JPH03236376A - 新規なイソキノリンキノン誘導体およびその中間体 - Google Patents

新規なイソキノリンキノン誘導体およびその中間体

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JPH03236376A
JPH03236376A JP2031973A JP3197390A JPH03236376A JP H03236376 A JPH03236376 A JP H03236376A JP 2031973 A JP2031973 A JP 2031973A JP 3197390 A JP3197390 A JP 3197390A JP H03236376 A JPH03236376 A JP H03236376A
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JP
Japan
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compound
formula
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proton
methyl
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Application number
JP2031973A
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English (en)
Inventor
Shinji Kawai
川合 信次
Yoshitaka Inamoto
稲本 吉孝
Kunio Sanada
邦雄 真田
Takeshi Endo
武 遠藤
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Fuji Chemical Industries Co Ltd
Original Assignee
Fuji Chemical Industries Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明はイソキノリンキノン誘導体もしくはその立体異
性体またはそれらの塩、並びにそれらの製造法及びその
合成中間体に関する。
[従来の技術] 本発明のイソキノリンキノン誘導体は文献未記載の新規
化合物である。
[発明が解決しようとしている課題] 本発明は医薬、特に抗腫瘍剤としであるいはこれらの中
間体として有用な新規なイソキノリンキノン誘導体及び
これらの化合物を製造するために有用な合成中間体を提
供することを目的とする。
以下余白 [課題を解決するための手段] 本発明に係わるイソキノリンキノン誘導体は、式 (式中R1はヒドロキシメチル基を、R2は水素原子ま
たはアシル基を示す、またはR□とR2は一緒になって
−CH,−0−CH2−結合を示す)で表わされるイソ
キノリンキノン誘導体もしくはその立体異性体またはそ
れらの塩類である。
−形式(I)中のR2のアシル基としてはアセチル基を
例示することができる。
本発明の式(I)で表される化合物は 式 (式中R1はヒドロキシメチル基、R2は水素原子及び
R3は水素原子またはベンジル基を示す、またはR1と
R2は一緒になって−CH,−0−CH,−結合を示す
0点線は二重結合の存在または不在をそれぞれ示す、但
し、炭素−音素間結合が二重結合を示す場合には置換基
はR,とR3とする)で表わされる化合物で1位と2位
の炭素−窒素結合が二重結合、R2が−CO2Et及び
R3がベンジル基である (n−1)           (IF−2)で表さ
れる化合物(n−1)から得ることができる。
より具体的には一般式(I)で表わされる化合物でR8
がヒドロキシメチル基、R2が水素原子基で表わされる
化合物(I−1)は次の反応式に従って得られる。
化合物(n−2)は通常、化合物(I[−1)を還元し
、即ちテトラヒドロフラン等の不活性溶媒に溶解させ、
ついで化合物(II−1)に対し1〜1.1当量の水素
化リチウムアルミニウムを加え。
30分攪拌し、その後常法に従って後処理することによ
り得られる。
化合物(n−5)は化合物(I[−2)を不活性溶媒中
で接触水素添加法を用いて得る。即ち化合物(It−2
)をメタノール、イソプロピルアルコール等の溶媒に溶
解させパラジウム/カーボンの存在下、撹拌することに
より得られる。
化合物(I−1)は化合物(II−5)を硝酸ニアンモ
ニウムセリウム[■] (以下、CANと略す)を用い
て酸化することにより得られる。化合物(It−5)で
表される化合物をCANを用いて酸化するには不活性溶
媒9例えばアセトニトリルに溶解させ、ついで化合物(
II−5)に対して1〜1.5当量のCANを加え、1
時間攪拌し、その後常法により処理することにより得ら
れる。
−形式(I)で表わされる化合物でR工がヒドロキシメ
チル基でR2がアセチル基である化合物(■−2)は化
合物(I−1)を不活性溶媒に溶解し、例えば塩化アセ
チル、無水酢酸等を加え、攪拌することにより得られる
一般式(I)で表わされる化合物でR□とR2が一緒に
なって−CH2−0−CH2−基である化合物Cl−3
)は化合物(1−1)−パラホルムアルデヒド及び無水
硫酸ナトリウムを不活性溶媒に懸濁させ、0℃から溶媒
の沸点までの適宜な温度で30分から5時間攪拌するこ
とにより得られる。
この反応は下記の反応式により表される。
尚、本発明化合物(I)は複数の不斉炭素を有し、本発
明には立体異性体である化合物も当然に含まれる。これ
ら立体異性体は必要ならば通常の分離方法、例えば薄層
またはカラムクロマトグラフィー等により分離すること
ができる。
これらの−形式CI)で表わされる化合物の酸付加塩は
生理学的に使用可能な酸、例えば塩酸、硫酸、臭化水素
酸、リン酸、あるいは有W&酸、例えばマレイン酸、フ
マル酸、トシル酸等を常法により作用させることにより
容易に製造する事ができる。
上記反応の出発化合物である式(II−1)の化合物も
新規化合物であり式(IV)で表わされる公知化合物(
H,Rapoport/)、J、○rg。
Chem、  47巻、2404−2413頁、198
2年)から以下の反応式に従って製造される。
グリニヤール 化合物(V)は化合物(1’/)に塩基の存在下ハロゲ
ン化ベンジルを加え攪拌することにより得られる。すな
わちヒドロキシル基にベンジル基を導入することにより
得られる。化合物(III−1)は化合物(v)を酸化
オスミウム−過沃素酸ナトリウムで酸化することにより
得られる。すなわち、酸化オスミウム−過沃素酸ナトリ
ウムの水溶液で化合物(V)を酸化するには化合物(V
)を不活性溶媒中に溶解させまたは懸濁させ、ついでこ
の化合物(V)に対して触媒量の酸化オスミウムと2.
5当量の過沃素酸ナトリウムの水溶液を加えて1.5〜
2時間攪拌すると酸化が終了する。その後常法に従って
後処理することによって化合物(■−1)が得られる。
化合物(II−2)は化合物(1−1)と沃化メチルマ
グネシウムとグリニヤール反応させることにより得られ
る。すなわち、沃化メチルマグネシウムと化合物(I−
1)をグリニヤール反応させるには化合物(I[−1)
を不活性溶媒中に溶解させまたは懸濁させ、ついでこの
化合物(I[−1)に対して1〜1.3当量の沃化メチ
ルマグネシウムを加えて30分攪拌すると終了する。そ
の後常法に従って後処理することによって化合物(I[
−2)が得られる。化合物(I[−2>は化合物(V)
から化合物(III−1)を単離する事なく得ることも
できる。
化合物(I[−3)は化合物(I[−2)に常法により
塩基の存在下メシル酸クロリドを作用させることにより
得られる。化合物(III−4)は化合物(III−3
)にナトリウムアジドを作用させ、即ち、化合物(II
I−3)をアセトンに溶解し、アジ化ナトリウムの水溶
液を加え0〜60℃で攪拌すると得られる。
化合物(m−5)は化合物Cl−4)を不活性溶媒例え
ばメタノール、イソプロピルアルコール等に溶解させ接
触水素添加法で還元することにより得られる。
以下余白 (III−3) 化合物(III−6)は化合物(IE[−5)と蓚酸ジ
エチルをエタノール中室温から沸点までの適宜な温度で
30分から3時間撹拌することにより得られる。
化合物(II−7)は化合物(I[−6)に塩基の存在
下ハロゲン化ベンジルを加え攪拌することにより得られ
る。
化合物(n−1)は上記方法で得られた化合物(III
−7)を不活性溶媒(トルエン−エタノール)に溶解さ
せ、オキシ塩化リンを加え、100℃で7時間攪拌する
ことにより得られる。
(III−6) (III−7) また−形式(I[)で表わされる化合物でR1がヒドロ
キシメチル基、R2が水素原子及びR3がベンジル基で
ある化合物(II−2)は化合物(II−1)を不活性
溶媒に溶解させ水素化リチウムアルミニウムで還元する
ことにより得られる。
−形式(Ill)で表わされる化合物でR2がヒドロキ
シメチル、R2が水素原子、R3が水素原子基である化
合物(II−5)は化合物(I[−2)を不活性溶媒、
例えばメタノール、イソプロピルアルコール等に溶解さ
せ接触水素添加法で還元することにより得られる。
一般式(n)で表わされる化合物でR1とR2とが一緒
になって−CH2−0−CH2−基である化合物(If
−3)は化合物<ff−2) 、バラホルムアルデヒド
及び無水硫酸ナトリウムを不活性溶媒に懸濁させ、0℃
から溶媒の沸点までの適宜な温度で30分から5時間攪
拌することにより得られる。
この反応は下記の反応式により表される。
(It−2) 上記方法により得られたこれらの化合物(I)、(■)
、及び−形式 ルホニルオキシ、アジド、アミノ、置換アミノ(−NH
−Co−CO2Et)を示し、R2は水素原子またはベ
ンジル基を示す〉で表される化合物の製造法および理化
学的性質の詳細は以下の実施例に示す。
尚1本発明中の式(l−3)、(I[−3)で示される
化合物の名称はケミカルアブストラクトに記載されてい
る3H−オキサゾロ[4,3−alイソキノリンの構造
式に基いて命名した。
以下余白 (式中R1はホルミルメチルまたは−CH2CH(−A
)CH,基を示し、Aはヒドロキシ、メタンス実施例 (実施例1)−形式(III)の化合物(Rsがホルミ
ルメチル、R2がベンジル基:化合物l−1)の製造 3.5−ジメトキシ−4−メチル−2−フェニルメチル
オキシ−1−(2−プロペニル)ベンゼン(化合物(L
))2.14gを1,4−ジオキサン−水(30ml−
20ml)溶液に溶解し、室温で酸化オスミウム0.2
0g、過沃素酸ナトリウム4.60gを加え1時間撹拌
した。不溶物を濾去し、残渣にベンゼン60m1及び水
60m1を加え分配した。減圧下溶媒を留去し、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(四塩化炭素〜四
塩化炭素/塩化メチレン(1:1))で分離精製した。
4−メチル−3,5−ジメトキシ−2−フェニルメチル
オキシフェニルアセトアルデヒド(化合物1−1)0.
92g (42%)を得た。
H−NMR(CDC13)δ 2.16 (3H,s、メチルプロトン)、3.53(
2H,d (J=2.2Hz)、−C旦、−CHO)3
.77  (3H,8,−OCH)、3.85  (3
H,s、−QC旦x)、4.96  (2H,s、−C
!ILL  C6H3)、6.35  (LH,s)、
7.2−7.4 (5H,rn、フェニルプロトン)、
9.53(IH,t (J=2.2Hz、−CHo)(
実施例2)−形式(I)の化合物(Rtが2−ヒドロキ
シプロピル基、R2がベンジル基:化合物■−2)の製
造 3.5−ジメトキシ−4−メチル−2−フェニルメチル
オキシ−1−(2−プロペニル)ベンゼン(化合物(v
))10.0gをジオキサン130m1に溶解させ、こ
の溶液に水100m lを加え攪拌した。この溶液に酸
化オスミウム250mg及び過沃素酸ナトリウム17.
92gを加えた。1.75時間後反応液にベンゼン30
0m1及び水300m1を加え分配した。得られた残渣
をジエチルエーテル30m1に溶解し、予め調製してお
いた沃化メチルマグネシウム78.9mmo lのジエ
チルエーテル溶液100+nlにドライアイスーイソブ
ロビルアルコール冷却下攪拌しながら加えた後30分攪
拌した0反応液に水飽和ジエチルエーテルを加え過剰の
沃化メチルマグネシウムを分解しさらにベンゼン300
m1及び水300m1を加え希塩酸水溶液で中和後分配
した。有機層を水洗後、乾燥(無水硫酸ナトリウム)し
た、溶媒を減圧濃縮し得られた残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(四塩化炭素〜四塩化炭素/クロロ
ホルム(1: 1) )で分離精製し、1−(4−メチ
ル−3,5ジメトキシ−2−フェニルメチルオキシフェ
ニル)−2−ヒドロキシプロパン(化合物1[[−2)
5.40g (50,3%:化合物(v)より)を得た
H−NMR(CD、00)δ 1.11 (3H,d (J=6.1Hz)、−C(O
H)−C旦JL)、2.09 (38,s、メチルプロ
トン)、2.67 (2H,d (J=6.6Hz)。
−(旦xc (OH)−)、3.75 (3H,s。
0(旦1)、3.77 (3H,s、−QC旦よ)、3
.9 (m、LH,−CH(OH)  )、4.90 
(s、2H,−CLL −C6H5>、6.52  (
s、IH)、7.2−7.5 (m、5H,フェニルプ
ロトン) (実施例3)−形式(I)の化合物(Rtが2−メタン
スルホニルオキシプロピル基、R2がベンジル基:化合
物■−3)の製造 実施例2で得られた2−ヒドロキシ−1−(4−メチル
−3,5−ジメトキシ−2−フェニルメチルオキシフェ
ニル)プロパン2.OOgをピリジン30m1に溶解し
、メタンスルホニルクロリド1.07gをピリジン5m
lに溶液を水冷下撹拌しながら加えた。N温で10時間
攪拌&5i、応液を減圧濃縮した。!渣にベンゼン10
0m1及び水100m1を加え分配した。有機層を乾燥
後減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(四塩化炭素〜四塩化炭素/クロロホル
ム(1:1))で分離精製し、2−メタンスルホニルオ
キシ−1−(4−メチル−3,5−ジメトキシ−2−フ
ェニルメチルオキシフェニル)プロパン(化合物11[
−3)1.40g (56,2%)を得た。
H−NMR(溶媒CD So D )δ1.32 (3
H,d、メチルプロトン)、2.10(3H,s、メチ
ルプロトン)、2.59 (3H。
s、−08O2CUi)、3.75 (3H,S、  
0(旦□)、3.78 (3H,s、  QC旦ユ)、
4゜93 (2H,8,−CjilC6H5)、6.5
0 (IH,S)、7.2−7.5 (58,m、フェ
ニルプロトン) (実施例4)−形式(III)の化合物(R□が2−ア
ジドプロピル基、R2がベンジル基:化合物ll−4)
の製造 実施例3で得られた2−メタンスルホニルオキシ−1−
(4−メチル−3,5−ジメトキシ−2−フェニルメチ
ルオキシフェニル)プロパン 23.1gをアセトン4
00m1に溶解し、この溶液にアジ化ナトリウム26.
7gを水240m lに溶解して加えた。この溶液を攪
拌下40℃で60時間攪拌する0反応液を減圧濃縮し、
残渣にベンゼン400m1を加え振盪後水層を分液棄却
し、有機層を乾燥後、減圧下溶媒を留去した。1jIi
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(四塩化炭素
〜四塩化炭素/クロロホルム(7:3))で分離精製し
、2−アジド−1−(4−メチル−3,5−ジメトキシ
−2−フェニルメチルオキシフェニル)プロパン(化合
物ll−4)14.6g (72゜2%)を得る。
H−NMR(CD)OD)δ 1.11 (3H,d (J=6.6Hz)、−C(−
N、)−C旦1)、2.11 (s、3H,メチルプロ
トン)、2.64 (d、2H(J=6.4Hz)。
メチレンプロトン)、3.6 (m、IH,−C里(N
))−)、3.73 (s、3H,0CULL)。
3.77 (s、3H,−QC旦x)、4.92 (s
2H,−〇旦x−CsH5)、6.48 (s、IH)
7.2−7.5 (m、5H,フェニルプロトン〉(実
施例5)−形式(I[)の化合物(Rsが2−アミノプ
ロピル基、R2が水素原子基:化合物■−5)の製造 実施例4で得られた2−アジド−1−(4−メチル−3
,5−ジメトキシ−2−フェニルメチルオキシフェニル
)プロパン395mgをメタノール20rnlに溶解し
、これに10%パラジウム/カーボン100mgを加え
て水素気流下3時間攪拌する。不溶物を濾過にて除去し
、減圧下溶媒を留去し2−アミノ−1−(2−ヒドロキ
シ−4−メチル−3,5−ジメトキシフェニル)プロパ
ン(化合物IIll−5)230 (89,2%)を得
た。
H−NMR(CD30D)δ 1.10 (3H,d (J=6.6Hz)、−CH(
−NH2)−C旦ユ)、2.08 (3H,s、メチル
プロトン)、2.7 (2H,m、 −(上ユCH(−
NH2)  CH3)、3.2 (IH,m、  CH
2CH(NH2)  CH3)、3.71 (S、3H
,−O図旦ユ)、3.72 (s、3H,QC旦よ)、
6.41 (s、IH) (実施例6)−形式(1)の化合物(R1が2−(N−
ニドキシリルアミノプロビル基、R2が水素原子基:化
合物■−6)の製造 実施例5で得られた2−アミノ−1−(2−ヒドロキシ
−4−メチル−3,5−ジメトキシフェニル)プロパン
7.33gをエタノール50m1に溶解させ、予め10
0℃に加温した蓚酸ジエチル1.83gに加え、この溶
液を100”Cで3時間攪拌した。減圧下溶媒を留去し
、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(四塩化炭素〜四塩化炭素/クロロホルム(1:1))
で分離精製し、2− (N−ニドキシリルアミノ−1−
(2−ヒドロキシ−4−メチル−3,5−ジメトキシフ
ェニル)プロパン(化合物m−6)7.93g(74,
9%)を得た。
HN M R(CD 3o D )δ 1.22 (3H,d (J=6.6Hz)、−CH(
−NH−)−C旦よ)、1.30 (3H,t (J=
7.1 Hz、  CHzCUi)、2.08 (3H
,s。
メチルプロトン)、2.83 (2H,d (J=7゜
1Hz)、−C旦□CH(NH)  CHs)−3,6
8(3H,8,−OCH)、3.71 (3H。
s、−QC旦、、3J 、 4.2 (I H,m、メ
チンプロトン)、4.25 (2H,q (J=7.1
Hz)。
−仁旦ユCHs ) 、  6 、47  (I H、
s )(実施P7I47)−形式(IN)の化合物(R
lが2−(N−ニドキシリルアミノプロビル基、R2が
ベンジル基:化合物■−7)の製造 実施例6で得られた2−(N−ニドキシリルアミノ−1
−(2−ヒドロキシ−4−メチル−3゜5−ジメトキシ
フェニル)プロパン10.38gをジメチルホルムアミ
ド10m1に溶解し、臭化ベンジル7.10g及び炭酸
カリウム20.0 gを加え攪拌下100℃で2時間加
温する。不溶物を濾過にて除去し、濾液を減圧下濃縮す
る。残渣をクロロホルム300m1と希塩駿水溶液20
0m1で分配する。有機層を乾燥後渡圧下濃縮する。得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(四
塩化炭素〜四塩化炭素/クロロホルム(7:3))で分
離精製し、2−(N−ニドキシリルアミノ−1−(4−
メチル−3,5−ジメトキシ−2−フェニルメチルオキ
シフェニル)プロパン(化合物1−7)11.3g (
85,6%)を得た。
HN M R(CD so D )δ 1.15 (3H,d  (J=6.6Hz)、−CH
(−NH−)  −ζ0よ)、1.25  (3H,t
  (J=7.1Hz、−CH2CH)、2.08 (
38,s。
メチルプロトン)、2.7 (2H,m、−C旦よ−C
(NH)   CHs)、3.73 (3H,a。
−OC旦x)、3.77 (3H,s、−QC旦ヨ)2
4.19 (2H,ct (J=7.1Hz)、  −
CHCHz)、4.2 (I H,m、−CH(−NH
)) 。
4.87 (IH,d (J=11.0Hz)、−CH
−HC5H5)、5.01  (IH,d  (J=1
1.0Hz)、  −CHH−C6H5)、6.49 
(IH,s)7.2−7.5 (m、5H,フェニルプ
ロトン)(実施例8)−形式(n)の化合物(R□がエ
トキシカルボニル基、R1がベンジル基:化合物I[−
1)の製造 実施例7で得られた2−N−ニドキシリルアミノ−1−
(4−メチル−3,5−ジメトキシ−2−フェニルメチ
ルオキシフェニル)プロパン 204mgをトルエン3
mlとエタノール0.1mlに溶解し、この溶液にオキ
シ塩化リン0.28mlを加える。この溶液を攪拌下1
00℃で7時間攪拌した後、溶媒を減圧下留去する。得
られた残渣をベンゼン20m1及び10%炭故水素ナト
リウム20m1で分配する。有機層を水洗後乾燥し減圧
下濃縮し、残渣をシリカゲルWII′!!クロマトグラ
フィー(クロロホルム−メタノール(45:1))で分
離精製し、1−エチルオキシカルボニル−3゜4−ジヒ
ドロ−6,8−ジメトキシ−3,7−シメチルー5−フ
ェニルメチルオキシイソキノリン(化合物I[−1)1
04mg (53,3%〉を得た。
H−NMR(CD30D)δ 1.23 (3H,d (J=6.8Hz)、メチルプ
ロトン)、1.38 (3H,t (J=7.1)1z
−CH2豊旦よ)、2.09 (IH,dd CJ=1
6.3Hz、J=11.3Hz))、2.20 (3H
S、メチルプロトン)、2.72 (IH,dd (J
=16.3Hz、J=5.1Hz)、3.3 (IH。
m)、3.62 (3H,s、−QC旦、)、3.91
(3H,s、−QC旦、)、4.32 (2H,q(J
=7.1Hz、−C旦、CH,)、4.96 (2H。
s、−CXLC6H5)、7.35 (5H,s、フェ
ニルプロトン) 元素分析(C23827N Oうとして)C(%) H
(%)  N(%) 分析値 69.83  6.92 3.49理論値 6
9.50  6.85  3.52(実施例9)−形式
(II)の化合物(Rtがヒドロキシメチル基、R2が
水素原子基及びR3がベンジル基:化合物■−2)の製
造 実施例8で得られた1−エチルオキシカルボニル−3,
4−ジヒドロ−6,8−ジメトキシ−3゜7−シメチル
ー5−フェニルメチルオキシイソキノリン490mgを
テトラヒドロフラン30rn 1中に溶解し水冷下撹拌
し、この溶液に水素化リチウムアルミニウム200mg
を加える。30分後水を加えて過剰の水素化リチウムア
ルミニウムを分解し、クロロホルム300m1と飽和食
塩水200m1にて分配する。有機層を乾燥後減圧下で
濃縮する。得られた残渣をシリカゲル薄層クロマトグラ
フィー(クロロホルム−メタノール(10=1))で分
離精製し、1,2,3.4−テトラヒドロ−1−ヒドロ
キシメチル−6,8−ジメトキシ−3,7−シメチルー
5−フェニルメチルオキシイソキノリン(化合物IIl
l−2)367 (83,3%)を得た。
H−NMR(CD、00)δ 1.20 (3H,d (J=6.1Hz)、メチルプ
ロトン)、2.18 (3H,s、メチルプロトン)。
1.8−2.3 (IH,m、−’CHHCH(−CH
3)−NH−)、2.4−3.0 (2H,m、−CH
HCH(CH3) −NH−)、3.66 (IH。
dd (J=10.7Hz、J=4.6Hz、=CH−
CHH−OH)、3.66 (3H,s、−0CHL)
、3.81 (3H,8,−0CR)、4.03(IH
,dd (J=10.7Hz、J=2.9Hz。
=CH−CHH−OH)、4.2 (IH,bm。
=CH−CHHOH)、7.1−7.5 (5H,m。
フェニルプロトン) (実施N10)−fi式(It)の化合物(R,がヒド
ロキシメチル基、R2及びR3が水素原子基:化金物■
−5)の製造 実施例9で得られた1、2,3.4−テトラヒドロ−1
−ヒドロキシメチル−6,8−ジメトキシ−3,7−シ
メチルー5−フェニルメチルオキシイソキノリン322
mgをイソプロピルアルコール20m1に溶解させ10
%パラジウム/カーボン67mgを加え、水素気流下2
時間攪拌した。
不溶物を濾過にて除去し濾液を減圧濃縮し、1゜2.3
.4−テトラヒドロ−5−ヒドロキシ−1−ヒドロキシ
メチル−6,8−ジメトキシ−3゜7−シメチルイソキ
ノリン(化合物n−n−5)240を得た。
H−NMR(CD30D)δ 1.28,1.32 (3H,d、d (J=6.1H
z。
メチルプロトン)、1.9−2.4 (IH,m)。
2.16 (3H,s、メチルプロトン)、2.7−3
.4 (2H,m)、3.5−4.5 (3H,m。
史生−仁旦ユーOH)、3.63,3.67 (3H。
s、s、−0旦旦ユ)、3.69 (3H,s、 −〇
(旦ユ) (実施例11)−数式(n)の化合物(RlとR2が一
緒になって−CH20−CH2−基、R3はベンジル基
:化合物■−3)の製造 実施例9で得られた化合物、1,2,3.4−テトラヒ
ドロ−1−ヒドロキシメチル−628−ジメトキシ−3
,7−シメチルー5−フェニルメチルオキシイソキノリ
ン130mg、パラホルムアルデヒド300mg及び無
水硫酸ナトリウム4gをベンゼン20m1中に加え室温
で48時間攪拌した。不溶物を濾去し、濾液を減圧濃縮
した。
残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィー(クロロホル
ム−メタノール(30:1))で分離精製し、1,5,
6,10b−テトラヒドロ−8,10−ジメトキシ−5
,9−ジメチル−7−フェニルメチルオキシ−3H−オ
キサゾロ[4,3−a]イソキノリン、(化合物I[−
3)98mg (73%)得た。
この化合物I[−3は立体異性体の混合物でありシリカ
ゲル薄層クロマトグラフィー(クロロホルム−メタノー
ル(30:1))で分離できる。
薄層上で上方に展開する異性体(化合物I[−3a)及
び下方の異性体(化合物ll−3b)のH−NMRデー
タは以下に示す。
(化合物n  3a)HNMR(CD、OD)δ1.1
8 (3H,d (J=5.9Hz)、メチルプロトン
)、1.9−3.0 (3H,m、メチレンプロトン、
メチンプロトン)、2.19 (3H,s。
メチルプロトン)、3.70 (3H,s、−0CHL
)、3.82 (3H,s、 −QC旦、)、4.0−
4.65 (3H,m)、4.94 (2H,s、−C
iLLC6H5)、7.1−7.5 (5H,m、フェ
ニルプロトン) (化合物n−n−3b)H−N (CD30D)δ1.
03 (3H,d (J=6.6Hz)、メチルプロト
ン)、2.18 (3H,s、メチルプロトン)。
2.4−3.2 (38,m、メチレンプロトン、メチ
ンプロトン)、3.47 (IH,dd (J=7゜8
Hz、J=7.1Hz)、3.80 (3H,s。
−0CR)、4.0−4.75 (4H,m’)、4゜
92 (2H,S、−Ci、C6Hs)、7.1−7.
5(5H,m、フェニルプロトン) (実施例12)−数式(1)の化合物(RtとR2が一
緒になって−CH2−0−CH,−基:化合物■−1)
の製造 実施例10で得られた1、2,3.4−テトラヒドロ−
5−ヒドロキシ−1−ヒドロキシメチル−6,8−ジメ
トキシ−3,7−シメチルイソキノリン170mgをア
セトニトリル10m1及び水3mlの混液に溶解させ、
この溶液にCAN360mgを攪拌下加えた。1時間攪
拌後反応液にクロロホルム100m1及び5%炭酸水素
ナトリウム水溶液50m1を加え分配した。有機層を乾
燥後、溶媒を減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲル
薄層クロマトグラフィー(クロロホルム−メタノール(
8:1))で分離精製し、1−ヒドロキシメチル−6−
メドキシー3,7−シメチルー5,8ジオキソ−1,2
,3,4,5,8−ヘキサヒドロイソキノリン(化合物
I−1)7l−1)70%)を得た。
H−NMR(CDsOD)δ 1.27 (3H,d (J=6.3Hz)、メチルプ
ロトン)、1.90 (3H,s、メチルプロトン)。
1.7−2.9 (2H,m、メチレンプロトン)。
3.5−4.2 (2H,m、メチレンプロトン)。
3.96 (3H,s、 −〇C旦よ)(実施fN13
)−数式(1)の化合物(R□がヒドロキシメチル、R
2アセチル基:化合物l−2)の製造 実施例12で得られた1−ヒドロキシメチル−6−メド
キシー3,7−シメチルー5,8ジオキソ−1,2,3
,4,5,8−ヘキサヒドロイソキノリン40mgをメ
タノール4mlに溶解させ。
無水酸1125mgを加えた。30分後浴媒を減圧濃縮
し、得られた残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィー
(クロロホルム−メタノール(10:1))で分離精製
し、N−アセチル−1−ヒドロキシメチル−6−メドキ
シー3,7−シメチルー5.8ジオキソ−1,2,3,
4,5,8−ヘキサヒドロイソキノリン(化合物I−l
−2)19を得た。
HN M R(CD 30 D )  δ1.32 (
3H,d (J=6.6Hz)、メチルプロトン)、1
.92 (38,s、メチルプロトン)。
2.25 (3H,s、−NCOC旦よ)、3.98(
3H,s、メチルプロトン) (実施g7I414)−数式(I)の化合物(RsとR
2が一緒になって−CH2−0−CH2−基:化合物■
−3)の製造 実施例12で得られた1−ヒドロキシメチル−6−メド
キシー3.7−シメチルー5,8ジオキソ−1,2,3
,4,5,8−ヘキサヒドロイソキノリン(化合物1−
1−1)70をベンゼン30m1にバラホルムアルデヒ
ド620mg−無水硫酸ナトリウム5gを加え室温下1
3時間攪拌した0次いで反応液中の不溶物を濾過にて除
去し。
濾液を減圧濃縮し、8−メトキシ−5,9−ジメチル−
7,10−ジオキソ1,5,6,7,10゜10b−へ
キサヒドロ−3H−オキサゾロ(4゜3−a]イソキノ
リン(化合物l−3)を定量的に得た。
HNMR(CDsoD )  δ 1.14 (38,d (J=6.6Hz)、メチルプ
ロトン)、1.89 (3H,s、メチルプロトン)。
1.9−2.9 (2H,m、メチレンプロトン)。
3.4−3.7 (IH,m)、3.98 (3H,s
−0CR)、4.1−4.6 (3H,m)元素分析(
C14817N Osとして)C(%)  H(%) 
 N(%) 分析値 63.98  6.70  5.21理論値 
63.87  6.51  5.32以下余白 [薬理効果コ さらに本発明者らはこれら化合物がCo1on26、L
1210等の腫瘍Im胞に対し抗腫瘍活性を有すること
を見いだした。
本発明の化合物の抗腫瘍活性試験は下記の方法で行った
(試験例1) Co I on26に 培養Co1on261IIIIiLを10%CV/V)
牛胎児血清および60μ/mlカナマイシンを含むME
M培地で5X103個71 m lの浮遊sul液にi
ll製した後、培養皿(Coster  No、351
2)に2mlずつ分注し、炭酸ガス培養器(5%炭酸ガ
ス、95%空気)中37℃で培養した。
24時間後にエタノールまたはジメチルスルホキシドに
溶解または懸濁した化合物を種々の濃度で添加した。添
m後、37℃で炭酸ガス培養器(5%炭酸ガス、95%
空気)中で1時間培養した。
多穴の培養液をアスピレータ−で吸引除去し1mlのP
BSを添加してmu真表面穏やかに洗浄後吸引除去した
。0.05%トリプシンおよび0゜02%EDTA含有
HBSSで処理しビベッチングののちマイソトン■溶液
で希釈しコールタ−カウンター(コルター社製)で各、
mll浮遊液のmm数を計数した。薬剤の効果はT/C
で示した。
T/C(%)=(試験例の生存細胞数/対照の生存m胞
数)×100 結果は第1表に示す。
(試験g42) L1210に 培11L121011Jllを10%(v / v )
牛胎児血清および20μM(2−メルカプトエタノール
及び100μg/mlカナマイシンを含むRPM116
40培溶液で10’l’li/1mlの浮*編m液に調
製した。培養試験管(Falcon  No、2054
)に2mlずつ分注し、炭酸ガス培養器(5%炭酸ガス
、95%空気)中37℃で培養した。
5時間後にエタノールまたはジメチルスルホキシドに溶
解または懸濁した化合物を種々の濃度で添加した。添加
後、37℃で炭酸ガス培養器(5%炭酸ガス、95%空
気)中で1時間培養した後llI胞浮遊液を希釈し、コ
ールタ−カウンターで各、wm浮遊液のllI胞数を計
数した。薬剤の効果はTiCで示した。
結果は第2表に示す。
D50 細胞毒性はED50値(無添加群を対照として、ml!
の増殖50%阻害する濃度)で示し、データーは各濃度
で行なったトリプリケート(tripl i cate
)の値より算出した。
各々の結果を第1.2表に示す。
以下余白 [発明の効果] 本発明の目的化合物である式(I)で表わされる新規イ
ソキノリンキノン誘導体化合物は抗腫瘍活性を示す0本
発明により抗腫瘍剤としての性質を有する新規化学物質
を提供することができた。
また、式(It)及び(11[)で表わされる化合物は
式CI)で表わされる化合物を製造する瞭の中間体とし
て有用である。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中R_1はヒドロキシメチル基を、R_2は水素原
    子またはアシル基を示す。またはR_1とR_2は一緒
    になって−CH_2−O−CH_2−結合を示す)で表
    わされるイソキノリンキノン誘導体もしくはその立体異
    性体またはそれらの塩類。
  2. (2)式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中R_1はヒドロキシメチル基、R_2は水素原子
    及びR_3は水素原子またはベンジル基を示す。または
    R_1とR_2は一緒になって−CH_2−O−CH_
    2−結合を示す。点線は二重結合の存在または不在をそ
    れぞれ示す。但し、炭素−窒素間結合が二重結合を示す
    場合には置換基はR_1とR_3とする)で表わされる
    化合物もしくはその立体異性体またはそれらの塩類。
  3. (3)式 ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中R_1はホルミルメチルまたは−CH(−A)C
    H_3基を示し、Aはヒドロキシ、メタンスルホニルオ
    キシ、アジド、アミノ、置換アミノ(−NH−CO−C
    O_2Et)基を示し、R_2は水素原子またはベンジ
    ル基を示す) で表される化合物。
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