JPH03236392A - 経口投与用3―イソオキサゾリジニルセフアロスポリン誘導体 - Google Patents
経口投与用3―イソオキサゾリジニルセフアロスポリン誘導体Info
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- JPH03236392A JPH03236392A JP3139090A JP3139090A JPH03236392A JP H03236392 A JPH03236392 A JP H03236392A JP 3139090 A JP3139090 A JP 3139090A JP 3139090 A JP3139090 A JP 3139090A JP H03236392 A JPH03236392 A JP H03236392A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は経口投与用の新規セファロスポリン誘導体に関
し、更に詳しくは一般式(1)〔式中、R1は水素原子
または低級アルキル基を表わし、本印の炭素原子の立体
化学は、且、互、またはR5を示し、R2は一〇〇R”
0COR’基(式中、R3は水素原子または低級アル
キル基を表わし、R4は低級アルキル基、低級アルコキ
シ基またはシクロアルキルオキシ基を表わす)を示す〕
で示される新規な3−イソオキサゾリジニルセファロス
ポリン化合物およびそれらの薬理学上許容される酸付加
塩に関する。更に、本発明は一般式(1)の化合物およ
びその薬学的に許容しうる酸付加塩を有効成分として含
有する経口投与用の抗菌剤に関し、この抗菌剤は細菌感
染症治療剤として有用である。
し、更に詳しくは一般式(1)〔式中、R1は水素原子
または低級アルキル基を表わし、本印の炭素原子の立体
化学は、且、互、またはR5を示し、R2は一〇〇R”
0COR’基(式中、R3は水素原子または低級アル
キル基を表わし、R4は低級アルキル基、低級アルコキ
シ基またはシクロアルキルオキシ基を表わす)を示す〕
で示される新規な3−イソオキサゾリジニルセファロス
ポリン化合物およびそれらの薬理学上許容される酸付加
塩に関する。更に、本発明は一般式(1)の化合物およ
びその薬学的に許容しうる酸付加塩を有効成分として含
有する経口投与用の抗菌剤に関し、この抗菌剤は細菌感
染症治療剤として有用である。
〔従来の技術および発明が解決しようとする課題3種々
のセファロスポリン抗生物質は、細菌感染症の治療に広
く使用されているが、従来公知のセファロスポリン類に
比べて抗菌力や抗菌スペクトルと同時に臨床的治療効果
が一層改善されて優れている新規なセファロスポリン誘
導体の発見が望まれている。更に経口投与によって良好
な生体内吸収を示すセファロスポリン誘導体の出現は、
化学療法の分野で多大な期待がかけられている。
のセファロスポリン抗生物質は、細菌感染症の治療に広
く使用されているが、従来公知のセファロスポリン類に
比べて抗菌力や抗菌スペクトルと同時に臨床的治療効果
が一層改善されて優れている新規なセファロスポリン誘
導体の発見が望まれている。更に経口投与によって良好
な生体内吸収を示すセファロスポリン誘導体の出現は、
化学療法の分野で多大な期待がかけられている。
本発明者らは、先に鋭意研究を行ったが、その結果、2
−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(置換又
は非置換ヒドロキシイミノ)−アセチル基を7−N−ア
シル基として有するセファロスポリン類であって、その
セフェム環の3位に、環集合へテロ環系の構造を形成す
るように炭素−炭素結合を介して結合する全く新規な種
類の側鎖基としてイソオキサゾリジニル基を導入するこ
とにより、ダラム陽性菌およびダラム陰性菌に対して強
い抗菌効力を有するものであり、それと共に更に7位の
側鎖基を種々に変換することにより緑膿菌に対してまで
も極めて強い抗菌効力を有することができる一連の新規
セファロスポリン誘導体を創製することに成功した。す
なわち、本発明者らは、次の一般式() 〔式中、R1は水素原子または低級アルキル基を表わし
、またはR1は同じ又は相異なる2個の低級アルキル基
を表わして式(1)中に示されたNR’がジアルキルア
ンモニウム基を表わし、本印の炭素原子の所の立体化学
は、且、主、または聾を示し、R2は水素原子、低級ア
ルキル基、またはカルボキシル基で置換された低級アル
キル基、あるいはモノハロ(低級)アルキル基、ジハロ
(低級)アルキル基、l−力ルボキシ−1−(ジヒドロ
キシフェニル)−メチル基、炭素数3〜6のシクロアル
キル基または低級アルケニル基を表わすか、もしくはR
8は、1〜3個の置換基を環上に有してもよいフェニル
基、フリル基、ピリジル基、ピリドニル基、イミダゾリ
ル基及びピリミジル基から選ばれる置換または非置換の
芳香族環基又は複素環式基で置換された低級アルキル基
を表わす〕で示される新規セファロスポリン誘導体およ
びそれらの薬理学上許容される塩類を発明した(本出願
人の出願に係る特願平2− 号;発明の名称「新規
な3−イソオキサゾリジニルセファロスポリン誘導体」
、平成2年2月7日出II)。
−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(置換又
は非置換ヒドロキシイミノ)−アセチル基を7−N−ア
シル基として有するセファロスポリン類であって、その
セフェム環の3位に、環集合へテロ環系の構造を形成す
るように炭素−炭素結合を介して結合する全く新規な種
類の側鎖基としてイソオキサゾリジニル基を導入するこ
とにより、ダラム陽性菌およびダラム陰性菌に対して強
い抗菌効力を有するものであり、それと共に更に7位の
側鎖基を種々に変換することにより緑膿菌に対してまで
も極めて強い抗菌効力を有することができる一連の新規
セファロスポリン誘導体を創製することに成功した。す
なわち、本発明者らは、次の一般式() 〔式中、R1は水素原子または低級アルキル基を表わし
、またはR1は同じ又は相異なる2個の低級アルキル基
を表わして式(1)中に示されたNR’がジアルキルア
ンモニウム基を表わし、本印の炭素原子の所の立体化学
は、且、主、または聾を示し、R2は水素原子、低級ア
ルキル基、またはカルボキシル基で置換された低級アル
キル基、あるいはモノハロ(低級)アルキル基、ジハロ
(低級)アルキル基、l−力ルボキシ−1−(ジヒドロ
キシフェニル)−メチル基、炭素数3〜6のシクロアル
キル基または低級アルケニル基を表わすか、もしくはR
8は、1〜3個の置換基を環上に有してもよいフェニル
基、フリル基、ピリジル基、ピリドニル基、イミダゾリ
ル基及びピリミジル基から選ばれる置換または非置換の
芳香族環基又は複素環式基で置換された低級アルキル基
を表わす〕で示される新規セファロスポリン誘導体およ
びそれらの薬理学上許容される塩類を発明した(本出願
人の出願に係る特願平2− 号;発明の名称「新規
な3−イソオキサゾリジニルセファロスポリン誘導体」
、平成2年2月7日出II)。
本発明者らが先に提案した上記の一般式(A)で示され
る、3−インオキサゾリジン−5−イル基を有する新規
セファロスポリン誘導体は優れた抗菌作用を有する化学
療法剤である。今回、本発明者らは、−数式(A)の化
合物のうちから選択して、次の一般式(I) 〔式中、R1は水素原子または低級アルキル基を表わし
1本印の炭素原子の所の立体化学は、1、互、または益
を示し R2は−CHR30COR’基(式中、R3は
水素原子または低級アルキル基を表わし、R4は低級ア
ルキル基、低級アルコキシ基またはシクロアルキルオキ
シ基を表わす)を示す〕で示される化合物の4位カルボ
キシル基におけるエステル誘導体が経口投与時に特に向
上された良好な生体内吸収性を有することを見出して本
発明を完成した。
る、3−インオキサゾリジン−5−イル基を有する新規
セファロスポリン誘導体は優れた抗菌作用を有する化学
療法剤である。今回、本発明者らは、−数式(A)の化
合物のうちから選択して、次の一般式(I) 〔式中、R1は水素原子または低級アルキル基を表わし
1本印の炭素原子の所の立体化学は、1、互、または益
を示し R2は−CHR30COR’基(式中、R3は
水素原子または低級アルキル基を表わし、R4は低級ア
ルキル基、低級アルコキシ基またはシクロアルキルオキ
シ基を表わす)を示す〕で示される化合物の4位カルボ
キシル基におけるエステル誘導体が経口投与時に特に向
上された良好な生体内吸収性を有することを見出して本
発明を完成した。
すなわち、第一の本発明によれば、一般式(1)〔式中
、R1は水素原子または低級アルキル基を表わし、本印
の炭素原子の立体化学は、且、互、または吐を示し、R
2は−CHR” 0COR’基(式中、R3は水素原子
または低級アルキル基を表わし、R4は低級アルキル基
、低級アルコキシ基またはシクロアルキルオキシ基を表
わす)を示す〕で示される七フェム化合物およびその薬
学的に許容できる酸付加塩が提供される。
、R1は水素原子または低級アルキル基を表わし、本印
の炭素原子の立体化学は、且、互、または吐を示し、R
2は−CHR” 0COR’基(式中、R3は水素原子
または低級アルキル基を表わし、R4は低級アルキル基
、低級アルコキシ基またはシクロアルキルオキシ基を表
わす)を示す〕で示される七フェム化合物およびその薬
学的に許容できる酸付加塩が提供される。
更に詳しく説明するに、一般式(I)の本発明化合物に
おいて、R1は水素原子またはメチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基などの炭素数1〜4の低級アルキル
基を表わし、またR2は本化合物を投与後に生体内に吸
収される際、または吸収された後に加水分解を受けて遊
離のカルボキシル基(R”=Hの場合)を与える加水分
解により脱離し易いエステル形成基である。例えば、基
R2を示す式−CHR” 0COR’の基において、R
3は水素原子またはメチル、エチルなどの低級アルキル
基を挙げることができる。また、R4が低級アルキル基
である場合には、それの例としてメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、5ec−ブ
チル、tert−ブチルなどの炭素数1〜4のアルキル
基であることができ、またR4が低級アルコキシ基であ
る場合には、それの例としてメトキシ、エトキシ、1−
メチルエトキシなどの炭素数1〜4のアルコキシ基であ
ることができ、更にR4がシクロアルキルオキシ基であ
る場合にはそれの例として、シクロペンチルオキシ、シ
クロヘキシルオキシなどの炭素数3〜6のシクロアルキ
ルオキシ基を挙げることができる。
おいて、R1は水素原子またはメチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基などの炭素数1〜4の低級アルキル
基を表わし、またR2は本化合物を投与後に生体内に吸
収される際、または吸収された後に加水分解を受けて遊
離のカルボキシル基(R”=Hの場合)を与える加水分
解により脱離し易いエステル形成基である。例えば、基
R2を示す式−CHR” 0COR’の基において、R
3は水素原子またはメチル、エチルなどの低級アルキル
基を挙げることができる。また、R4が低級アルキル基
である場合には、それの例としてメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、5ec−ブ
チル、tert−ブチルなどの炭素数1〜4のアルキル
基であることができ、またR4が低級アルコキシ基であ
る場合には、それの例としてメトキシ、エトキシ、1−
メチルエトキシなどの炭素数1〜4のアルコキシ基であ
ることができ、更にR4がシクロアルキルオキシ基であ
る場合にはそれの例として、シクロペンチルオキシ、シ
クロヘキシルオキシなどの炭素数3〜6のシクロアルキ
ルオキシ基を挙げることができる。
ル基、1−アセトキシエチル基などの1−アシルオキシ
−低級アルキル基、あるいは1−エトキシカルボニルオ
キシエチル基、1−イソプロポキシカルボニルオキシエ
チル基などの1−アルコキシカルボニルオキシ−低級ア
ルキル基などが挙げられる。
−低級アルキル基、あるいは1−エトキシカルボニルオ
キシエチル基、1−イソプロポキシカルボニルオキシエ
チル基などの1−アルコキシカルボニルオキシ−低級ア
ルキル基などが挙げられる。
本発明による一般式(I)の化合物の薬理学上許容され
る酸付加塩とは、一般式(I)の化合物のアミノ基また
はイミノ基に薬理学上許容される公知の無機酸、例えば
塩酸、硫酸、硝酸、リン酸など。
る酸付加塩とは、一般式(I)の化合物のアミノ基また
はイミノ基に薬理学上許容される公知の無機酸、例えば
塩酸、硫酸、硝酸、リン酸など。
あるいは公知の有機酸1例えば酢酸、プロピオン酸、マ
レイン酸、リンゴ酸などが付加している塩であることが
できる。
レイン酸、リンゴ酸などが付加している塩であることが
できる。
本発明化合物を示す一般式(1)における木印の炭素原
子の所の立体化学の絶対配置は又と主の形態が可能であ
るが、本発明化合物はその両者の何れか一方、あるいは
脛混成体を包含する。
子の所の立体化学の絶対配置は又と主の形態が可能であ
るが、本発明化合物はその両者の何れか一方、あるいは
脛混成体を包含する。
本発明の一般式(1)の化合物の具体例としては、以下
の例示の化合物に限定されるものではないが、以下に示
す化合物が挙げられる。
の例示の化合物に限定されるものではないが、以下に示
す化合物が挙げられる。
(1) (6R,7R)−7−((Z)−2−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)−2−(メトキシイミノ)
アセトアミド)−3−((S)−2−メチルイソオキサ
ゾリジン−5−イルツー3−セフェム−4−カルボン酸
ピバロイルオキシメチルエステル(後記の実施例工の
化合物)。
ミノチアゾール−4−イル)−2−(メトキシイミノ)
アセトアミド)−3−((S)−2−メチルイソオキサ
ゾリジン−5−イルツー3−セフェム−4−カルボン酸
ピバロイルオキシメチルエステル(後記の実施例工の
化合物)。
(2) (6R,7幻−7−((Z)−2−(2−アミ
ノチアゾール−4−イル)−2−(メトキシイミノ)ア
セトアミド〕−3−((fi) −2−メチルイソオキ
サゾリジン−5−イルツー3−セフェム−4−カルボン
酸 ピバロイルオキシメチルエステル(後記の実施例2
の化合物)。
ノチアゾール−4−イル)−2−(メトキシイミノ)ア
セトアミド〕−3−((fi) −2−メチルイソオキ
サゾリジン−5−イルツー3−セフェム−4−カルボン
酸 ピバロイルオキシメチルエステル(後記の実施例2
の化合物)。
本発明の一般式(I)の化合物の製造は、後記に製法を
説明する新規化合物である下記の一般式() 〔式中、R1は前述と同じ意味を表わす〕で示される(
6R,7R)−7−[(Z)−2−(2−7ミノチアゾ
ー/I/−4−1’ル)−2−(置換又は非置換イミノ
)アセトアミド]−3−(2−メチルイソオキサゾリジ
ン−5−イル)−3−セフェム−4−カルボン酸を出発
化合物として用い、一般式(n)の化合物とトリエチル
アミンなどの有機塩基との付加塩あるいは一般式(1)
の化合物のカルボキシル基におけるナトリウム、カリウ
ムなどのアルカリ金属の塩(カルボキシレート)を、一
般式() 〔式中、Xはハロゲン原子、R2およびR4は前述と同
じ意味を持つ〕で示されるハライド誘導体と反応するこ
とにより行なわれる0本エステル化反応は一り0℃〜室
温で行なうのが好ましくジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシドなどの極性溶媒あるいは水あるいはこれ
らの混合溶液中で行なわれる。
説明する新規化合物である下記の一般式() 〔式中、R1は前述と同じ意味を表わす〕で示される(
6R,7R)−7−[(Z)−2−(2−7ミノチアゾ
ー/I/−4−1’ル)−2−(置換又は非置換イミノ
)アセトアミド]−3−(2−メチルイソオキサゾリジ
ン−5−イル)−3−セフェム−4−カルボン酸を出発
化合物として用い、一般式(n)の化合物とトリエチル
アミンなどの有機塩基との付加塩あるいは一般式(1)
の化合物のカルボキシル基におけるナトリウム、カリウ
ムなどのアルカリ金属の塩(カルボキシレート)を、一
般式() 〔式中、Xはハロゲン原子、R2およびR4は前述と同
じ意味を持つ〕で示されるハライド誘導体と反応するこ
とにより行なわれる0本エステル化反応は一り0℃〜室
温で行なうのが好ましくジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシドなどの極性溶媒あるいは水あるいはこれ
らの混合溶液中で行なわれる。
前述の如く、本発明による一般式(I)のエステル型化
合物は経口投与すると、一般式(1)におけるR2で示
されるエステル基が生体内で式(I)の化合物から脱離
して遊離のカルボキシル基となり、これにより生成した
遊離カルボン酸の形に転化した式(1)の化合物が生体
内で優れた抗菌力を発揮する。一般式(1)による本発
明化合物の優れた生物学的性状を次に示す。
合物は経口投与すると、一般式(1)におけるR2で示
されるエステル基が生体内で式(I)の化合物から脱離
して遊離のカルボキシル基となり、これにより生成した
遊離カルボン酸の形に転化した式(1)の化合物が生体
内で優れた抗菌力を発揮する。一般式(1)による本発
明化合物の優れた生物学的性状を次に示す。
(1)経口投与時の生体内吸収試験
本発明による一般式(I)で示される3−イソオキサゾ
リジニルセファロスポリン化合物として、後記の実施例
1の化合物または実施例2の化合物をICRマウス(雌
、4週令)に経口投与(投与量、300■/マウス)シ
、投与後O〜5時間の尿を集め枯草菌(PCI219)
を試験菌として尿中に排泄された遊離カルボン酸型の抗
生物質〔一般式(I)においてR2=Hの場合に相当す
る化合物)の抗菌活性を測定し、この抗生物質の尿中回
収率を計算した。その結果は第1表の通りである。
リジニルセファロスポリン化合物として、後記の実施例
1の化合物または実施例2の化合物をICRマウス(雌
、4週令)に経口投与(投与量、300■/マウス)シ
、投与後O〜5時間の尿を集め枯草菌(PCI219)
を試験菌として尿中に排泄された遊離カルボン酸型の抗
生物質〔一般式(I)においてR2=Hの場合に相当す
る化合物)の抗菌活性を測定し、この抗生物質の尿中回
収率を計算した。その結果は第1表の通りである。
(2)遊離カルボン酸型になった本発明セファロスポリ
ン化合物〔一般式(I)においてR”=Hの場合の化合
物〕の抗菌活性 一般式(1)の本発明化合物の抗菌活性を示すために、
本発明化合物からエステル形成基(R2)を脱離して誘
導される遊離カルボン酸型の誘導体、すなわち後記の実
施例1及び2で用いられた出発化合物を供試化合物とし
て用い、これら供試化合物について、標準の倍数希釈法
で評価した各種の細菌に対する最低生長阻止濃度(MI
C,wcg/i+R)を測定した。
ン化合物〔一般式(I)においてR”=Hの場合の化合
物〕の抗菌活性 一般式(1)の本発明化合物の抗菌活性を示すために、
本発明化合物からエステル形成基(R2)を脱離して誘
導される遊離カルボン酸型の誘導体、すなわち後記の実
施例1及び2で用いられた出発化合物を供試化合物とし
て用い、これら供試化合物について、標準の倍数希釈法
で評価した各種の細菌に対する最低生長阻止濃度(MI
C,wcg/i+R)を測定した。
供試化合物(a)ニー
(吐、釧)−7−[(孟)−2−(2−アミノチアゾー
ル−4−イル)−2−(メトキシイミノ)アセトアミド
]−3−((S)−2−メチルイソオキサゾリジン−5
−イルゴー3−セフェム−4−カルボン酸 供試化合物(b) : − (吐、 7R)−7−((Z)−2−(2−アミノチア
ゾール−4−イル)−2−(メトキシイミノ)アセトア
ミド)−3−((且)−2−メチルイソオキサゾリジン
−5−イル〕−3−セフェム=4−カルボン酸 得られた結果を次の第2表に示す。
ル−4−イル)−2−(メトキシイミノ)アセトアミド
]−3−((S)−2−メチルイソオキサゾリジン−5
−イルゴー3−セフェム−4−カルボン酸 供試化合物(b) : − (吐、 7R)−7−((Z)−2−(2−アミノチア
ゾール−4−イル)−2−(メトキシイミノ)アセトア
ミド)−3−((且)−2−メチルイソオキサゾリジン
−5−イル〕−3−セフェム=4−カルボン酸 得られた結果を次の第2表に示す。
本発明による一般式(I)のセフェム化合物又はその酸
付加塩は、これを有効成分として用いて、これに種々の
公知の薬理学的に許容できる固体又は液体状の担体と混
合することによって常法で抗菌剤組成物の形に調製でき
る。
付加塩は、これを有効成分として用いて、これに種々の
公知の薬理学的に許容できる固体又は液体状の担体と混
合することによって常法で抗菌剤組成物の形に調製でき
る。
従って、第二の本発明によると、第一の本発明による一
般式(I)のセフェム化合物またはこれの薬理学上許容
される酸付加塩を有効成分として含有する経口投与用抗
菌剤組成物が提供される。
般式(I)のセフェム化合物またはこれの薬理学上許容
される酸付加塩を有効成分として含有する経口投与用抗
菌剤組成物が提供される。
第二の本発明に係る抗菌剤に有効成分として含有される
一般式(I)の本発明化合物は優れた経口吸収性と抗菌
力を有しているので経口投与用細菌感染症治療剤として
一有用である0本発明化合物の投与量は、年令、体重、
症状などによって異なるが、通常成人に対し1日100
■ないし2gを1回ないし数回に分けて投与することが
できる。
一般式(I)の本発明化合物は優れた経口吸収性と抗菌
力を有しているので経口投与用細菌感染症治療剤として
一有用である0本発明化合物の投与量は、年令、体重、
症状などによって異なるが、通常成人に対し1日100
■ないし2gを1回ないし数回に分けて投与することが
できる。
−数式(1)で示される本発明化合物やその酸付加塩を
有効成分として含有する抗菌剤は、従来既知のセファロ
スポリン類と同様に、適当な液体状担体又は固体状担体
を配合することによって、通常の経口投与処方に従って
、カプセル剤、散剤、顆粒剤、錠剤などの経口剤、もし
くは腸内投与処方に従って、直腸投与剤、油脂性座剤、
水溶性座剤などの種々の剤形に調製される。これらの各
種製剤は通常用いられている賦形剤、増量剤、結合剤、
湿潤化剤、崩壊剤、表面活性剤、滑沢剤、分散剤、緩衝
剤、保存剤、溶解補助剤、防腐剤、矯味矯臭剤、無痛化
剤などを配合して常法により調製することができる。
有効成分として含有する抗菌剤は、従来既知のセファロ
スポリン類と同様に、適当な液体状担体又は固体状担体
を配合することによって、通常の経口投与処方に従って
、カプセル剤、散剤、顆粒剤、錠剤などの経口剤、もし
くは腸内投与処方に従って、直腸投与剤、油脂性座剤、
水溶性座剤などの種々の剤形に調製される。これらの各
種製剤は通常用いられている賦形剤、増量剤、結合剤、
湿潤化剤、崩壊剤、表面活性剤、滑沢剤、分散剤、緩衝
剤、保存剤、溶解補助剤、防腐剤、矯味矯臭剤、無痛化
剤などを配合して常法により調製することができる。
次に、本発明による一般式(1)の化合物の製造に出発
化合物として用いられる前出の一般式(n)の化合物を
調製する方法について説明する。
化合物として用いられる前出の一般式(n)の化合物を
調製する方法について説明する。
−数式(n)の出発化合物の製造には、先づ、セフェム
環の3位に炭素−炭素結合で結合して環集合へテロ環系
の構造を形成するように導入された3−イソオキサゾリ
ジニル基を有する7−保護アミノ−3−イソオキサゾリ
ジニル−3−セフェム−4−カルボン酸化合物を調製す
るのが便利である。このために、−数式(IV) 〔式中、R’は一般的な通常のカルボキシル保護基、例
えば4−メトキシベンジル基の如き加水分解で脱離し易
いエステル形成基を意味し、Rbは一般的な通常のアミ
ノ保護基、例えばフェニルアセチル基を意味することが
できる〕で表わされる3−ビニルセフェム誘導体〔「ジ
ャーナル・オブ・アンチビオチフス」38巻、1738
〜1751頁、(1985年)参照〕と、−数式(V) で表わされる両極性のニトロン誘導体とを環の形成を伴
って付加反応させることにより一般式(VI)〔式中、
−Rb、Hbおよび*印は前述と同じ意味を持つ〕で表
わされる化合物を生成する。本付加反応は中性付近で行
なうのが好ましく、メタノール、エタノール、ジオキサ
ン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ア
セトン、アセトニトリル、テトラヒドロフランなどの極
性有機溶媒あるいは水、あるいはこれらの混合溶液中で
行なわれる0本反応は通常、室温から100℃の温度で
行なうのが適している。また本反応に要する時間は通常
3〜6時間である(後記の参考例1(a)参照)。
環の3位に炭素−炭素結合で結合して環集合へテロ環系
の構造を形成するように導入された3−イソオキサゾリ
ジニル基を有する7−保護アミノ−3−イソオキサゾリ
ジニル−3−セフェム−4−カルボン酸化合物を調製す
るのが便利である。このために、−数式(IV) 〔式中、R’は一般的な通常のカルボキシル保護基、例
えば4−メトキシベンジル基の如き加水分解で脱離し易
いエステル形成基を意味し、Rbは一般的な通常のアミ
ノ保護基、例えばフェニルアセチル基を意味することが
できる〕で表わされる3−ビニルセフェム誘導体〔「ジ
ャーナル・オブ・アンチビオチフス」38巻、1738
〜1751頁、(1985年)参照〕と、−数式(V) で表わされる両極性のニトロン誘導体とを環の形成を伴
って付加反応させることにより一般式(VI)〔式中、
−Rb、Hbおよび*印は前述と同じ意味を持つ〕で表
わされる化合物を生成する。本付加反応は中性付近で行
なうのが好ましく、メタノール、エタノール、ジオキサ
ン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ア
セトン、アセトニトリル、テトラヒドロフランなどの極
性有機溶媒あるいは水、あるいはこれらの混合溶液中で
行なわれる0本反応は通常、室温から100℃の温度で
行なうのが適している。また本反応に要する時間は通常
3〜6時間である(後記の参考例1(a)参照)。
本付加反応で得られる一般式(Vl)の化合物は、本印
の炭素原子の所の立体化学が1体と基体の混合物(経混
成体)として得られるが、この混合物を選ばれた特定の
種類の有機溶媒例えばジクロロメタンに溶解して可溶性
生成物と不溶性生成物に分けることにより、本印の炭素
原子の所の立体化学が純粋な単一の立体異性体化合物を
それぞれ単離することができる。またシリカゲルカラム
クロマトグラフィーによっても1体と1体を分離するこ
とができる(後記の参考例1(a)の参照)。
の炭素原子の所の立体化学が1体と基体の混合物(経混
成体)として得られるが、この混合物を選ばれた特定の
種類の有機溶媒例えばジクロロメタンに溶解して可溶性
生成物と不溶性生成物に分けることにより、本印の炭素
原子の所の立体化学が純粋な単一の立体異性体化合物を
それぞれ単離することができる。またシリカゲルカラム
クロマトグラフィーによっても1体と1体を分離するこ
とができる(後記の参考例1(a)の参照)。
なお、前記の式(V)のニトロン誘導体は、次式H,C
−NH−OH で示されるN−メチルヒドロキシアミンの塩酸塩をジオ
キサン中でホルムアルデヒドと反応させることによって
調製できる(後記の参考例1(a)参照)。
−NH−OH で示されるN−メチルヒドロキシアミンの塩酸塩をジオ
キサン中でホルムアルデヒドと反応させることによって
調製できる(後記の参考例1(a)参照)。
式(VI)の化合物において、Rhは一般的な通常のア
ミノ基の保護基であるが、このアミノ保護基(Rh)は
、セファロスポリン化合物で通常用いられる脱保護方法
により7位のアミノ基から脱離することができ、これに
より、一般式(■)で表わされるセフェム化合物を得る
ことができる(後記の参考例1(b)参照)、続いて一
般式(■)のセフェム化合物の7位アミノ基を一般式(
■)〔式中、R1は前述の式(I)の化合物における基
R1と同じ水素又はアルキル基を意味し、R’は水素原
子またはアミノ保護基例えばトリチル基を表わす〕で示
される化合物、またはそのカルボン酸基の反応性誘導体
とセファロスポリン類の合成上で公知の要領で反応(即
ち7−N−アシル化)せしめることによって、一般式(
IK) 〔式中、R1,R’、R6、および木印は前述と同じ意
味を持つ〕で示される化合物を得る(後記の参考例2(
a)及び参考例3参照)。
ミノ基の保護基であるが、このアミノ保護基(Rh)は
、セファロスポリン化合物で通常用いられる脱保護方法
により7位のアミノ基から脱離することができ、これに
より、一般式(■)で表わされるセフェム化合物を得る
ことができる(後記の参考例1(b)参照)、続いて一
般式(■)のセフェム化合物の7位アミノ基を一般式(
■)〔式中、R1は前述の式(I)の化合物における基
R1と同じ水素又はアルキル基を意味し、R’は水素原
子またはアミノ保護基例えばトリチル基を表わす〕で示
される化合物、またはそのカルボン酸基の反応性誘導体
とセファロスポリン類の合成上で公知の要領で反応(即
ち7−N−アシル化)せしめることによって、一般式(
IK) 〔式中、R1,R’、R6、および木印は前述と同じ意
味を持つ〕で示される化合物を得る(後記の参考例2(
a)及び参考例3参照)。
最後に、式(IX)の化合物は、これから既知の脱保護
方法で保護基R″及びR’を除去することにより、一般
式(II)で示される新規なセフェム化合物を製造する
ことができる(後記の参考例2(a)参照)。
方法で保護基R″及びR’を除去することにより、一般
式(II)で示される新規なセフェム化合物を製造する
ことができる(後記の参考例2(a)参照)。
上記のようにして得られた一般式(n)の化合物は、こ
のカルボン酸化合物をアルカリ金属又はアルカリ土類金
属の水酸化物、炭酸塩又は水素炭酸酸塩と水溶液中で反
応させることによって、一般式(n)の化合物の金属塩
(カルボキシレート)を形成することができる。
のカルボン酸化合物をアルカリ金属又はアルカリ土類金
属の水酸化物、炭酸塩又は水素炭酸酸塩と水溶液中で反
応させることによって、一般式(n)の化合物の金属塩
(カルボキシレート)を形成することができる。
次に実施例及び参考例をあげて本発明の化合物を具体的
に説明するが、本発明はこれによって限定されるもので
はない。
に説明するが、本発明はこれによって限定されるもので
はない。
失凰量よ
(6R,7幻−7−((Z)−2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)−2−(メトキシイミノ)アセトアミ
ド)−3−((S)−2−メチルイソオキサゾリジン−
5−イル〕−3−セフェムー4−カルボン酸 ピバロイ
ルオキシメチルエステルの製造。
ール−4−イル)−2−(メトキシイミノ)アセトアミ
ド)−3−((S)−2−メチルイソオキサゾリジン−
5−イル〕−3−セフェムー4−カルボン酸 ピバロイ
ルオキシメチルエステルの製造。
後記の参考例2で得られた(6R,7隻)−7−((Z
)−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(
メトキシイミノ)アセトアミド)−3−((S)−2−
メチルイソオキサゾリジン−5−イルツー3−セフェム
−4−カルボン酸ナトリウム塩65■をジメチルホルム
アミド0.4raQに溶かし、その溶液へ一15℃にて
ヨウ化ピバロイルオキシメチル40■を加え、同温度で
30分間撹拌してエステル化反応を行った。その後に、
反応液に酢酸エチルを加え水10%チオ硫酸ナトリウム
水溶液および飽和食塩水で洗浄した。洗浄された溶液か
ら溶媒を減圧留去し、得られた残留物を調製用シリカゲ
ル薄層クロマトグラフィー(展開溶媒系:クロロホルム
−メタノール=9 : 1)により精製及び単離すると
、標題ノ(6fi、 7R)−7−((Z)−2−(2
−7ミノチアゾールー4−イル)−2−(メトキシイミ
ノ)アセトアミド) −3−((S)−2−メチルイソ
オキサゾリジン−5−イルゴー3−セフェム−4−カル
ボン酸 ピバロイルオキシメチルエステル5■を得た。
)−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(
メトキシイミノ)アセトアミド)−3−((S)−2−
メチルイソオキサゾリジン−5−イルツー3−セフェム
−4−カルボン酸ナトリウム塩65■をジメチルホルム
アミド0.4raQに溶かし、その溶液へ一15℃にて
ヨウ化ピバロイルオキシメチル40■を加え、同温度で
30分間撹拌してエステル化反応を行った。その後に、
反応液に酢酸エチルを加え水10%チオ硫酸ナトリウム
水溶液および飽和食塩水で洗浄した。洗浄された溶液か
ら溶媒を減圧留去し、得られた残留物を調製用シリカゲ
ル薄層クロマトグラフィー(展開溶媒系:クロロホルム
−メタノール=9 : 1)により精製及び単離すると
、標題ノ(6fi、 7R)−7−((Z)−2−(2
−7ミノチアゾールー4−イル)−2−(メトキシイミ
ノ)アセトアミド) −3−((S)−2−メチルイソ
オキサゾリジン−5−イルゴー3−セフェム−4−カル
ボン酸 ピバロイルオキシメチルエステル5■を得た。
FABMS: ra/z 583(MH”)NMR(δ
、CDCl5): 1.23(ピバロイル)t 2.7
0(NMe)t5.05(H−6)、 5.26(イソ
オキサゾリジン−5)。
、CDCl5): 1.23(ピバロイル)t 2.7
0(NMe)t5.05(H−6)、 5.26(イソ
オキサゾリジン−5)。
5.85および5.90(OCR,O)、 6.0()
I−7)。
I−7)。
失蓋五主
(6に、7尺)−7−((Z)−2−(2−アミノチア
ゾール−4−イル)−2−(メトキシイミノ)アセトア
ミド]−3−((R)−2−メチルイソオキサゾリジン
−5−イル〕−3−セフェム=4−カルボン徴 ピバロ
イルオキシメチルエステ−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(メトキシイミノ)アセトアミド] −3−(
(R)−2−メチルイソオキサゾリジン−5−イル〕−
3−セフェムー4−カルボン酸ナトリウム塩40■から
、実施例1の方法と同様に反応及び処理することにより
、(6に、7K) −7−((Z)−2−(2−アミノ
チアゾール−4−イル)−2−(メトキシイミノ)アセ
トアミド) −3−((R)−2−メチルイソオキサゾ
リジン−5−イルゴー3−セフェム−4−カルボン酸
ピバロイルオキシメチルエステル2wgを得た。
ゾール−4−イル)−2−(メトキシイミノ)アセトア
ミド]−3−((R)−2−メチルイソオキサゾリジン
−5−イル〕−3−セフェム=4−カルボン徴 ピバロ
イルオキシメチルエステ−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(メトキシイミノ)アセトアミド] −3−(
(R)−2−メチルイソオキサゾリジン−5−イル〕−
3−セフェムー4−カルボン酸ナトリウム塩40■から
、実施例1の方法と同様に反応及び処理することにより
、(6に、7K) −7−((Z)−2−(2−アミノ
チアゾール−4−イル)−2−(メトキシイミノ)アセ
トアミド) −3−((R)−2−メチルイソオキサゾ
リジン−5−イルゴー3−セフェム−4−カルボン酸
ピバロイルオキシメチルエステル2wgを得た。
FABMS: mHz 583(MH”)NMR(δ、
CDCl、): 1.23(ピバロイルL 2,73
(NMe)。
CDCl、): 1.23(ピバロイルL 2,73
(NMe)。
5.06(H−6)、 5.64(イソオキサゾリジン
−5)。
−5)。
5.93(OCR,0)、 5.93(H−7)。
以下の参考例1〜4は、−数式(II)の出発化合物の
調製方法を説明するものである。
調製方法を説明するものである。
蔓工舊よ
(6R,7R)−7−アミノ−3−〔値)−2−メチル
イソオキサゾリジン−5−イル〕−3−セフェムー4−
カルボン瞭4−メトキシベンジルエステルおよび(6R
,7R) −7−アミノ−3−((R)−2−メチルイ
ソオキサゾリジン−5−イルゴー3−セフェム−4−カ
ルボン酸 4−メトキシベンジルエステルの製造。
イソオキサゾリジン−5−イル〕−3−セフェムー4−
カルボン瞭4−メトキシベンジルエステルおよび(6R
,7R) −7−アミノ−3−((R)−2−メチルイ
ソオキサゾリジン−5−イルゴー3−セフェム−4−カ
ルボン酸 4−メトキシベンジルエステルの製造。
(a)公知の(6R,7R)−7−フェニルアセトアミ
ド−3−ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸4−メ
トキシベンジルエステル3.72 、 、酢酸ナトリウ
ム984■および38%ホルマリン1.26鳳2をジオ
キサン75mflに懸濁し、その懸濁液にN−メチルヒ
ドロキシルアミン塩酸塩1.0 gを80%エタノール
水にとかした溶液を徐々に加え、得られた混合物を90
℃で3時間加熱する。この際、ホルムアルデヒドとN−
メチルヒドロキシルアミンとの反応によりニトロン誘導
体が生威し、さらにこのニトロン誘導体がセフェム化合
物の3位ビニル基に付加する反応が起きた。
ド−3−ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸4−メ
トキシベンジルエステル3.72 、 、酢酸ナトリウ
ム984■および38%ホルマリン1.26鳳2をジオ
キサン75mflに懸濁し、その懸濁液にN−メチルヒ
ドロキシルアミン塩酸塩1.0 gを80%エタノール
水にとかした溶液を徐々に加え、得られた混合物を90
℃で3時間加熱する。この際、ホルムアルデヒドとN−
メチルヒドロキシルアミンとの反応によりニトロン誘導
体が生威し、さらにこのニトロン誘導体がセフェム化合
物の3位ビニル基に付加する反応が起きた。
反応液から不溶物を濾別し、濾液を減圧下に濃縮乾固し
、モして残渣をジクロロメタンにとかし、炭酸水素ナト
リウム水溶液、水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥後に減圧濃縮する。得られた固体残渣
にジエチルエーテルを加えて溶解し、溶液から不溶物を
濾別し濾液を濃縮して、 (6R,7R)−7−フェニ
ルアセトアミド−3−((S)−2−メチルイソオキサ
ゾリジン−5−イルゴー3−セフェム−4−カルボン酸
4−メトキシベンジルエステル2.0gを得た。さら
に前記の不溶物をクロロホルム−メタノール(96:
4)にとかし、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(
展開溶媒クロロホルム−メタノール=96:4)で精製
してさらに(望)−異性体0.5gおよび(幻−異性体
0.9gを得た。
、モして残渣をジクロロメタンにとかし、炭酸水素ナト
リウム水溶液、水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥後に減圧濃縮する。得られた固体残渣
にジエチルエーテルを加えて溶解し、溶液から不溶物を
濾別し濾液を濃縮して、 (6R,7R)−7−フェニ
ルアセトアミド−3−((S)−2−メチルイソオキサ
ゾリジン−5−イルゴー3−セフェム−4−カルボン酸
4−メトキシベンジルエステル2.0gを得た。さら
に前記の不溶物をクロロホルム−メタノール(96:
4)にとかし、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(
展開溶媒クロロホルム−メタノール=96:4)で精製
してさらに(望)−異性体0.5gおよび(幻−異性体
0.9gを得た。
(b)五塩化リン1.43 gをジクロロメタン20−
に懸濁させ、更にその懸濁液に5℃でピリジン544■
を加えて1時間撹拌した。得られた反応液に前項(b)
で得られた(6R,?R)−7−フェニルアセトアミド
−3−((S)−2−メチルイソオキサゾリジン−5−
イルツー3−セフェム−4−カルボン醜 4−メトキシ
ベンジルエステル1.2gを加え、8〜10℃で1.5
時間反応させた6反応液をさらに一35℃に冷却した後
メタノール9.2m12を加え、その混合物を一15℃
で1.5時間撹拌した。これを氷冷した飽和食塩水50
mmとジクロロメタン50薦Qに加えた。これらの工程
により、セフェム化合物からフェニルアセチル基の脱離
反応が完了した6反応液から、水層を分離し水冷下に炭
酸水素ナトリウム水溶液で中和し、その後、得られた水
溶液をジクロロメタンで抽出した。ジクロロメタン抽出
液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後に減圧濃縮して、 (
6R,7R)−7−アミノ−3−[(S) −2−メチ
ルイソオキサゾリジン−5−イルツー3−セフェム−4
−カルボン酸 4−メトキシベンジルエステル811■
を得た。
に懸濁させ、更にその懸濁液に5℃でピリジン544■
を加えて1時間撹拌した。得られた反応液に前項(b)
で得られた(6R,?R)−7−フェニルアセトアミド
−3−((S)−2−メチルイソオキサゾリジン−5−
イルツー3−セフェム−4−カルボン醜 4−メトキシ
ベンジルエステル1.2gを加え、8〜10℃で1.5
時間反応させた6反応液をさらに一35℃に冷却した後
メタノール9.2m12を加え、その混合物を一15℃
で1.5時間撹拌した。これを氷冷した飽和食塩水50
mmとジクロロメタン50薦Qに加えた。これらの工程
により、セフェム化合物からフェニルアセチル基の脱離
反応が完了した6反応液から、水層を分離し水冷下に炭
酸水素ナトリウム水溶液で中和し、その後、得られた水
溶液をジクロロメタンで抽出した。ジクロロメタン抽出
液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後に減圧濃縮して、 (
6R,7R)−7−アミノ−3−[(S) −2−メチ
ルイソオキサゾリジン−5−イルツー3−セフェム−4
−カルボン酸 4−メトキシベンジルエステル811■
を得た。
FABMS: mHz 406 (MH”)NMR(δ
= CDC1a): 2,67(NMe)、4−71(
l(−7)。
= CDC1a): 2,67(NMe)、4−71(
l(−7)。
4.89(H−6)、 5.25(イソオキサゾリジン
−5)。
−5)。
(c)前項(b)と同様の脱7−N−アシル化法により
フェニルアセチル基を脱離させると、前項(a)で得ら
れた(R)−異性体、即ち(6に、 7R)−7−フェ
ニルアセトアミド−3−[(R)−2−メチルイソオキ
サゾリジン−5−イルツー3−セフェム−4−カルボン
酸 4−メトキシベンジルエステル398■より、(6
R,7R)−7−アミノ−3−((R)−2−メチルイ
ソオキサゾリジン−5−イル〕−3−セフェムー4−カ
ルボン酸 4−メトキシベンジルエステル240■を得
た。
フェニルアセチル基を脱離させると、前項(a)で得ら
れた(R)−異性体、即ち(6に、 7R)−7−フェ
ニルアセトアミド−3−[(R)−2−メチルイソオキ
サゾリジン−5−イルツー3−セフェム−4−カルボン
酸 4−メトキシベンジルエステル398■より、(6
R,7R)−7−アミノ−3−((R)−2−メチルイ
ソオキサゾリジン−5−イル〕−3−セフェムー4−カ
ルボン酸 4−メトキシベンジルエステル240■を得
た。
FABMS: m、/z 406 (MH”)NMR(
δ−coct、): 2.67(NMe)、4.67(
l(−7)。
δ−coct、): 2.67(NMe)、4.67(
l(−7)。
4.90(H−6)、 5.53(イソオキサゾリジン
−5)。
−5)。
豊1114
(吐、7幻−7−〔惺)−2−(2−アミノチアゾール
−4−イル〕−2〜(メトキシイミノ)アセトアミド)
−3−((S)−2−メチルイソオキサゾリジン−5−
イルゴー3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム塩の
製造 (a)参考例1(b)で得られた(6R,IR)−7−
アミノ−3−((S)−2−メチルイソオキサゾリジン
−5−イル)−3−セフェム−4−カルボン酸 4−メ
トキシベンジルエステル810■、公知の(Z)−2−
メトキシイミノ−2−(2−トリチルアミノチアゾール
−4−イル)酢酸888.およびヒドロキシベンゾトリ
アゾール298■をジメチルホルムアミド10−に溶か
し、得られた溶液を5℃に冷却した。この溶液に縮合剤
としてジシクロへキシルカルボジイミド454■を加え
25℃で2時間反応させセフェム化合物の7−N−アシ
ル化を行った。その反応液を減圧濃縮して溶媒を除去し
。
−4−イル〕−2〜(メトキシイミノ)アセトアミド)
−3−((S)−2−メチルイソオキサゾリジン−5−
イルゴー3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム塩の
製造 (a)参考例1(b)で得られた(6R,IR)−7−
アミノ−3−((S)−2−メチルイソオキサゾリジン
−5−イル)−3−セフェム−4−カルボン酸 4−メ
トキシベンジルエステル810■、公知の(Z)−2−
メトキシイミノ−2−(2−トリチルアミノチアゾール
−4−イル)酢酸888.およびヒドロキシベンゾトリ
アゾール298■をジメチルホルムアミド10−に溶か
し、得られた溶液を5℃に冷却した。この溶液に縮合剤
としてジシクロへキシルカルボジイミド454■を加え
25℃で2時間反応させセフェム化合物の7−N−アシ
ル化を行った。その反応液を減圧濃縮して溶媒を除去し
。
残渣に酢酸エチルを加えて溶解し、溶液から不溶物を濾
別した。濾液を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥後に減圧濃縮して固体を得た。この固
体をクロロホルムにとかし、シリカゲルカラムクロマト
グラフィー(展開溶媒、クロロホルム)により精製して
(6R,7且)−7−((Z)−2−(メトキシイミノ
)−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)
アセトアミド)−3−((旦)−2−メチルイソオキサ
ゾリジン−5−イル〕−3−セフェムー4−カルボン酸
4−メトキシベンジルエステル1.43gを得た。
別した。濾液を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥後に減圧濃縮して固体を得た。この固
体をクロロホルムにとかし、シリカゲルカラムクロマト
グラフィー(展開溶媒、クロロホルム)により精製して
(6R,7且)−7−((Z)−2−(メトキシイミノ
)−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)
アセトアミド)−3−((旦)−2−メチルイソオキサ
ゾリジン−5−イル〕−3−セフェムー4−カルボン酸
4−メトキシベンジルエステル1.43gを得た。
(b)前項(a)で得られた(6R,7fi)−7−[
(Z)−2−(メトキシイミノ)−2−(2−トリチル
アミノチアゾール−4−イル)アセトアミド)−3−(
(S)−2−メチルイソオキサゾリジン−5−イルツー
3−セフェム−4−カルボン酸4−メトキシベンジルエ
ステル150■にアニソール0.15mQとトリフルオ
ロ酢酸1.5−を5℃で加え工時間反応させた。セフェ
ム化合物のカルボキシル基から4−メトキシベンジル基
の脱離反応が起り、またアミノ保護基のトリチル基が部
分的に脱離された。この反応液にイソプロピルエーテル
を加え減圧下に濃縮した。得られたあめ状の残渣にイソ
プロピルエーテルをさらに加えて固体を得た。これを5
0%蟻酸に溶解してその溶液を50℃にて1時間加熱し
て反応させると、アミノ保護基のトリチル基の脱離が完
了した。その反応液から不溶物を濾別し濾液を減圧濃縮
し、得られたあめ状残渣をクロロホルムで粉末化した。
(Z)−2−(メトキシイミノ)−2−(2−トリチル
アミノチアゾール−4−イル)アセトアミド)−3−(
(S)−2−メチルイソオキサゾリジン−5−イルツー
3−セフェム−4−カルボン酸4−メトキシベンジルエ
ステル150■にアニソール0.15mQとトリフルオ
ロ酢酸1.5−を5℃で加え工時間反応させた。セフェ
ム化合物のカルボキシル基から4−メトキシベンジル基
の脱離反応が起り、またアミノ保護基のトリチル基が部
分的に脱離された。この反応液にイソプロピルエーテル
を加え減圧下に濃縮した。得られたあめ状の残渣にイソ
プロピルエーテルをさらに加えて固体を得た。これを5
0%蟻酸に溶解してその溶液を50℃にて1時間加熱し
て反応させると、アミノ保護基のトリチル基の脱離が完
了した。その反応液から不溶物を濾別し濾液を減圧濃縮
し、得られたあめ状残渣をクロロホルムで粉末化した。
この粉末を水に懸濁させ、炭酸水素ナトリウム水溶液に
より、pH7に調整した後、アンバーライトXAD−2
レジンのカラムクロマトグラフィーにより精製すると、
siiの(吐、 7R)−7−((Z)−2−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)−2−(メトキシイミノ)
アセトアミド)−3−[(S)−2−メチルイソオキサ
ゾリジン−5−イルゴー3−セフェム−4−カルボン酸
のナトリウム塩42■を得た。
より、pH7に調整した後、アンバーライトXAD−2
レジンのカラムクロマトグラフィーにより精製すると、
siiの(吐、 7R)−7−((Z)−2−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)−2−(メトキシイミノ)
アセトアミド)−3−[(S)−2−メチルイソオキサ
ゾリジン−5−イルゴー3−セフェム−4−カルボン酸
のナトリウム塩42■を得た。
FABMS: ta/z 491 (MH”)NMR(
δ、 D、0): 2.74および2.84(NMe)
、 5.03および5.30(イソオキサゾリジン−5
)。
δ、 D、0): 2.74および2.84(NMe)
、 5.03および5.30(イソオキサゾリジン−5
)。
5.26(H−6) 、5.82および5.83(H−
7)。
7)。
参JJL走
(6R,7R)−7−[(Z)−2−(2−アミノチア
ゾール−4−イル)−2−(メトキシイミノ)アセトア
ミド)−3−((R)−2−メチルイソオキサゾリジン
−5−イル〕−3−セフェム=4−カルボン酸ナトリウ
ム塩の製造 参考例1(c)で得られた(6R,7R) −7−アミ
ノ−3−[(R)−2−メチルイソオキサゾリジン−5
−イルゴー3−セフェム−4−カルボン酸 4−メトキ
シベンジルエステル223■と公知の(Z)−2−メト
キシイミノ−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イ
ル)酢酸244■から、参考例2(a)の方法と同様に
セフェム化合物の7−N−アシル化反応の工程により、
(6に、 7R)−7−((1)=2−(メトキシイミ
ノ)−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル
)アセトアミド) −3−((R)−2−メチルイソオ
キサゾリジン−5−イル〕−3−セフェムー4−カルボ
ン酸 4−メトキシベンジルエステル382■を得た。
ゾール−4−イル)−2−(メトキシイミノ)アセトア
ミド)−3−((R)−2−メチルイソオキサゾリジン
−5−イル〕−3−セフェム=4−カルボン酸ナトリウ
ム塩の製造 参考例1(c)で得られた(6R,7R) −7−アミ
ノ−3−[(R)−2−メチルイソオキサゾリジン−5
−イルゴー3−セフェム−4−カルボン酸 4−メトキ
シベンジルエステル223■と公知の(Z)−2−メト
キシイミノ−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イ
ル)酢酸244■から、参考例2(a)の方法と同様に
セフェム化合物の7−N−アシル化反応の工程により、
(6に、 7R)−7−((1)=2−(メトキシイミ
ノ)−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル
)アセトアミド) −3−((R)−2−メチルイソオ
キサゾリジン−5−イル〕−3−セフェムー4−カルボ
ン酸 4−メトキシベンジルエステル382■を得た。
この生成物を参考例2(b)と同様な要領で脱保護反応
にかけ、更に炭酸水素ナトリウム処理を含めて参考例2
(b)の後段の工程と同様に処理すると。
にかけ、更に炭酸水素ナトリウム処理を含めて参考例2
(b)の後段の工程と同様に処理すると。
標題の(6尺、7K)−7−((孟)−2−(2−アミ
ノチアゾール−4−イル)−2−(メトキシイミノ)ア
セトアミド〕−3−((R)−2−メチルイソオキサゾ
リジン−5−イル〕−3−セフェムー4−カルボン酸の
ナトリウム塩148■を得た。
ノチアゾール−4−イル)−2−(メトキシイミノ)ア
セトアミド〕−3−((R)−2−メチルイソオキサゾ
リジン−5−イル〕−3−セフェムー4−カルボン酸の
ナトリウム塩148■を得た。
FABMS: mHz 491 (MH”)NMR(δ
、 D、O): 2.73および2.80(NNe)、
5.0および5.31(イソオキサゾリジン−5)。
、 D、O): 2.73および2.80(NNe)、
5.0および5.31(イソオキサゾリジン−5)。
5.24および5.25(H−6)。
5.81 (H−7)。
参JJL髪
(吐、7幻−7−((Z)−2−(2−アミノチアゾー
ル−4−イル)−2−(ヒドロキシイミノ)アセトアミ
ド)−3−((S)−2−メチルイソオキサゾリジン−
5−イル〕−3−セフェムー4−カルボン酸ナトリウム
塩の製造。
ル−4−イル)−2−(ヒドロキシイミノ)アセトアミ
ド)−3−((S)−2−メチルイソオキサゾリジン−
5−イル〕−3−セフェムー4−カルボン酸ナトリウム
塩の製造。
参考例1(b)で得られた(6R,7R)−7−アミノ
−3−((S)−2−メチルイソオキサゾリジン−5−
イル〕−3−セフェムー4−カルボン酸 4−メトキシ
ベンジルエステル487mgと公知の(Z)−2−(ト
リチルアミノチアゾール−4−イル)−2−(トリチル
オキシイミノ)酢酸805■から、参考例2(a)の方
法と同様にセフェム化合物の7−N−アシル化反応の工
程により、(6R,7R)−3−[(S)−2−メチル
イソオキサゾリジン−5−イル]−7−((Z)−2−
(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)−2−(
トリチルオキシイミノ)アセトアミド〕−3−セフェム
−4−カルボン酸 4−メトキシベンジルエステル92
6■を得た。この生成物の150■を参考例2(b)と
同様に脱保護反応にかけ、更に炭酸水素ナトリウム処理
を含めて同様に後処理すると、標題の(6に、釧)−7
−[(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
=2−(ヒドロキシイミノ)アセトアミド)−3−((
S)−2−メチルイソオキサゾリジン−5−イルゴー3
−セフェム−4−カルボン酸のナトリウム塩45■を得
た。
−3−((S)−2−メチルイソオキサゾリジン−5−
イル〕−3−セフェムー4−カルボン酸 4−メトキシ
ベンジルエステル487mgと公知の(Z)−2−(ト
リチルアミノチアゾール−4−イル)−2−(トリチル
オキシイミノ)酢酸805■から、参考例2(a)の方
法と同様にセフェム化合物の7−N−アシル化反応の工
程により、(6R,7R)−3−[(S)−2−メチル
イソオキサゾリジン−5−イル]−7−((Z)−2−
(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)−2−(
トリチルオキシイミノ)アセトアミド〕−3−セフェム
−4−カルボン酸 4−メトキシベンジルエステル92
6■を得た。この生成物の150■を参考例2(b)と
同様に脱保護反応にかけ、更に炭酸水素ナトリウム処理
を含めて同様に後処理すると、標題の(6に、釧)−7
−[(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
=2−(ヒドロキシイミノ)アセトアミド)−3−((
S)−2−メチルイソオキサゾリジン−5−イルゴー3
−セフェム−4−カルボン酸のナトリウム塩45■を得
た。
FABMS: mHz 477 (MH”)NMR(δ
、 D、0): 2.79および2.89(NMa)、
5.08および5.33(インオキサゾリジン−5)
。
、 D、0): 2.79および2.89(NMa)、
5.08および5.33(インオキサゾリジン−5)
。
5.27(H−6)、 5.85および5.86(H−
7)。
7)。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、R^1は水素原子または低級アルキル基を表わ
し、*印の炭素原子の立体化学は、¥R¥、¥S¥、ま
たは¥RS¥を示し、R^2は−CHR^3OCOR^
4基(式中、R^3は水素原子または低級アルキル基を
表わし、R^4は低級アルキル基、低級アルコキシ基ま
たはシクロアルキルオキシ基を表わす)を示す〕で示さ
れるセフェム化合物およびそれらの薬理学上許容される
酸付加塩。 2、一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、R^1は水素原子または低級アルキル基を表わ
し、*印の炭素原子の立体化学は、¥R¥、¥S¥、ま
たは¥RS¥を示し、R^2は−CHR^3OCOR^
4基(式中、R^3は水素原子または低級アルキル基を
表わし、R^4は低級アルキル基、低級アルコキシ基ま
たはシクロアルキルオキシ基を表わす)を示す〕で示さ
れるセフェム化合物およびそれらの薬理学上許容される
酸付加塩を有効成分として含有することを特徴とする経
口投与用抗菌剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3139090A JPH03236392A (ja) | 1990-02-14 | 1990-02-14 | 経口投与用3―イソオキサゾリジニルセフアロスポリン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3139090A JPH03236392A (ja) | 1990-02-14 | 1990-02-14 | 経口投与用3―イソオキサゾリジニルセフアロスポリン誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03236392A true JPH03236392A (ja) | 1991-10-22 |
Family
ID=12329937
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3139090A Pending JPH03236392A (ja) | 1990-02-14 | 1990-02-14 | 経口投与用3―イソオキサゾリジニルセフアロスポリン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03236392A (ja) |
-
1990
- 1990-02-14 JP JP3139090A patent/JPH03236392A/ja active Pending
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