info
- Publication number
- JPH0322578A JPH0322578A JP1157746A JP15774689A JPH0322578A JP H0322578 A JPH0322578 A JP H0322578A JP 1157746 A JP1157746 A JP 1157746A JP 15774689 A JP15774689 A JP 15774689A JP H0322578 A JPH0322578 A JP H0322578A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- discharge
- metal electrode
- oscillation device
- nickel
- electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/038—Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は放電管の軸方向と光軸方向が一致したガヌレー
ザ発振装置に関するものであり、特に最も安定なレーザ
ビームを得られるようにしたガスレーザ発振装置に関す
るものである。
ザ発振装置に関するものであり、特に最も安定なレーザ
ビームを得られるようにしたガスレーザ発振装置に関す
るものである。
従来の技術
従来のガスレーザ発振装置は、第２図ａに示すものであ
った。この図に於で、１はガラヌなどの誘電体よりなる
放電管であシ、２，３は前記放電管１の内部に設けられ
た金属電極である。４は前記電極２，３に接続された高
電圧電源であシ、たとえばｓｏＫＶの電圧を両電極２，
３間に印加している。５は前記電極２．３間にはさ１れ
た放電管１内の放電空間である。６は全反射鏡、７は部
分反射鏡であシ、この全反射鏡６，部分反射鏡７は前記
放電空間６の両端に固定配置され、光共振器を形威して
いる。８は前記部分反射鏡７よシ出力されるレーザビー
ムである。矢印９はレーザガスの流れる方向を示してお
シ、軸流型レーザ装置の中を循環している。１０は送気
管であシ、１１．１２は前記放電空間６にて放電及び送
風機によシ温度上昇したレーザガスの温度を下げるため
の熱交換器、１３はレーザガヌを循環させる／こめの送
３ ・＼−７ 風機である。
った。この図に於で、１はガラヌなどの誘電体よりなる
放電管であシ、２，３は前記放電管１の内部に設けられ
た金属電極である。４は前記電極２，３に接続された高
電圧電源であシ、たとえばｓｏＫＶの電圧を両電極２，
３間に印加している。５は前記電極２．３間にはさ１れ
た放電管１内の放電空間である。６は全反射鏡、７は部
分反射鏡であシ、この全反射鏡６，部分反射鏡７は前記
放電空間６の両端に固定配置され、光共振器を形威して
いる。８は前記部分反射鏡７よシ出力されるレーザビー
ムである。矢印９はレーザガスの流れる方向を示してお
シ、軸流型レーザ装置の中を循環している。１０は送気
管であシ、１１．１２は前記放電空間６にて放電及び送
風機によシ温度上昇したレーザガスの温度を下げるため
の熱交換器、１３はレーザガヌを循環させる／こめの送
３ ・＼−７ 風機である。
なか、送風機１３によシ放電区間５にて約１００ｍ／Ｓ
ｅＣ程度のガス流を得る必要がある。
ｅＣ程度のガス流を得る必要がある。
以上が従来の軸流型レーザ装置の構成であシ、次にその
動作について説明する。
動作について説明する。
１ず一対の金属電極２，３に高電圧電源４から高電圧を
印加し、放電空間５にグロー状の放電を発生させる。放
電空間５を通過するレーザガスは、この放電エネルギー
を得て励起され、その励起されたレーザガスは全反射鏡
６釦よび部分反射鏡７によシ形戒された光共振器で共振
状態となシ、部分反射鏡７からレーザビーム８が出力さ
れる。このレーザビーム８がレーザ加工等の用途に用い
られる。第２図ｂは、金属電極部表面の詳細図である。
印加し、放電空間５にグロー状の放電を発生させる。放
電空間５を通過するレーザガスは、この放電エネルギー
を得て励起され、その励起されたレーザガスは全反射鏡
６釦よび部分反射鏡７によシ形戒された光共振器で共振
状態となシ、部分反射鏡７からレーザビーム８が出力さ
れる。このレーザビーム８がレーザ加工等の用途に用い
られる。第２図ｂは、金属電極部表面の詳細図である。
金属電極２の材料としては、タングステンと銅などの焼
結合金が用いられている。この焼結合金を用いる理由は
、タングステンと銅の酸化皮膜の厚さの違いによシ均一
かつ選択的に放電が分散されるので放電エネルギーを増
加した時でも放電がアークに移行せず安定したグロー放
電が得られるためである。
結合金が用いられている。この焼結合金を用いる理由は
、タングステンと銅の酸化皮膜の厚さの違いによシ均一
かつ選択的に放電が分散されるので放電エネルギーを増
加した時でも放電がアークに移行せず安定したグロー放
電が得られるためである。
発明が解決しようとする課題
上記の構或では、長時間、電極２を使用するとタングス
テンの酸化物が戒長し積κリすることによって銅表面を
覆い放電が困難になシ、かつ酸化物が飛散し放電管内を
汚染したりすることによシ安定したグロー放電が得られ
ないという問題点があった。
テンの酸化物が戒長し積κリすることによって銅表面を
覆い放電が困難になシ、かつ酸化物が飛散し放電管内を
汚染したりすることによシ安定したグロー放電が得られ
ないという問題点があった。
この発明は、かかる開題点を解決するためになされたも
ので、放電管内のグロー放電を長期に渡シ均一に広げる
ことにより安定したレーザピームが得られるガスレーザ
発振装置を提供することを目的とする。
ので、放電管内のグロー放電を長期に渡シ均一に広げる
ことにより安定したレーザピームが得られるガスレーザ
発振装置を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段
本発明は、上記課題を解決するために放電管内の金属電
極を銅とニッケルとタングステンから戒る焼結合金とし
、前記金属電極表面にクロムを拡散処理したガヌレーザ
発振装置としたものである。
極を銅とニッケルとタングステンから戒る焼結合金とし
、前記金属電極表面にクロムを拡散処理したガヌレーザ
発振装置としたものである。
作 用
この発明にかける金属電極によシ長時間に渡り５へ−７
均一なグロー放電が得られ安定したレーザビームをつく
９出すことが可能となる。
９出すことが可能となる。
実施例
第１図ａは、本発明の実施例である金属電極表面の詳細
図である。タングステン粒子をニッケルで包みかつクロ
ムを拡散してある。二，ノケルでタングステン粒子を包
むことによシタングステン粒子の酸化進行を抑制してい
る。さらにクロムを拡散することによシ、銅釦よびニッ
ケルの酸化も抑制できる。またクロム拡散処理によシ金
属電極表面が硬化しスパッタされにくくなる。従って放
電を長時間続けても金属電極表面はほとんど劣化せず放
電は極めて安定する。
図である。タングステン粒子をニッケルで包みかつクロ
ムを拡散してある。二，ノケルでタングステン粒子を包
むことによシタングステン粒子の酸化進行を抑制してい
る。さらにクロムを拡散することによシ、銅釦よびニッ
ケルの酸化も抑制できる。またクロム拡散処理によシ金
属電極表面が硬化しスパッタされにくくなる。従って放
電を長時間続けても金属電極表面はほとんど劣化せず放
電は極めて安定する。
第１図ｂは、従来例と本発明の実施例の違いによるレー
ザ出力の長時間安定性を示したものである。この図から
明らかなように本発明の実施例では、クロム拡散の深さ
を５ミクロン以上にすれば長時間にわたってまったく出
力の低下がみられない。
ザ出力の長時間安定性を示したものである。この図から
明らかなように本発明の実施例では、クロム拡散の深さ
を５ミクロン以上にすれば長時間にわたってまったく出
力の低下がみられない。
発明の効果
以上のように、この発明によれば金属電極を銅とニソケ
ルとタングステンの焼鮎合金としかつ金属表面をクロム
拡散処理することによシ長時問にわたって金属電極の劣
化がないことによシ安定したレーザビームを出すガスレ
ーザ発振装置を提供でき、信頼性向上に優れた効果を発
揮する。
ルとタングステンの焼鮎合金としかつ金属表面をクロム
拡散処理することによシ長時問にわたって金属電極の劣
化がないことによシ安定したレーザビームを出すガスレ
ーザ発振装置を提供でき、信頼性向上に優れた効果を発
揮する。
第１図ａは、本発明の一実施例を示すガヌレザ発振装置
の電極表面を示す模式断面図、第１図ｂは同ガスレーザ
発振装置および従来例のレーザ出力の時間特性図、第２
図ａは一般的なガスレーザ発振装置の回路図、第２図ｂ
は従来例の電極表面を示す模式断面図である。
の電極表面を示す模式断面図、第１図ｂは同ガスレーザ
発振装置および従来例のレーザ出力の時間特性図、第２
図ａは一般的なガスレーザ発振装置の回路図、第２図ｂ
は従来例の電極表面を示す模式断面図である。
Claims (2)
- （１）絶縁体よりなる放電管内を光軸方向に送風機によ
りレーザガスを流し、前記放電管内の両端に設けられた
金属電極間に高電圧を印加し、前記放電管内に放電を発
生させ、この放電をレーザ励起源として前記放電管の軸
方向にレーザビームを発するガスレーザ発振装置におい
て、前記金属電極を、銅とニッケルとタングステンから
成る焼結合金とし、かつ前記金属電極の表面にクロムを
拡散処理したことを特徴とするガスレーザ発振装置。 - （２）クロム拡散処理の金属電極表面からの拡散深さを
５ミクロン以上とした特許請求の範囲第１項記載のガス
レーザ発振装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1157746A JPH0322578A (ja) | 1989-06-20 | 1989-06-20 | ガスレーザ発振装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1157746A JPH0322578A (ja) | 1989-06-20 | 1989-06-20 | ガスレーザ発振装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0322578A true JPH0322578A (ja) | 1991-01-30 |
Family
ID=15656444
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1157746A Pending JPH0322578A (ja) | 1989-06-20 | 1989-06-20 | ガスレーザ発振装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0322578A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1174965A1 (en) * | 2000-05-04 | 2002-01-23 | TuiLaser AG | An electrode material for a gas discharge laser |
-
1989
- 1989-06-20 JP JP1157746A patent/JPH0322578A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1174965A1 (en) * | 2000-05-04 | 2002-01-23 | TuiLaser AG | An electrode material for a gas discharge laser |
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