JPH03225935A - Tape for tab - Google Patents

Tape for tab

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JPH03225935A
JPH03225935A JP1926590A JP1926590A JPH03225935A JP H03225935 A JPH03225935 A JP H03225935A JP 1926590 A JP1926590 A JP 1926590A JP 1926590 A JP1926590 A JP 1926590A JP H03225935 A JPH03225935 A JP H03225935A
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adhesive
adhesive layer
film
polyamide resin
layer
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成嶋 均
Yoshikazu Tsukamoto
塚本 美和
Tadahiro Oishi
忠弘 大石
Atsushi Koshimura
淳 越村
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Tomoegawa Paper Co Ltd
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    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/38Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
    • H05K3/386Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by the use of an organic polymeric bonding layer, e.g. adhesive

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Abstract

PURPOSE:To prevent a decrease in bonding strength by composing an adhesive layer of at least two layers, incorporating polyamide resin as a main ingredient in the adhesive layer of the side in contact with an organic insulating film and incorporating polyamide resin and resol type phenol resin as main ingredients in the adhesive layer of the side in contact with a protective layer. CONSTITUTION:A layer formed by sequentially laminating a semicured adhesive layer 2 made of a first adhesive layer 21 and a second adhesive layer 22 and a protective film 3 made of a protective layer is provided on one side surface of an organic insulating film 1. Adhesive having high adherence even at the time of high temperature and exhibiting high bonding strength to the film is used as the adhesive layer of the side in contact with the film of the adhesive layers. As the adhesive, an adhesive containing polyamide resin as a main ingredient is used. On the other hand, as the adhesive of the side in contact with the film, an adhesive having high adherence to a copper foil and excellent chemical resistance to chemical to be exposed with a film carrier at the time of processing is used. As such an adhesive, an adhesive containing polyamide resin and source type phenol resin as main ingredients is used.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体デバイスの組み立て工程において、デ
バイスの多ピン化、小型化、高密度実装に際し、注目さ
れているT A B (Tape AutoIIlat
edBonding)方式に用いられる保護層、多層構
成接着剤層及び有機絶縁フィルムの多層構成からなるテ
ープ(以下、TAB用テープという)に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention is applied to T A B (Tape Auto II lat
The present invention relates to a tape (hereinafter referred to as TAB tape) that is used in the edBonding method and has a multilayer structure including a protective layer, a multilayer adhesive layer, and an organic insulating film.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、TAB用テープは、次のように加工されてフィル
ムキャリアテープを形成する。
Conventionally, TAB tapes are processed to form film carrier tapes as follows.

■)スプロケット・デバイスホールをスタンピングによ
り穿孔する。
■) Drill sprocket/device holes by stamping.

2)穿孔されたテープに銅箔を熱圧着した後、加熱によ
り接着剤を硬化させる。
2) After thermocompression bonding the copper foil to the perforated tape, the adhesive is cured by heating.

3)フォトレジストを塗布し、マスクを通して紫外線等
を照射した後、現像する。
3) Apply photoresist, irradiate it with ultraviolet rays etc. through a mask, and then develop it.

4)デバイスホールの裏打ち、銅のエツチング、レジス
ト除去、裏打ちの除去を行い、回路を作製し、ソルダー
レジストをかける。
4) Lining the device hole, etching the copper, removing the resist, removing the lining, fabricating a circuit, and applying a solder resist.

5)錫、金メツキを行う。5) Perform tin and gold plating.

以上の工程を経て作成されたテープに、チップがインナ
ーリードボンディングされた後、リードを切断し、プリ
ント基板等にアウターリードボンディングし、樹脂で封
止する。或いは、インナーリードボンディングした後、
樹脂で封止し、周辺回路も含め切断し、アウターリード
ボンディングする。
After the chip is inner lead bonded to the tape created through the above steps, the leads are cut, outer lead bonded to a printed circuit board, etc., and sealed with resin. Or, after inner lead bonding,
Seal with resin, cut including peripheral circuits, and perform outer lead bonding.

接着剤及び有機絶縁フィルムは、周辺回路、封止樹脂中
に残ることが多い。この様な場合、益々高密度化が進む
中、銅箔のパターン間の絶縁信頼性やチップのAll配
線の腐蝕に影響するイオン性不純物が問題になる。絶縁
信頼性やイオン性不純物は主に接着剤の特性に起因する
ところが多い。
Adhesives and organic insulating films often remain in peripheral circuits and sealing resins. In such cases, as density increases, ionic impurities that affect insulation reliability between patterns of copper foil and corrosion of Al wiring on a chip become a problem. Insulation reliability and ionic impurities are mainly caused by the characteristics of the adhesive.

即ち、イオン性不純物は、上記工程3)ないし5)にお
いて、接着剤がアルカリ(例えば、金メツキ時や、レジ
スト剥離時はカリウムイオンの含有)、酸(例えば、錫
メツキ時は塩素イオン、硫酸イオンの含有)、エツチン
グ液(塩素イオンの含有)などにさらされる為に生じた
り、また接着剤そのものに含まれていたりする場合があ
る。また、絶縁信頼性は、接着剤の耐湿熱性、電気抵抗
、上記イオン性不純物などにより支配される。
That is, ionic impurities are caused by the adhesive being alkali (for example, containing potassium ions during gold plating or resist peeling) or acid (for example, containing chloride ions or sulfuric acid during tin plating) in the above steps 3) to 5). It may occur due to exposure to etching solutions (containing ions), etching solutions (containing chlorine ions), or it may be contained in the adhesive itself. Furthermore, the insulation reliability is controlled by the adhesive's moisture and heat resistance, electrical resistance, the above-mentioned ionic impurities, and the like.

従来用いられてきたTAB用テープの接着剤層は、エポ
キシ系のものであるが、これは、a)加工中にイオン性
不純物(特にClイオン)が含有されやすい、b)湿熱
により加水分解されやすい、c)電気抵抗が低い、等の
性質により、パターン間の金属移行等を含め、絶縁劣化
が問題になっている。
The adhesive layer of conventionally used TAB tapes is epoxy-based, but this a) tends to contain ionic impurities (particularly Cl ions) during processing, and b) is easily hydrolyzed by moist heat. (c) low electrical resistance; therefore, insulation deterioration, including metal transfer between patterns, has become a problem.

また、TAB用テープに用いられる接着剤は、金属であ
るCu箔と有機絶縁フィルムとの層間を構成するもので
あるため、金属及び有機絶縁フィルムの双方に高い接着
力を持つことが要求される。
In addition, since the adhesive used in TAB tape forms the interlayer between the metal Cu foil and the organic insulating film, it is required to have high adhesive strength to both the metal and the organic insulating film. .

従来用いられてきたTAB用テープの接着剤層は、いず
れも単層構成のものであって、これ等単層構成のものは
、a)上記工程において接着剤層がアルカリ(例えば金
メツキ時、レジスト剥離時)、酸(例えば錫メツキ時)
、エツチング液等にさらされることによるCu箔に対す
る接着力の低下、及びb)インナーリード及びアウター
リードボンディング時、高温下での有機絶縁フィルムに
対する接着力の低下、等の欠点があり、益々デバイスの
高密度化、多ピン化が進む中で、多ビンチップのボンデ
ィングミスやリードの変形、剥がれ等が問題になってい
る。 本発明は、従来のTAB用テープにおける上記の
ような問題を解決することを目的とするものである。
All of the adhesive layers of conventionally used TAB tapes have a single-layer structure. (when removing resist), acids (for example, when tin plating)
, a decrease in adhesive strength to Cu foil due to exposure to etching solutions, etc., and b) decrease in adhesive strength to organic insulating films at high temperatures during inner lead and outer lead bonding. As density increases and the number of pins increases, problems such as bonding errors, lead deformation, and peeling of multi-bin chips are becoming a problem. The present invention aims to solve the above-mentioned problems with conventional TAB tapes.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明のTAB用テープは、有機絶縁フィルム上に、接
着剤層及び保護層を設けてなり、該接着剤層が少なくと
も2層より構成され、かつ、有機絶縁フィルムと接する
側の接着剤層は、ポリアミド樹脂を主成分とし、保護層
と接する側の接着剤層は、ポリアミド樹脂とレゾール型
フェノール樹脂を主成分とすることを特徴とする。
The TAB tape of the present invention is formed by providing an adhesive layer and a protective layer on an organic insulating film, and the adhesive layer is composed of at least two layers, and the adhesive layer on the side in contact with the organic insulating film is , the adhesive layer on the side that is in contact with the protective layer is mainly composed of polyamide resin and resol type phenolic resin.

第1図は本発明のTAB用テープの模式的断面図であっ
て、有機絶縁フィルム1の片面に、第1の接着剤層21
及び第2の接着剤層22よりなる半硬化法の接着剤層2
と、保護層となる保護フィルム3が順次積層された層構
成を有する。図において、接着剤層2は2層構成になっ
ているが、本発明においては、2層以上の層構成を有す
るものでありでもよい。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of the TAB tape of the present invention, in which a first adhesive layer 21 is provided on one side of an organic insulating film 1.
Adhesive layer 2 of semi-curing method consisting of and second adhesive layer 22
It has a layered structure in which a protective film 3 serving as a protective layer is sequentially laminated. In the figure, the adhesive layer 2 has a two-layer structure, but in the present invention, it may have a layer structure of two or more layers.

有機絶縁フィルムとしては、厚さ25〜188如、好ま
しくは50〜125 犀のポリイミド、ポリエーテルイ
ミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルエー
テルケトン等の耐熱性フィルムや、エポキシ樹脂−ガラ
スクロス、エポキシ樹脂−ポリイミド−ガラスクロス等
の複合耐熱フィルムからなる有機絶縁フィルムが使用で
きる。
Examples of organic insulating films include heat-resistant films with a thickness of 25 to 188 mm, preferably 50 to 125 mm, such as rhinoceros polyimide, polyetherimide, polyphenylene sulfide, polyether ether ketone, epoxy resin-glass cloth, epoxy resin-polyimide, etc. - An organic insulating film made of a composite heat-resistant film such as glass cloth can be used.

接着剤層は、熱硬化型のもので半硬化状であることが必
要であり、少なくとも2層より構成される。接着剤層の
総膜厚は、10〜50帆、好ましくは■5〜30Iln
の範囲にある。また、有機絶縁フィルムと接する側の接
着剤層及び保護層と接する側の接着剤層は、それぞれ、
少なくともlρの膜厚を有するのが望ましい。
The adhesive layer needs to be thermosetting and semi-cured, and is composed of at least two layers. The total thickness of the adhesive layer is 10 to 50 ln, preferably 5 to 30 ln.
within the range of In addition, the adhesive layer on the side in contact with the organic insulating film and the adhesive layer on the side in contact with the protective layer are each
It is desirable to have a film thickness of at least lρ.

各接着剤層のうち、有機絶縁フィルムと接する側の接着
剤層は、有機絶縁フィルムに直接接するので、高温時に
おいても高い粘着性を有し、有機絶縁フィルムとの高い
接着力を示すような接着剤が使用される。そのような接
着剤として、本発明においては、ポリアミド樹脂を主成
分とするものが使用される。この接着剤層には、耐薬品
性を(=1与する為に、エポキシ樹脂やノボラック型フ
エノル樹脂を併用することが可能である。更にまた、ポ
リエステル樹脂、NBR,SBR等の熱可塑性樹脂を配
合することも可能である。いずれの場合においても、有
機絶縁フィルムに直接接する接着剤層においては、ポリ
アミド樹脂は、50重量%以上含有されるようにするの
が好ましい。
Of each adhesive layer, the adhesive layer on the side that is in contact with the organic insulating film is in direct contact with the organic insulating film, so it has high tack even at high temperatures and exhibits high adhesive strength with the organic insulating film. Glue is used. In the present invention, as such an adhesive, one whose main component is a polyamide resin is used. For this adhesive layer, in order to provide chemical resistance (=1), it is possible to use epoxy resin or novolak type phenol resin in combination. Furthermore, thermoplastic resin such as polyester resin, NBR, SBR, etc. In either case, the polyamide resin is preferably contained in an amount of 50% by weight or more in the adhesive layer that is in direct contact with the organic insulating film.

他方、保護フィルムと接する側の接着剤層は、フィルム
キャリアテープへの加工時に、銅箔と接するようになる
ので、銅箔との高い接着性とフィルムキャリアへの加工
時にさらされるような薬液に対する優れた耐薬品性を持
つような接着剤が使用される。本発明においては、その
様な接着剤として、ポリアミド樹脂及びレゾール型フェ
ノール樹脂を主成分とするものが使用される。
On the other hand, the adhesive layer on the side that is in contact with the protective film comes into contact with the copper foil during processing into the film carrier tape, so it has high adhesion to the copper foil and is highly resistant to chemicals that are exposed during processing into the film carrier. Adhesives are used that have excellent chemical resistance. In the present invention, as such an adhesive, one whose main components are a polyamide resin and a resol type phenolic resin is used.

この接着剤層においては、ポリアミド樹脂とレゾール型
フェノール樹脂との比率は、ポリアミド樹脂100重量
部に対し、レゾール型フェノール樹脂4〜100重量部
の範囲にあることが好ましく、また、ポリアミド樹脂は
、全接着剤中の50重量%未満であることが好ましい。
In this adhesive layer, the ratio of the polyamide resin to the resol type phenol resin is preferably in the range of 4 to 100 parts by weight of the resol type phenol resin to 100 parts by weight of the polyamide resin, and the polyamide resin is Preferably it is less than 50% by weight of the total adhesive.

また、この接着剤層には、さらにエポキシ樹脂、ノボラ
ック型フェノール樹脂等の熱硬化性樹脂及びイミダゾー
ル等の硬化促進剤を併用することができる。
Further, this adhesive layer may further contain a thermosetting resin such as an epoxy resin or a novolac type phenol resin, and a curing accelerator such as imidazole.

本発明における上記各接着剤層において使用するポリア
ミド樹脂としては、公知の種々のものが使用できる。
As the polyamide resin used in each of the above-mentioned adhesive layers in the present invention, various known polyamide resins can be used.

使用するポリアミド樹脂の分子量は、フレキシビリティ
−、テープと銅箔との熱圧着時や、接着剤の硬化時の溶
融特性(デバイスホールからの接着剤のはみ出し)に関
連するものであって、分子量が低すぎると溶融温度が低
くなり、はみ出しの問題が生じる。また、分子量が高す
ぎると銅箔との熱圧着温度か高くなり過ぎるという問題
が生しる。したがって、本発明においては、分子量30
.000〜150.000の範囲で、軟化温度100〜
180℃のポリアミド樹脂を用いるのが好ましい。
The molecular weight of the polyamide resin used is related to flexibility, the thermocompression bonding of the tape and the copper foil, and the melting characteristics (protrusion of the adhesive from the device hole) when the adhesive hardens. If it is too low, the melting temperature will be low and the problem of extrusion will occur. Furthermore, if the molecular weight is too high, a problem arises in that the thermocompression bonding temperature with copper foil becomes too high. Therefore, in the present invention, the molecular weight is 30
.. 000~150.000, softening temperature 100~
Preferably, a polyamide resin at 180°C is used.

更にまた、デバイスホールからの接着剤のはみ出し等に
関連する溶融特性に影響を与える因子として、分子量分
布があり、分子量分布が狭い場合には、熱による急激な
粘度低下を起こし、テープと銅箔との熱圧時デバイスホ
ールからのはみ出しのない熱圧条件が狭くなり好ましく
ない。したかって、本発明において使用するポリアミド
樹脂は、分子量分布の広いものが望ましい。
Furthermore, molecular weight distribution is a factor that affects the melting characteristics related to adhesive extrusion from device holes, etc. If the molecular weight distribution is narrow, the viscosity decreases rapidly due to heat, and the tape and copper foil At the time of hot-pressing, the hot-pressing conditions without protrusion from the device hole become narrow, which is not preferable. Therefore, it is desirable that the polyamide resin used in the present invention has a wide molecular weight distribution.

また、ポリアミド樹脂として、例えば、アミド基当量(
分子量/アミド基1個)が200ないし400のポリア
ミド樹脂を用いると、接着剤層の吸湿性が低くなり、ま
た、吸湿による電気抵抗の低下を1桁程度に抑えること
ができ、そして、加水分解などの耐湿性が向上し、結果
的に絶縁劣化を防止することができるので、特に好まし
い。
In addition, as a polyamide resin, for example, amide group equivalent (
When a polyamide resin with a molecular weight/one amide group of 200 to 400 is used, the hygroscopicity of the adhesive layer is low, and the decrease in electrical resistance due to moisture absorption can be suppressed to about one digit, and it is possible to suppress hydrolysis. It is particularly preferable because it improves moisture resistance such as, and as a result, insulation deterioration can be prevented.

また、ポリアミド樹脂としては、その1分子鎖の中でア
ミド基間の炭化水素の分子量が100から800の広範
囲にわたるもの、そして、異なる分子量をもつアミド基
間炭化水素分子が不規則に並んで入ったものを用いても
よい。これ等のポリアミド樹脂は、アミド基当量が大き
いにもかかわらず、接着性を有し、フレキシビリティも
大きいので好ましく使用される。
In addition, polyamide resins include those in which the molecular weight of the hydrocarbon between the amide groups in one molecular chain ranges over a wide range from 100 to 800, and those in which hydrocarbon molecules with different molecular weights between the amide groups are arranged irregularly. You may also use These polyamide resins are preferably used because they have adhesive properties and high flexibility despite having a large amide group equivalent.

上記ポリアミド樹脂と併用させるレゾール型フェノール
樹脂としては、フェノール成分かビスフェノールA及び
アルキルフェノールから選択された1種又は2種よりな
るビスフェノールA型、アルキルフェノール型、又はそ
れらの共縮合型のものが使用できる。アルキルフェノー
ル型のレゾール型フェノール樹脂は、フェノール性水酸
基の〇又はp−位に、メチル基、エチル基、プロピル基
、t−ブチル基、ノニル基等を有するものがあげられる
。レゾール型フェノール樹脂は、加熱により反応して、
接着力を有する不溶不融の固体になり、接着剤の接着力
、絶縁信頼性、耐薬品詞、耐熱性を向上させる作用をす
る。
As the resol type phenolic resin used in combination with the polyamide resin, a bisphenol A type, an alkylphenol type, or a cocondensation type thereof, which is composed of one or two selected from phenol components bisphenol A and alkylphenols, can be used. Examples of the alkylphenol type resol type phenol resin include those having a methyl group, ethyl group, propyl group, t-butyl group, nonyl group, etc. at the ○ or p-position of the phenolic hydroxyl group. Resol type phenolic resin reacts with heating,
It becomes an insoluble and infusible solid with adhesive strength, and works to improve the adhesive strength, insulation reliability, chemical resistance, and heat resistance of adhesives.

0 接着剤層の保護層となる保護フィルムとしては、ポリエ
チレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン
等のフィルムが使用できる次に、本発明のTAB用テー
プの製造法について説明する。第2図は、製造工程を示
すもので、保護フィルム3の上に、所定の配合を有する
2種類の接着剤を、それぞれ乾燥後の膜厚が」二記の範
囲になるように塗布して第1の接着剤層21及び第2の
接着剤層22を形成するか、又は、予め、単層に製膜し
た二種類の接着剤よりなるフィルムを、保護フィルム3
上に熱圧着により積層する。この際、半硬化状の状態に
するために、その加熱条件は150〜180℃で乾燥さ
せることが必要である。
0 As the protective film serving as the protective layer of the adhesive layer, films of polyethylene, polyethylene terephthalate, polypropylene, etc. can be used.Next, the method for manufacturing the TAB tape of the present invention will be explained. Figure 2 shows the manufacturing process, in which two types of adhesives with predetermined formulations are applied onto the protective film 3 so that the film thickness after drying falls within the range shown in ``2''. The first adhesive layer 21 and the second adhesive layer 22 are formed, or a film made of two types of adhesives formed into a single layer in advance is applied to the protective film 3.
It is laminated on top by thermocompression bonding. At this time, in order to obtain a semi-cured state, the heating conditions need to be drying at 150 to 180°C.

次に、形成された接着剤層2の表面に、有機絶縁フィル
ム1を重ね合わせ、100〜130℃でl kg/d以
上の条件で熱圧着する。
Next, the organic insulating film 1 is superimposed on the surface of the formed adhesive layer 2, and thermocompression bonded at 100 to 130°C under conditions of 1 kg/d or more.

得られたTAB用テープは巻回されて、例えば幅30〜
200 mmで30〜300mの長さのものが得られる
The obtained TAB tape is wound to have a width of, for example, 30 to 30 mm.
200 mm and lengths of 30 to 300 m are obtained.

〔実施例〕〔Example〕

1 以下、本発明を実施例によって説明する。 1 Hereinafter, the present invention will be explained by examples.

実施例1 厚さ38朗のポリエチレンテレフタレートフィルムから
なる保護フィルムに下記組成の接着剤層用塗料を塗布し
、160℃で2分間加熱乾燥して膜厚15ρの接着剤層
を形成した。
Example 1 An adhesive layer paint having the following composition was applied to a protective film made of polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm, and was dried by heating at 160° C. for 2 minutes to form an adhesive layer having a thickness of 15 μm.

ポリアミド樹脂(トーマイドTXC−232−B富士化
成工業社製)の25%イソ プロピルアルコール/水混合溶液  60部レゾールフ
ェノール樹脂 (CKM−1282、昭和高分子社製)の50%メチル
エチルケトン溶液   6部エポキシ樹脂(エピコート
828、 油化シェル社製)14部 ノボラックフェノール樹脂 (タマノル752、荒用化学社製) の50%メチルエチルケトン溶液   14部2−エチ
ルイミダゾールの1%メチル エチルケトン溶液         10部次に、上記
接着剤層の上に、下記組成の接着剤2 要用塗料を塗布し、160℃で2分間乾燥して、膜厚5
迦の接着剤層を形成した。
25% isopropyl alcohol/water mixed solution of polyamide resin (Thomide TXC-232-B, manufactured by Fuji Kasei Kogyo Co., Ltd.) 60 parts 50% methyl ethyl ketone solution of resol phenol resin (CKM-1282, manufactured by Showa Kobunshi Co., Ltd.) 6 parts Epoxy resin ( 14 parts of a 50% methyl ethyl ketone solution of novolac phenol resin (Tamanol 752, manufactured by Arayo Kagaku Co., Ltd.) 14 parts of a 1% methyl ethyl ketone solution of 2-ethylimidazole 10 parts of the adhesive layer Apply Adhesive 2 Required Paint with the following composition on top and dry at 160℃ for 2 minutes to obtain a film thickness of 5.
A layer of adhesive was formed.

ポリアミド樹脂(トーマイドTXC−232−B富士化
成工業社製)の25%イソ プロピルアルコール/水混合溶液 100部エポキシ樹
脂(エピコート828、 油化シェル社製)          8部ノボラック
フェノール樹脂 (タマノル752、荒用化学社製) の50%メチルエチルケトン溶液   8部2−エチル
イミダゾールの1%メチル エチルケトン溶液         10部次に厚さ5
0m1のポリイミドフィルムからなる有機絶縁フィルム
を重ね合わせ、130℃、1kg/c+#の条件で加熱
加圧して、TAB用テープを作製した。
25% isopropyl alcohol/water mixed solution of polyamide resin (Tomide TXC-232-B manufactured by Fuji Kasei Kogyo Co., Ltd.) 100 parts Epoxy resin (Epicote 828, manufactured by Yuka Shell Co., Ltd.) 8 parts Novolac phenol resin (Tamanol 752, manufactured by Arayo Kagaku) 8 parts of 50% methyl ethyl ketone solution (manufactured by Co., Ltd.) 10 parts of 1% 2-ethylimidazole solution in methyl ethyl ketone Next, thickness: 5 parts
A TAB tape was produced by stacking organic insulating films made of 0 ml of polyimide films and heating and pressing them at 130° C. and 1 kg/c+#.

次に、このTAB用テープの保護フィルムを剥離し、1
オンスの電解銅箔(厚さ35〜40IIn)を貼り合わ
せ、130℃、1kg/cJの条件で加熱加圧処理を行
った。その後更に60℃で6時間、80’Cで63 時間、120°Cで3時間、及び150℃で5時間、順
次加熱を行い、各接着剤層の硬化を行った。更に、常法
により銅箔上にフォトレジスト膜を形成して処理し、銅
箔をエツチングし、櫛型回路を形成してフィルムキャリ
アテープを作成した。
Next, peel off the protective film of this TAB tape and
ounce of electrolytic copper foil (thickness: 35 to 40 IIn) was bonded together, and heat and pressure treatment was performed at 130° C. and 1 kg/cJ. Thereafter, each adhesive layer was cured by successively heating at 60°C for 6 hours, 80'C for 63 hours, 120°C for 3 hours, and 150°C for 5 hours. Furthermore, a photoresist film was formed and treated on the copper foil by a conventional method, and the copper foil was etched to form a comb-shaped circuit to produce a film carrier tape.

実施例2 接着剤層用塗料として、下記組成のものを用いた以外は
、実施例1と同様にしてTAB用テープ及びフィルムキ
ャリアテープを作製した。
Example 2 A TAB tape and a film carrier tape were produced in the same manner as in Example 1, except that a paint having the following composition was used as the adhesive layer coating.

(保護フィルム側の接着剤) ポリアミド樹脂(マクロメルト6212ヘンケル白水社
製)の25%イソ プロピルアルコール/水混合溶液  60部レゾールフ
ェノール樹脂 (CKM−1282、昭和高分子社製)の50%メチル
エチルケトン溶液    6部エポキシ樹脂(エピコー
ト828、 油化シェル社製)          14部ノボラッ
クフェノール樹脂 (タマノル752、荒用化学社製) 4 の50%メチルエチルケトン溶液   14部2−エチ
ルイミダゾールの1%メチル エチルケトン溶液         10部(有機絶縁
フィルム側の接着剤) ポリアミド樹脂(マクロメルト6212ヘンケル白水社
製)の25%イソ プロピルアルコール/水混合溶液 100部エポキシ樹
脂(エピコート828、 油化シェル社製)          8部ノボラック
フェノール樹脂 (タマノル752、荒用化学社製) の50%メチルエチルケトン溶液   8部2−エチル
イミダゾールの1%メチル エチルケトン溶液          IO部実施例3 接着剤層用塗料として、下記組成のものを用いた以外は
、実施例1と同様にしてTAB用テープ及びフィルムキ
ャリアテープを作製した。
(Adhesive on the protective film side) 25% isopropyl alcohol/water mixed solution of polyamide resin (Macromelt 6212, manufactured by Henkel Hakusuisha) 60 parts 50% methyl ethyl ketone solution of resol phenol resin (CKM-1282, manufactured by Showa Kobunshi Co., Ltd.) 6 1 part epoxy resin (Epicote 828, manufactured by Yuka Shell Co., Ltd.) 14 parts Novolac phenol resin (Tamanol 752, manufactured by Arayo Kagaku Co., Ltd.) 14 parts 50% methyl ethyl ketone solution of 4 parts 1% methyl ethyl ketone solution of 2-ethylimidazole 10 parts (organic insulation) Adhesive on the film side) 25% isopropyl alcohol/water mixed solution of polyamide resin (Macromelt 6212 manufactured by Henkel Hakusuisha) 100 parts epoxy resin (Epicote 828 manufactured by Yuka Shell) 8 parts novolac phenol resin (Tamanol 752 manufactured by Yuka Shell) 50% methyl ethyl ketone solution (manufactured by Yokogaku Co., Ltd.) 8 parts 1% methyl ethyl ketone solution of 2-ethylimidazole IO part Example 3 The same procedure as in Example 1 was carried out except that a paint with the following composition was used as the adhesive layer coating. A TAB tape and a film carrier tape were produced.

(保護フィルム側の接着剤) ポリアミド樹脂(プラタボンダト12765 日本リルサン社製)の25%イソ プロピルアルコール/水混合溶液 レゾールフェノール樹脂 (PR−11078、住友デュレズ社製)の50%メチ
ルエチルケトン溶液 エポキシ樹脂(エピコート828、 油化シェル社製) ノボラックフェノール樹脂 (タマノル752、荒用化学社製) の50%メチルエチルケトン溶液 −2−エチルイミダゾールの1%メチルエチルケトン溶
液 (有機絶縁フィルム側の接着剤) ポリアミド樹脂(グラタボ2フ112フ6日本リルサン
社製)の25%イソ プロピルアルコール/水混合溶液 エポキシ樹脂(エピコート828、 油化シェル社製) ノボラックフェノール樹脂 (タマノル752、荒用化学社製) 6 60部 14部 14部 10部 100部 の50%メチルエチルケトン溶液    8部2−エチ
ルイミダゾールの1%メチル エチルケトン溶液          10部比較例] 接着剤層用塗料として、下記組成のものを用い、接着剤
層を単層構造としてTAB用テープを作製した以外は、
実施例1と同様にしてフィルムキャリアテープを作製し
た。
(Adhesive on the protective film side) 25% isopropyl alcohol/water mixed solution of polyamide resin (Platabondato 12765, manufactured by Nippon Rilsan Co., Ltd.) 50% methyl ethyl ketone solution of resol phenol resin (PR-11078, manufactured by Sumitomo Durez Co., Ltd.) Epoxy resin (Epicoat 828) , manufactured by Yuka Shell Co., Ltd.) 50% methyl ethyl ketone solution of novolac phenol resin (Tamanol 752, manufactured by Arayo Kagaku Co., Ltd.) - 1% methyl ethyl ketone solution of 2-ethylimidazole (adhesive on the organic insulating film side) Polyamide resin (Gratabo 2F) Epoxy resin (Epicote 828, manufactured by Yuka Shell Co., Ltd.) Novolac phenol resin (Tamanol 752, manufactured by Arayo Kagaku Co., Ltd.) 6 60 parts 14 parts 14 parts 10 Part 100 parts of 50% methyl ethyl ketone solution 8 parts 1% 2-ethylimidazole solution in methyl ethyl ketone 10 parts Comparative example] The following composition was used as the paint for the adhesive layer, and the TAB tape was made with the adhesive layer having a single layer structure. Except for the created
A film carrier tape was produced in the same manner as in Example 1.

ポリアミド樹脂(トーマイドTXC−232−B富士化
成工業社製)の25%イソ プロピルアルコール/水混合溶液  60部レゾールフ
ェノール樹脂 (CKM−1,282、昭和高分子社製)の50%メチ
ルエチルケトン溶液   6部エポキシ樹脂(エピコー
ト828、 油化シェル社製)14部 ノボラックフェノール樹脂 (タマノル752、荒用化学社製) の50%メチルエチルケトン溶液   14部2−エチ
ルイミダゾールの1%メチル 7 エチルケトン溶液          10部比較例2 接着剤層用塗料として、下記組成のものを用い、接着剤
層を単層構造としてTAB用テープを作製した以外は、
実施例1と同様にしてフィルムキャリアテープを作製し
た。
25% isopropyl alcohol/water mixed solution of polyamide resin (Thomide TXC-232-B, manufactured by Fuji Kasei Kogyo Co., Ltd.) 60 parts 50% methyl ethyl ketone solution of resol phenol resin (CKM-1,282, manufactured by Showa Kobunshi Co., Ltd.) 6 parts Epoxy Resin (Epicote 828, manufactured by Yuka Shell Co., Ltd.) 14 parts Novolac phenol resin (Tamanol 752, manufactured by Arayo Kagaku Co., Ltd.) 50% methyl ethyl ketone solution 14 parts 2-ethylimidazole 1% methyl 7 ethyl ketone solution 10 parts Comparative Example 2 Adhesion The following composition was used as the paint for the adhesive layer, and the TAB tape was made with the adhesive layer having a single layer structure.
A film carrier tape was produced in the same manner as in Example 1.

ポリアミド樹脂(プラタボンダト1276、日本リルサ
ン社製)のイソプロ ピルアルコール/水混合溶液   100部エポキシ樹
脂(エピコート828、 消化シェル社製)          8部ノボラック
フェノール樹脂 (タマノル752、荒用化学社製)   8部2−エチ
ルイミダゾールの1%メチル エチルケトン溶液          10部(特性評
価試験) 上記実施例1ないし3及び比較例1及び2のフィルムキ
ャリアテープに対し、下記の特性評価試験を行った。
Isopropyl alcohol/water mixed solution of polyamide resin (Platabondato 1276, manufactured by Nippon Rilsan Co., Ltd.) 100 parts Epoxy resin (Epicote 828, manufactured by Jigyo Shell Co., Ltd.) 8 parts Novolac phenol resin (Tamanol 752, manufactured by Arayo Kagaku Co., Ltd.) 8 parts 2- 10 parts of 1% methyl ethyl ketone solution of ethylimidazole (characteristic evaluation test) The following characteristic evaluation test was conducted on the film carrier tapes of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2.

1、耐薬品性試験  8 エツチング液及び無電界メツキ液に浸された際の銅箔と
接着剤層との間の接着力を調べるために、エツチングに
よって、200 帆、100 帆及び50/II!II
Iのパターン巾に形成した銅箔パターンの接着力を測定
し、さらに無電界メツキを行った後の接着力を測定した
。結果を第1表に示す。なお、第1表の数値は、180
°剥離力をテンシロン引張り強度測定機によって測定し
た値である。
1. Chemical resistance test 8 To investigate the adhesion between the copper foil and the adhesive layer when immersed in etching solution and electroless plating solution, 200 sail, 100 sail and 50/II! II
The adhesive strength of the copper foil pattern formed in the pattern width I was measured, and the adhesive strength after electroless plating was further measured. The results are shown in Table 1. The numbers in Table 1 are 180
The peel force was measured using a Tensilon tensile strength measuring device.

9 2、耐熱接着性 lc+n幅のCu箔が形成されたフィルムキャリアテー
プを、350℃の熱板上に、その有機絶縁フィルムの背
面が接するように固定し、Cu箔を180°の方向に5
c+n/n+jlの剥離速度で剥離して、その際の剥離
力を測定した。結果を第2表に示す。
9 2. Heat-resistant adhesive A film carrier tape on which a Cu foil with a width of lc+n is formed is fixed on a 350°C hot plate so that the back side of the organic insulating film is in contact with it, and the Cu foil is 5
Peeling was performed at a peeling speed of c+n/n+jl, and the peeling force at that time was measured. The results are shown in Table 2.

第2表 第1表及び第2表の結果から明らかなように、本発明の
TAB用テープは、上記試験によって、優れた耐薬品性
及び耐熱接着性を示すことが確認された。
As is clear from the results in Tables 1 and 2, the TAB tape of the present invention was confirmed to exhibit excellent chemical resistance and heat-resistant adhesive properties through the above test.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明のTAB用テープは、接着剤層が2層以0 上の積層構造を有し、かつ、有機絶縁フィルムに接する
側の接着剤層と保護層に接する側の接着剤層とが、前記
した接着剤組成を有するから、接着剤が、エツチング、
メツキ、レジスト剥離等の加工工程中にアルカリ、酸或
いはエツチング液などにさらされても、Cu箔に対する
接着力の低下を引き起こすことがない。また、インナー
リード及びアウターリードボンディング時の高温下で、
有機絶縁性フィルムに対する接着力の低下が生じること
もない。
The TAB tape of the present invention has a laminated structure including two or more adhesive layers, and the adhesive layer on the side in contact with the organic insulating film and the adhesive layer on the side in contact with the protective layer are Because the adhesive composition has a
Even if exposed to alkali, acid, etching solution, etc. during processing steps such as plating and resist peeling, the adhesive strength to Cu foil will not deteriorate. In addition, under high temperatures during inner lead and outer lead bonding,
There is no decrease in adhesive strength to the organic insulating film.

したがって、本発明のTAB用テープは、高密度化した
回路に適用することが可能になる。また、本発明のTA
B用テープは、絶縁信頼性が高く、リード間の絶縁性に
問題が生じないので、チップと外部回路との接続に使用
される際に、リードの数が増えても、リード部分にテー
プを残留させることができる。したがって、多ビンチッ
プを実装する場合、ボンディングミスが生じ難く、搬送
工程、ボンディング工程等において、リードの変形が少
なく歩留まりが大巾に上昇する。
Therefore, the TAB tape of the present invention can be applied to high-density circuits. Moreover, the TA of the present invention
B tape has high insulation reliability and does not cause problems with the insulation between the leads, so when it is used to connect the chip to an external circuit, even if the number of leads increases, it is easy to use tape on the lead part. It can be left behind. Therefore, when mounting multi-bin chips, bonding errors are less likely to occur, and leads are less likely to be deformed during the transportation process, bonding process, etc., and the yield is greatly increased.

1

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明のTAB用テープの模式的断面図であり
、第2図は本発明のTAB用テープの製造工程図である
。 ■・・・有機絶縁フィルム、2・・・接着剤層、2■・
・・第1の接着剤層、22・・・第2の接着剤層、3・
・・保護フィルム。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of the TAB tape of the present invention, and FIG. 2 is a manufacturing process diagram of the TAB tape of the present invention. ■...Organic insulating film, 2...Adhesive layer, 2■・
...first adhesive layer, 22...second adhesive layer, 3.
··Protective film.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)有機絶縁フィルム上に、接着剤層及び保護層を設
けてなり、該接着剤層が少なくとも2層より構成され、
かつ、有機絶縁フィルムと接する側の接着剤層は、ポリ
アミド樹脂を主成分とし、保護層と接する側の接着剤層
は、ポリアミド樹脂とレゾール型フェノール樹脂を主成
分とすることを特徴とするTAB用テープ。
(1) An adhesive layer and a protective layer are provided on an organic insulating film, and the adhesive layer is composed of at least two layers,
The adhesive layer on the side in contact with the organic insulating film mainly contains polyamide resin, and the adhesive layer on the side in contact with the protective layer mainly contains polyamide resin and resol type phenolic resin. tape.
(2)有機絶縁フィルムと接する側の接着剤層における
ポリアミド樹脂の含有量が50重量%以上であることを
特徴とする請求項(1)記載のTAB用テープ。
(2) The TAB tape according to claim (1), wherein the content of polyamide resin in the adhesive layer on the side in contact with the organic insulating film is 50% by weight or more.
(3)保護層と接する側の接着剤層におけるポリアミド
樹脂の含有量が50重量%未満であることを特徴とする
請求項(1)又は(2)記載のTAB用テープ。
(3) The TAB tape according to claim (1) or (2), wherein the content of polyamide resin in the adhesive layer on the side in contact with the protective layer is less than 50% by weight.
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