JPH03232134A - 光記録媒体 - Google Patents

光記録媒体

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JPH03232134A
JPH03232134A JP2028033A JP2803390A JPH03232134A JP H03232134 A JPH03232134 A JP H03232134A JP 2028033 A JP2028033 A JP 2028033A JP 2803390 A JP2803390 A JP 2803390A JP H03232134 A JPH03232134 A JP H03232134A
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JP
Japan
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adhesive
optical recording
less
molecular weight
weight
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Pending
Application number
JP2028033A
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English (en)
Inventor
Isamu Fukushima
勇 福島
Yoshiyuki Shirosaka
欣幸 城阪
Mitsugi Wakabayashi
若林 貢
Takayuki Ota
太田 隆之
Atsushi Kasai
厚 笠井
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Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Kasei Corp
Mitsubishi Chemical Industries Ltd
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  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光記録媒体に関する。詳しくは、記録層を有す
る透明基板を貼り合せた構造を有する、接着性、経時安
定性、作業性等に優れた光記録媒体に関するものである
。
〔従来の技術〕
光学式ビデオディスク、光学式オーディオディスク、書
込可能型光ディスク等の光記録媒体には、プラスチック
の基板上に金属記録層、色素記録層、光磁気記録層など
を設けたものがあり、記録膜の光ビームによる溶融、昇
華を利用した孔あけタイプ、結晶と非晶質の間の相転移
を利用したタイプ、磁気光学効果を利用した光磁気タイ
プなどが知られている。何れのタイプにおいても、記録
層にゴミが付着するのを防止したり、キズなどを防止す
るため、記録層や他の補助層が設けられた光透過性基板
を、それらの層が内側に対向するように貼り合せた構成
とし基板を通して記録再生を行なうような構造としてい
る。この接着の際に用いる接着剤としては、無溶剤で記
録層への悪影響がなく工程も簡単なホットメルトタイプ
を用いたものが知られている。
光記録媒体に用いる接着剤に要求される特性としては、
記録層に悪影響のないよう作業の際塗布温度が低くかつ
媒体使用時に耐熱性が良好であるという相反する性質を
有するものが要求され、さらに初期接着力が十分得られ
、機械的性質が優れかつ膜の透明性が低い等の特性が望
まれている。
ホントメルト型の接着剤はアプリケーターで加熱溶融し
たものを被着体(光記録媒体)に塗布し、圧着貼合せ後
冷却して固化させ、接着を行なう。
このホットメルト型接着剤は、初期接着力が得られ、作
業性が良好であるという特徴を有するがその反面高温で
の接着力は低下し、軟化するのでディスクのずれ、はく
離を生じ使用範囲に限界がある。ホントメルト接着剤と
しては、一般にEVA系、ポリオレフィン系(LDPE
、APP等)フロック共重合体系(SBS、SIS、5
EBS等)ブチルゴム系、ポリアミド系、ポリエステル
系等が市販されている。特にポリアミド系やポリエステ
ル系は耐熱性が比較的高いものであるが、溶融粘度の関
係から塗布温度も高く設定しなければならず熱に弱い樹
脂基板を用いる光記録媒体に対しては使用できない。
一方、反応型接着剤は高温での使用に際しても接着強度
が持続すると云う良い点がある。しかしながら一般に良
く知られたエポキシ、ウレタン、アクリル等の反応型接
着剤は、作業時の初期接着強度が極めて小さく、反応硬
化が進んで接着力が得られるまで時間が長く、作業性が
悪い。
このためホットメルト型の初期接着力と反応型の耐熱性
とを兼ね備えた接着剤も検討されている。
この場合反応の方法として加熱、酸化、エネルギー照射
、水分/湿気、二液等が提案されているが、最も簡便で
、実用化も進んでいるのは水分/湿気により硬化するも
のである。このようなものとして分子末端にイソシアネ
ートc以下NGO)基を有するウレタンプレポリマーを
主成分とする反応性ホットメルト接着剤が知られている
。
例えば特公昭51−47735にはポリプロピレングリ
コール(PPG)とトルエンジイソシアネート(TDI
)等よりなるNGO末端ウレタンプレポリマーを主成分
とする反応性ホットメルト接着剤が開示されているが、
PPGのようなポリエーテル構造を骨格とするウレタン
は耐熱性が不良であり実用上不都合である。
また、特開昭63−251415にはポリカプロラクト
ンポリオールとアジピン酸とヘキサンジオールより得ら
れるポリエステルポリオールとジフェニルメタンジイソ
シアネート(MDI)等よりなるNGO末端ウレタンプ
レポリマーを主成分とする反応性ホットメルト接着剤が
開示されているが、ポリエステル構造を骨格とするウレ
タンは耐加水分解性が不良で実用上問題がある。
さらに特開昭64−54089にはポリアルキレンジオ
ールまたはポリアルキレントリオールとイソシアネート
よりなるNC○末端ウレタンプレポリマーを主成分とす
る反応性ホントメルト接着剤が開示されているが、この
ものは耐熱性は改良されているものの接着剤そのものの
強度が30kg/aj(〜430ps i)以下のもの
しか得られず機械的性質の不満足なものである。
〔発明が解決しようとする課題〕
本発明は貼合せに用いる接着剤を改良し、実用上問題の
ない光記録媒体を提供することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
本発明者等は光記録媒体の上記課題を解決すべく鋭意検
討を重ねた結果特殊の接着剤を用いて接着することによ
り課題を解決することができることを見出し、本発明を
完成した。
すなわち、本発明の要旨は、記録層を有する基板同志も
しくは該基板と他の基板とを対向させて接着剤で貼合せ
た構造の光記録媒体であって、この接着剤が、1分子当
りの平均水酸基数が1〜8ケであって数平均分子量が6
00〜20000の範囲にありヨウ素価が100以下で
あるポリヒドロキシ炭化水素系重合体95〜5ON量%
及び分子量600未満のジオール5〜50重量%よりな
るポリオール成分とポリイソシアネートとを反応させて
なる、分子末端にイソシアネート基を存するウレタンプ
レポリマーを主成分とした反応性ホソトメルト接着剤で
あることを特徴とする光記録媒体に存する。以下本発明
をさらに詳しく説明する。
本発明において、基板としてはポリカーボネート樹脂、
アクリル樹脂等の樹脂基板が用いられる。
記録層としては一般に公知の光記録として用いられる層
構成のものが使用可能である。
光磁気記録層の場合には公知の光磁気記録の層構成のも
のが用いられる。例えば、TbFe  TbFeCo、
TbCo、DyFeCo等の希土類と遷移金属の非晶質
磁性合金、MnB1.MnCuB1等の多結晶垂直磁化
膜等が用いられる。
光磁気記録層としては、単一層を用いても良いしCdT
bFe/TbFeのように2層以上の記録層を重ねても
良い。
上記基板と記録層の間に干渉層を設けることも出来る。
この層は高屈折率の透明膜による光の干渉効果を用い、
反射率を落とすことでノイズを低下させC/N比を向上
させるためのものである。
干渉層としては金属酸化物や金属窒化物が用いられる。
金属酸化物としてはAfz 03 、Taz Os等の
金属酸化物単独あるいはこれらの混合物、あるいはAl
−Ta−00複合酸化物等が挙げられる。
また更にこれらに他の元素、例えばSi、Ti。
Zr、W、Mo、Yb等が酸化物の形で単独あるいはA
j2.Taと複合して酸化物を形成していてもよい。
金属チン化物として、具体的にはケイ素、アルミニウム
、ゲルマニウム等の金属のチン化物あるいはこれらの2
種以上の複合チン化物又はこれらとニオブ、タンタルと
の複合チン化物(例えば、5iNbN、5iTaN等)
が挙げられる。なかでもSiを含有するチン化物が良好
な結果をもたらす。
この干渉層の膜厚は300人〜1500λ程度が適当で
ある。
記録層の干渉層と反対の面には、前述した金属酸化物や
金属窒化物からなる誘電体層を設けるのが望ましい。反
射層を設ける構造の媒体では記録層に接して、又は数百
人の誘電体をはさんで高反射率の金属(例えばAI!、
、Cu等)の単体、又はその合金を反射層として設ける
。
反射層のさらに外層にキズ及び酸化防止のため有機保護
膜を設けることも可能である。この有機保護膜は、紫外
線等の放射線照射硬化型のアクリレート又はメタアクリ
レート基を複数含有する化合物が好適であり、スピンコ
ーター、スプレーロールコータ−、フローコーター法等
のコーティング法で均一に塗布し放射線で硬化すれば良
い。
塗膜に照射する放射線としては、紫外線、電子線が挙げ
られるが紫外線が望ましい。
本発明では上記のようにして得た記録層及び反射層、有
機保護層等を有する基板を反応性ホットメルト接着剤で
相互に接着してなることから構成される。
反応性ホットメルト接着剤としては、1分子当りの平均
水酸基数が1〜8ケであって、数平均分子量が600〜
20000の範囲にあり、ヨウ素価が100以下である
ポリヒドロキシ炭化水素系重合体95〜50重量%およ
び分子量600未満のジオール5〜50重量%よりなる
ポリオール成分とポリイソシアネートとを反応させてな
る、分子末端にイソシアネート基を有するウレタンプレ
ポリマーを主成分とした反応性ホントメルト接着剤であ
りウレタンプレポリマーの製造に用いるポリヒドロキシ
炭化水素系重合体としては、1分子当りの平均水酸基数
(以下単に「水酸基数jという)が1〜8ケのもので、
数平均分子量600〜20000の範囲にあり、ヨウ素
価が100以下のものが使用される。このようなポリヒ
ドロキシ炭化水素系重合体の製法については特に制限は
なく、各種ビニルモノマー、ジエン系モノマーをラジカ
ル重合、アニオン重合、カチオン重合等公知の重合法で
重合し末端を水酸基化した上で、必要に応じて公知の手
法で水素添加すればよい。
その他の製法としては、イソブチレン−ジエン系モノマ
ー共重合体、あるいはオレフィン(たとえばエチレン、
プロピレンなど)−非共役ジエン(又は共役ジエン)共
重合体の酸化分解還元による方法などがあげられる。
このうち、ポリヒドロキシジエン系重合体の水素添加物
が好ましい。
ポリヒドロキシジエン系重合体は、共役ジエンまたは、
共役ジエンとビニルモノマーを原料として周知の方法、
例えばラジカル重合法、アニオン重合法などによって製
造される。ラジカル重合による場合、過酸化水素を重合
開始剤として重合すれば直接末端に水酸基を有する共役
ジエン系ポリマーまたはコポリマーが得られるが、アニ
オン重合による場合、まずアニオン重合触媒を用いて末
端にアルカリ金属が結合した構造のりピングポリマーを
製造し、次いでモノエポキシ化合物、ホルムアルデヒド
等を反応させ、加水分解することにより製造することが
できる。原料共役ジエンとしては、イソブチレン、クロ
ロプレン等も使用しうるが、1.3−ブタジェンが好ま
しい。共重合成分としては、スチレン、アクリロニトリ
ル、メチル(メタ)アクリレート、酢酸ビニル等のビニ
ルモノマーが挙げられる。共重合成分の使用量は総モノ
マー量の30重量%以下が好ましい。
また、ポリヒドロキシジエン系重合体は、耐熱性を向上
させるため必要に応じて水素添加されるが、この反応は
、ニッケル、コバルト、白金、パラジウム、ルテニウム
、ロジウム等の触媒を単独であるいは担体に担持して里
いて、常法により、水素下において実施すればよい。
なおここで、十分な耐熱性を得るためには、重合体中に
含まれる二重結合がヨウ素価で100以下、好ましくは
50以下、さらに好ましくは20以下であることが望ま
しい。
なお、本発明に於てポリヒドロキシ炭化水素系重合体の
一部を他のポリオールで置き替えることもできる。他の
ポリオールの例としては、ポリエチレングリコール、ポ
リプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコー
ル等のポリアルキレングリコール、ポリカプロラクトン
ポリオール、ヒマシ油系ポリオール等のポリエステルポ
リオール、エチレングリコール、トリメチロールプロパ
ン等の低級ポリオール或いは、これら低級ポリオールに
プロピレンオキサイド等を付加したもの等が挙げられる
。置換し得る量はポリヒドロキシ炭化水素系重合体の0
〜49重量%である。この範囲を越えるとポリヒドロキ
シ炭化水素系重合体の特徴であるところの耐熱性、耐加
水分解性が劣るため好ましくない。
次に本発明において分子量600未満のジオールを使用
するのはウレタンプレポリマーの分子量の増加とウレタ
ン基濃度の増加により、得られた接着剤の機械的性質を
改良するためである。特開昭64−54089には少量
の低分子量ポリオールをポリアルキレンジオールと共に
添加することができる旨の記述があるが、それはジイソ
シアネートモノマーの揮発性を減少させるための手法で
あり、本発明の主旨とは全く異なるものである。
本発明において使用する分子量600未満のジオールと
しては、エチレングリコール、プロピレングリコール、
1,3−プロパンジオール、1,2ブタンジオール、1
.3−ブタンジオール、1゜4−ブタンジオール、2.
3−ブタンジオール、1.5−ベンタンジオール、1,
6−ヘキサンジオール、2.5−ヘキサンジオール、2
−メチル−2,4−ベンタンジオール、3−メチル−2
゜4−ベンタンジオール、3−メチル−1,5−ベンタ
ンジオール、1.7−へブタンジオール、■。
8−オクタンジオール、2−エチル−1,3−ヘキサン
ジオール、1.9−ノナンジオール、1゜10−デカン
ジオール、炭素数6〜38のα−オレフィングリコール
、ヒドロキシメチルステアリルアルコール、ダイマー酸
水添還元ジオール等のアルキレンジオール類、ジエチレ
ングリコール、トリエチレングリコール等の分子量60
0未満のポリエチレングリコール類、分子量600未満
のポリプロピレングリコール類、分子量600未満のポ
リテトラメチレングリコール類、ヒマシ油系ジオール、
ポリカプロラクトンジオール等の分子量600未満のエ
ステル系ジオール類が挙げられる。これらの内好ましい
のはアルキレンジオール類であり、特に好ましいのは1
.2−ブタンジオール、3−メチル−1,5−ベンタン
ジオール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、炭
素数6〜38のα−オレフィングリコール、ヒドロキシ
メチルステアリルアルコール、ダイマー酸水添還元ジオ
ール等の分岐鎖を有するジオール類である。これらの分
子量600未満のジオールの添加量はポリオール成分の
内5〜50重量%である。
5重量%より少ないと、ウレタンプレポリマーのウレタ
ン基濃度の増加効果が少ないため100%引張応力の低
いものしか得られず、逆に50重量%より多いと柔軟性
がなくなり伸びの低いものしか得られなくなる。
なおこれらのジオールの一部を3官能のトリオールで置
き換えることもできる。トリオールの例としてはグリセ
リン、トリメチロールプロパン及びこれらにプロピレン
オキサイド等を付加した分子量600未満のトリオール
を挙げることができるが、置換し得る量は、分子!60
0未満のジオールの0〜49重量%である。この範囲を
越えるとウレタンプレポリマー合成中にゲル化が起り易
くなり好ましくない。
次に本発明において使用されるポリイソシアネートとし
てはトリレンジイソシアネート(TDI)ジフェニルメ
タンジイソシアネート(MDI)及びその誘導体、ナフ
チレンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、
イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシ
アネート、水添MDI、キシリレンジイソシアネート及
びこれらのジイソシアネートの2量体、3量体等を用い
ることができる。これらの内好ましいものとして、TD
I、MDIが挙げられる。
ポリオール成分とポリイソシアネートとの反応の手法に
関しては特に制限はなく、ワンショット法、二段法いず
れも採用し得るが、官能基の当量比は分子末端にNGO
基を残す必要があるため、NCO基10H基=1.01
〜4好ましくは1.05〜3となる範囲で行なうのがよ
い。また必要に応じジブチルスズジラウレート等の触媒
を使用してもよい。
さらに本発明においては上記接着剤に添加剤として、テ
ルペン系、石油樹脂系又はこれらをほぼ完全に水添した
粘着付与剤を20〜70重量%、好ましくは30〜60
重量%程度混入するのが好ましい。
更に、プロセスオイル、カルボン酸エステル等からなる
可塑剤を0〜50重量%、好ましくは10〜40重量%
添加することにより接着剤層を軟化させ、接着性を向上
させるのも良い。
また、初期強度向上のためにスチレン−エチレン−ブタ
ジェン−スチレンエラストマー(SEBS)、スチレン
−ブタジェン−スチレンエラストマー(SBS)、スチ
レン−イソプレン−スチレンエラストマー(SIS)等
を添加することもできる。
上記組成の反応性ホットメルト接着剤は70〜100℃
未満の低い温度で塗布可能であるが、場合によっては1
20″C程度迄加熱して塗布しても差し支えない。
塗布装置としては、各種のロールコータ−やアプリケー
ターを用いて行なうと良い。
以下本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳細
に説明するが本発明はその要旨を越えない限り以下の実
施例により制限を受けるものではない。
〔実施例−1] 基板として中央に151m11の孔のある直径130■
、板厚1.2 mmの案内溝つき円形平板状のポリカー
ボネート射出成形基板を用いその上に光磁気記録媒体と
して以下の層構成の膜を連続スパッタ装置で成膜した。
基板/5iNx(750人)/TbFeCo(300人
)/AfSi(400人) /S iNx  (350
人) その後ロールコータ−で記録膜のついている側に反応性
ホットメルト接着剤としてポリオールHA(商品名、水
酸基当量0.877 m e q / g、数平均分子
!2000、ヨウ素価4.2のポリヒドロキシ炭化水素
系重合体)(三菱化成■製)及びAφGX68(商品名
、水酸基当量5.529 m e q/g、炭素数16
及び18のαオレフイングリコール)(ダイセル化学社
製)よりなるポリオール成分とl5onate  12
5M(商品名、ジフェニルメタンジイソシアネート)、
(エムデイ−化成社製)のポリイソシアネートとを反応
させ分子末端にイソシアネート基を有するウレタンプレ
ポリマーを主成分とした表−1に示す組成の接着剤を使
用し、IQOoCの溶融温度で塗布した。その後記録膜
が内側になるよう貼合わせコールドプレス機により加圧
し接着させた。
得られた本発明の光記録媒体の初期接着力は55、4 
kg / c+flであり又、85°C−85%RH−
500hr後デイスクのはがれや板ずれもなく欠陥の増
加も認められなかった。
〔実施例2〜14〕 実施例1と同様な基板等を用い表−1に示したような組
成の接着剤を用いて接着したところ表1に示すような結
果が認められた。
〔比較例−1〕 実施例−1と同じようにポリカーボネート基板に記録層
を成膜し、同様な方法で貼り合わせを行なう際ポリウレ
タン系反応性ホットメルト接着剤として市販されている
ヒロダイン社製スーパーグリップ2000を用いた。こ
の場合接着剤としての能力が少なく初期接着力が極めて
小さいため簡単にディスクがはがれた。
〔比較例−2] 比較例−1と同じ方法でさらに反応性ホットメルト接着
剤としてポリエーテルをベースにしたウレタンプレポリ
マーで日立化成ポリマー社製ハイボン4810を用いた
。初期接着力はあったが耐熱性がなく85°C−85%
−500hrの雰囲気中でややディスクがゆがみ又、記
録層に腐食が発生し10倍以上も欠陥が増加した。
〔比較例−3〕 比較例−1と同じ方法で反応性ホットメルト接着剤とし
てポリイソシアネートとエチレン系不飽和単量体の低分
子量重合体より成るウレタンプレポリマーでカネボウN
SC社製ボンドマスター70−7254を用いた。初期
接着力は良好で又85°C−85%−500hr後デイ
スクのずれはなかったが接着剤の透湿度が150g/r
rr・24hrと高く欠陥の増加が2倍以上であった。
〔発明の効果〕
本発明は光記録媒体を貼り合わせる場合に用いる接着剤
として1分子当りの平均水酸基数が1〜8ケの数平均分
子量600〜20.000の範囲にありヨウ素価が10
0以下であるポリヒドロキシ炭化水素系重合体95〜5
0重量%及び分子量600未満のジオール5〜50重量
%よりなるポリオール成分とポリイソシアネートとを反
応させてなる分子末端にイソシアネート基を有するウレ
タンプレポリマーを主成分とした反応性ホットメルト接
着剤を使用することで作業性が良く高温時でのディスク
ズレもなく又、欠陥の増加もない極めて良好な光記録媒
体を得ることが出来る。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)記録層を有する基板同志もしくは該基板と他の基
    板とを、対向させて接着剤で貼合せた構造の光記録媒体
    であって、この接着剤が、1分子当りの平均水酸基数が
    1〜8ケであって、数平均分子量が600〜20,00
    0の範囲にあり、ヨウ素価が100以下であるポリヒド
    ロキシ炭化水素系重合体95〜50重量%及び分子量6
    00未満のジオール5〜50重量%よりなるポリオール
    成分とポリイソシアネートとを反応させてなる、分子末
    端にイソシアネート基を有するウレタンプレポリマーを
    主成分とした反応性ホットメルト接着剤であることを特
    徴とする光記録媒体。
JP2028033A 1990-02-07 1990-02-07 光記録媒体 Pending JPH03232134A (ja)

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