JPH03234384A - 薄膜パターン形成装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の目的］ （産業上の利用分野） 本発明は、薄膜パターン形成装置に関する。

（従来の技術） 従来より、金属等の薄膜を所望のパターンに形成する技
術として、エツチング処理を用いたものかある。

すなわち、薄膜上にエツチング液に耐性のある感光性の
エツチングレジストを均一に塗布し、乾燥させる。この
後、所望のパターンと一致するマスクを用いてレジスト
上を露光し、現象を行う。

そして、エツチング剤により薄膜をエツチングした後レ
ジストを剥離することによって、所望のパターンを形成
する。

ところか、このようなエツチング処理によりパターン形
成を行う場合、以下のような欠点がある。

■プロセスの工程が複雑であるため、工数が多くコスト
アップと原因となる。

■工程が多いため歩留りが悪い。

■不要なエツチングレジストの塗布、乾燥、露光、現像
、剥離といった無駄なプロセスが多数ある。

■エツチング等のウェットプロセスを使用する場合、付
帯設備が非常に大掛りとなり設備投資が大きくなる。

■エツチング液等は、酸、アルカリの危険性の高い物質
が多くエツチング作業に危険を伴なう。

（発明が解決しようとする課題） このように従来から行われているエツチング処理による
パターン形成では、種々の欠点を有していた。

そこで、本発明はこれら種々の欠点を解決した薄膜パタ
ーン形成装置を提供することを目的とする。

［発明の構成コ （課題を解決するための手段） 本発明は、上述した目的を達成するために、有機物から
なり、金属または金属化合物の薄膜が−主面または両面
に形成された長尺のフィルムと、このフィルムによる所
定の平面を形成しつつ、このフィルムの送り出し及び巻
き取りを行う装置と、前記フィルムによる平面上にレー
ザ光線を照射するレーザ光源と、前記フィルムによる平
面と前記レーザ光源との間に介在され、所定のマスクパ
ターンを有するマスクとを具備するものである。

（作　用） 本発明では、レーザ光源から出力されるレーザ光線がマ
スクを介しフィルムによる平面上に照射されると、フィ
ルム上に形成された金属または金属化合物の薄膜か前記
マスクのマスクパターンに応じて除去され、所望の薄膜
パターンが形成される。

（実施例） 以下、本発明の実施例の詳細を図面に基づき説明する。

第１図は本発明の一実施例に係る薄膜パターン形成装置
の構成を示す図である。

同図において、１は厚さ７５μｍ１幅１５０ｍｍ５長さ
　１００ｍのＰＥＴ　（ポリエチレンテレフタレート）
からなるロール状のフィルムである。このフィルム１の
一生面全面には、金属化合物例えばＴｉＮが連続スパッ
タにより１０００大の厚さに形成されている。

２はこのロール状のフィルム１を自動的に供給するフィ
ルム自動供給部、３はこのフィルム自動供給部２から供
給されたフィルム１を巻き取るフィルム自動巻取部であ
る。また、フィルム自動供給部２から供給されたフィル
ム１は、フィルム自動供給部２とフィルム自動巻取部３
との間で一定の張力の平面を形成するようテンションロ
ーラ４．４により巻架されている。

５は例えばＣＯ２レーザで出力が最大１．２ｋｗのレー
ザ光源、６はフィルム１による平面とレーザ発生源５と
の間に介在され所定のパターン６ａが金属膜例えばクロ
ムで形成されたガラスマスクである。レーザ光源５の光
源の位置は、発生したレーザ光線５ａがフィルム１の平
面上の位置に結像するようにセットされている。また、
レーザ光源５の出力は、コントローラ８により所定の値
にセットされるようになっている。更に、レーザ光源５
の内部には、レーザ光線５ａを遮断するシャッター（図
示せず）がセットされている。このシャッターは、コン
トローラ９により開閉の時間及びタイミングをフィルム
自動巻取部３による巻取りタイミングとともにコントロ
ールされるようになっている。また、レーザスポットは
、フィルム１の平面上で、１２ｃＩＩ１口を照射可能と
なるようにセットされている。

そして、例えばフィルム１の平面上のＴｉＮをレーザ光
線５ａの有効投射面積の４０％に相当する分除去してパ
ターン形成を行う場合、コントローラ８のコントロール
によりレーザ光源５の出力を５５０Ｗに設定し、コント
ローラ９のコントロールにより　１．２秒間照射するよ
うに設定する。

すると、レーザ光源５よりレーザ光線５ａがガラスマス
ク６を介しフィルム１の平面上に照射される。これによ
り、フィルム１の平面上のＴｉＮがガラスマスク６に形
成された所定のパターン６ａと同一のパターンに形成さ
れる。

このように本実施例においては、薄膜パターンの形成を
レーザ光線により行っているので、従来から行われてい
るエツチング処理によるパターン形成のもつ種々の欠点
を回避することができる。

尚、本発明は上述した実施例に限定されるものではなく
、その技術的思想の範囲内で様々な変形が可能である。

例えばレーザ光源５及びフィルム１の少なくとも一方に
スキャン機能をもたせることにより、大面積の薄膜パタ
ーンを形成することか可能である。

［発明の効果］ 以上説明したように本発明によれば、薄膜パタンの形成
をレーザ光線を用いて行っているので、■工数か少なく
コストダウンか図れる。

■歩留りか良い。

■無駄なプロセスか少ない。

■設備か簡単である。

■作業を安全に行える。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例に係る薄膜パターン形成装置
の構成を示す図である。 １・・・フィルム、２・・・フィルム自動供給部、３・
・・フィルム自動巻取部、４・・・テンションローラ、
５・・・レーザ光源、６・・・ガラスマスク。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 有機物からなり、金属または金属化合物の薄膜が一主面
   または両面に形成された長尺のフィルムと、 このフィルムによる所定の平面を形成しつつ、このフィ
   ルムの送り出し及び巻き取りを行う装置と、 前記フィルムによる平面上にレーザ光線を照射するレー
   ザ光源と、 前記フィルムによる平面と前記レーザ光源との間に介在
   され、所定のマスクパターンを有するマスクと を具備することを特徴とする薄膜パターン形成装置。