JPH03237607A - 薄膜磁気ヘッドの検査方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘッドの検査方法Info
- Publication number
- JPH03237607A JPH03237607A JP3414190A JP3414190A JPH03237607A JP H03237607 A JPH03237607 A JP H03237607A JP 3414190 A JP3414190 A JP 3414190A JP 3414190 A JP3414190 A JP 3414190A JP H03237607 A JPH03237607 A JP H03237607A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic poles
- elements
- magnetic pole
- width
- lower magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 13
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 6
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 abstract description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 abstract description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 abstract description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 3
- UQZIWOQVLUASCR-UHFFFAOYSA-N alumane;titanium Chemical compound [AlH3].[Ti] UQZIWOQVLUASCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000007665 sagging Methods 0.000 description 1
- MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N trimethyl(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)C(F)(F)F MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は薄膜磁気ヘッドの検査方法に関し、特に浮上面
に対する磁極の段差測定方法に関する。
に対する磁極の段差測定方法に関する。
従来、この種の薄膜ヘッドは高硬度のセラミック基板上
に下部磁極、ギャップ、コイル及び上部磁極をスパッタ
およびめっき等の手法を用いて順次積層しながら多数の
電磁変換素子(以下、素子という)を同時に形成する。
に下部磁極、ギャップ、コイル及び上部磁極をスパッタ
およびめっき等の手法を用いて順次積層しながら多数の
電磁変換素子(以下、素子という)を同時に形成する。
その後、機械加工工程において、切断、研削及びラップ
等の工法を用いてスライダが形成される。しかしながら
、素子はスライダの端部に形成されているため、ラップ
加工において゛だれ”が生じ易く、また、磁極部は金属
で形成されているため、浮上面に対する段差が大きくな
り易い。なお、最近の高密度化、低浮上量化の動向に伴
い、この段差は極力小さく安定していることが望ましく
、そのため、従来はラップ後の浮上面を接触型の表面粗
さ計を用いて段差を測定していた。
等の工法を用いてスライダが形成される。しかしながら
、素子はスライダの端部に形成されているため、ラップ
加工において゛だれ”が生じ易く、また、磁極部は金属
で形成されているため、浮上面に対する段差が大きくな
り易い。なお、最近の高密度化、低浮上量化の動向に伴
い、この段差は極力小さく安定していることが望ましく
、そのため、従来はラップ後の浮上面を接触型の表面粗
さ計を用いて段差を測定していた。
上述した従来の薄膜磁気ヘッドの検査方法では、最近の
高密度化、すなわち、狭トラツク化に伴って表面粗さ計
の測定子を狭い磁極の上に位置させることができず、そ
のために磁極の段差を正確に測定することが困難になっ
てきた。
高密度化、すなわち、狭トラツク化に伴って表面粗さ計
の測定子を狭い磁極の上に位置させることができず、そ
のために磁極の段差を正確に測定することが困難になっ
てきた。
本発明の薄膜磁気ヘッドの検査方法は、基板上に下部磁
極、ギャップ、コイル及び上部磁極を順次積層して複数
個の電磁変換素子を形成した薄膜磁気ヘッドの検査方法
において、前記複数個の電磁変換素子の内、所定の磁極
幅より広く形成された少なくとも1個の電磁変換素子を
用いて前記下部磁極及び前記上部磁極の計測を行うこと
を特徴とする。
極、ギャップ、コイル及び上部磁極を順次積層して複数
個の電磁変換素子を形成した薄膜磁気ヘッドの検査方法
において、前記複数個の電磁変換素子の内、所定の磁極
幅より広く形成された少なくとも1個の電磁変換素子を
用いて前記下部磁極及び前記上部磁極の計測を行うこと
を特徴とする。
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第1図(a)は本発明の検査方法を実現するための薄膜
磁気ヘッドを示す平面図である。
磁気ヘッドを示す平面図である。
第1図(b)及び同図(C)は第1図(a)の素子をそ
れぞれ示す部分拡大図である。第1図(a)において、
薄膜磁気ヘッドは高硬度なアルミナチタンカーバイト基
板1上に上下磁極3.ギャップ、コイル4及びアルミナ
保護膜5をスパッタおよびめっき等の手法を用いて積層
し、複数の素子2を同時に形成される。
れぞれ示す部分拡大図である。第1図(a)において、
薄膜磁気ヘッドは高硬度なアルミナチタンカーバイト基
板1上に上下磁極3.ギャップ、コイル4及びアルミナ
保護膜5をスパッタおよびめっき等の手法を用いて積層
し、複数の素子2を同時に形成される。
ここで、例えば、1列の素子2のうち両端の2個の素子
2aにおいて、第1図(b)に示すように上下の磁極3
の幅W1は、第1図(c)に示す他の通常の素子2bの
上下の磁極幅w2に比べて十分広く形成されている。最
近の薄膜ヘッドの磁極幅W1は約12〜13μmであり
、この場合、素子2aの磁極幅W2は25μm程度が適
当である。そして、この後機械加工工程において、切断
、研削及びラップ等の工法を用いてスライダが形成され
る。
2aにおいて、第1図(b)に示すように上下の磁極3
の幅W1は、第1図(c)に示す他の通常の素子2bの
上下の磁極幅w2に比べて十分広く形成されている。最
近の薄膜ヘッドの磁極幅W1は約12〜13μmであり
、この場合、素子2aの磁極幅W2は25μm程度が適
当である。そして、この後機械加工工程において、切断
、研削及びラップ等の工法を用いてスライダが形成され
る。
第2図(a)及び同図(b)は本発明の一実施例を説明
する部分斜視図である。第2図(a)において、スライ
ダ6は表面粗さ計の測定子7が矢印の方向に進行して浮
上面8に対する上下磁極3の段差を測定される。ここで
、第2図(a)と同図(b)とを比較すれば理解できる
ように、第2図(b)では、測定子7の先端部に対して
上下磁極3の幅が非常に小さく、測定子7を上下磁極3
を通過させるように位置決めすることは極めて困難であ
り、逆に第2図(a)の磁極3に対しては容易である。
する部分斜視図である。第2図(a)において、スライ
ダ6は表面粗さ計の測定子7が矢印の方向に進行して浮
上面8に対する上下磁極3の段差を測定される。ここで
、第2図(a)と同図(b)とを比較すれば理解できる
ように、第2図(b)では、測定子7の先端部に対して
上下磁極3の幅が非常に小さく、測定子7を上下磁極3
を通過させるように位置決めすることは極めて困難であ
り、逆に第2図(a)の磁極3に対しては容易である。
なお、幅広な磁極を有する素子2aを若干数だけ基板内
に形成しても、通常、スライダ当り2個の素子を持って
いるため、実際に電磁変換に利用する素子はスライダ当
り1個である。したがって、生産性を低下させるような
ことはない。
に形成しても、通常、スライダ当り2個の素子を持って
いるため、実際に電磁変換に利用する素子はスライダ当
り1個である。したがって、生産性を低下させるような
ことはない。
以上説明したように本発明は、スライダ加工後に浮上面
に対する磁極の段差を測定する際、広い磁極幅を有する
スライダを測定することにより、正確な磁極の段差を再
現性良く測定できるという効果がある。
に対する磁極の段差を測定する際、広い磁極幅を有する
スライダを測定することにより、正確な磁極の段差を再
現性良く測定できるという効果がある。
第1図(a)は本発明の一実施例を実現するため薄膜磁
気ヘッドを示す平面図、第1図(b)及び同図(c)は
第1図(a)の素子をそれぞれ示す部分拡大図、第2図
(a>及び同図(b)は本発明の一実施例を説明する部
分斜視図である。 1・・・基板、2・・・素子、2a・・・磁極幅の広い
素子、2b・・・磁極幅の狭い通常素子、3・・・上下
磁極、4・・・コイル、5・・・アルミナ保護膜、6・
・・スライダ、7・・・測定子、8・・・浮上面。
気ヘッドを示す平面図、第1図(b)及び同図(c)は
第1図(a)の素子をそれぞれ示す部分拡大図、第2図
(a>及び同図(b)は本発明の一実施例を説明する部
分斜視図である。 1・・・基板、2・・・素子、2a・・・磁極幅の広い
素子、2b・・・磁極幅の狭い通常素子、3・・・上下
磁極、4・・・コイル、5・・・アルミナ保護膜、6・
・・スライダ、7・・・測定子、8・・・浮上面。
Claims (1)
- 基板上に下部磁極、ギャップ、コイル及び上部磁極を順
次積層して複数個の電磁変換素子を形成した薄膜磁気ヘ
ッドの検査方法において、前記複数個の電磁変換素子の
内、所定の磁極幅より広く形成された少なくとも1個の
電磁変換素子を用いて前記下部磁極及び前記上部磁極の
計測を行うことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの検査方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3414190A JPH03237607A (ja) | 1990-02-14 | 1990-02-14 | 薄膜磁気ヘッドの検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3414190A JPH03237607A (ja) | 1990-02-14 | 1990-02-14 | 薄膜磁気ヘッドの検査方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03237607A true JPH03237607A (ja) | 1991-10-23 |
Family
ID=12405935
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3414190A Pending JPH03237607A (ja) | 1990-02-14 | 1990-02-14 | 薄膜磁気ヘッドの検査方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03237607A (ja) |
-
1990
- 1990-02-14 JP JP3414190A patent/JPH03237607A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7474507B2 (en) | Storage device having slider with sacrificial extension aligned with channel on opposite surface | |
| US6261165B1 (en) | Row carrier for precision lapping of disk drive heads and for handling of heads during the slider fab operation | |
| US4333229A (en) | Method of manufacturing thin film magnetic head/slider combination | |
| US4071868A (en) | Narrow track MR head with side shields | |
| US6447367B1 (en) | Processing jig | |
| US6515475B2 (en) | Determination of track width of magnetoresistive sensors during magnetic head fabrication using magnetic fields | |
| US6202289B1 (en) | Manufacturing process of thin film magnetic head sliders | |
| US6195871B1 (en) | Method of manufacturing magnetic head elements | |
| JPH03237607A (ja) | 薄膜磁気ヘッドの検査方法 | |
| US7326102B2 (en) | Apparatus for lapping thin film magnetic heads | |
| JPS6076011A (ja) | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 | |
| US5612843A (en) | Method for accurately setting the gap in an inductive magnetic head | |
| JP2996562B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH01184613A (ja) | 薄膜磁気ヘッドの抵抗モニタパターン | |
| JP2767353B2 (ja) | 浮上型薄膜磁気ヘッド | |
| JPH07121830A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JPS63157381A (ja) | 浮上試験用ヘツドスライダ及びその製造方法 | |
| JPH07134811A (ja) | 磁気抵抗ヘッド素子ウェハ及び複合磁気ヘッド素子ウェハ | |
| JPS61227211A (ja) | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPS62214507A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JPS6231015A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JPH01130312A (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS6226618A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JPS5827569B2 (ja) | 磁気ヘツドコアの製造方法 | |
| JPH01300411A (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |