JPS6231015A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents
薄膜磁気ヘツドInfo
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- JPS6231015A JPS6231015A JP16980985A JP16980985A JPS6231015A JP S6231015 A JPS6231015 A JP S6231015A JP 16980985 A JP16980985 A JP 16980985A JP 16980985 A JP16980985 A JP 16980985A JP S6231015 A JPS6231015 A JP S6231015A
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- Japan
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- thin film
- magnetic head
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、■１等に用いるのに好適なアジマス角度を有
する薄膜ヘッドに関する。
する薄膜ヘッドに関する。
磁気記録の高密度化に対応して、高抗力磁気記録媒体の
開発と共に磁気ヘッドの高精度化が図られている。高精
度磁気ヘッドとして、非磁性基板（以゛下、単に基板と
記す）上にフォトリングラフィ技法あるいは真空蒸着等
によって磁性膜、ギャップ材、コイル導体等のヘッド構
成材を積層、パターニングして一体購造とする薄膜斑気
ヘッドが開発されている（例えば、特開昭５４−８１８
１８号公報、特開昭５８−８０１２１号公報等）。
開発と共に磁気ヘッドの高精度化が図られている。高精
度磁気ヘッドとして、非磁性基板（以゛下、単に基板と
記す）上にフォトリングラフィ技法あるいは真空蒸着等
によって磁性膜、ギャップ材、コイル導体等のヘッド構
成材を積層、パターニングして一体購造とする薄膜斑気
ヘッドが開発されている（例えば、特開昭５４−８１８
１８号公報、特開昭５８−８０１２１号公報等）。
ところで、■１などに使用する磁気ヘッドはトラック方
向に対して磁気ギャップを傾斜させた所謂アジマス角付
薄ＷＸ磁気ヘッドが主である。
向に対して磁気ギャップを傾斜させた所謂アジマス角付
薄ＷＸ磁気ヘッドが主である。
この種の薄膜磁気ヘッドは、例えば特開昭５７−５５５
２６号公報に記載されたように、基板上に第１の磁性膜
（下部コア）を形成した後、その一部を除去して磁気ギ
ャップ形成面を形成させる。
２６号公報に記載されたように、基板上に第１の磁性膜
（下部コア）を形成した後、その一部を除去して磁気ギ
ャップ形成面を形成させる。
このとき、磁気ギャップ形成面と基板の面の法線との傾
き角が５〜２５区（例えば１０度）となるように設定す
る。
き角が５〜２５区（例えば１０度）となるように設定す
る。
この角度がアジマス角に相当する。次に、この磁気ギャ
ップ形成面と第１の磁性膜を除去した部分の上に磁気へ
ラドギャップ間隔となる厚さに非磁性層を形成し、さら
にその上に第２の磁性膜（上部コア）を形成する。その
後、研摩や保護基板の接着等の処理を施こしてアジマス
角付き薄膜磁気ヘッドを得ている。しかしながら、第２
の磁性膜はアジマス角に対応する例えば８０度という大
きく傾針した面に形成するため膜質や磁気特性等の低下
を招き、製品バラツキが大きくなり、またマスクスパッ
タを行なうには基板を＃４ける等、製造工程が複雑とな
り、量産性に問題を残していた。
ップ形成面と第１の磁性膜を除去した部分の上に磁気へ
ラドギャップ間隔となる厚さに非磁性層を形成し、さら
にその上に第２の磁性膜（上部コア）を形成する。その
後、研摩や保護基板の接着等の処理を施こしてアジマス
角付き薄膜磁気ヘッドを得ている。しかしながら、第２
の磁性膜はアジマス角に対応する例えば８０度という大
きく傾針した面に形成するため膜質や磁気特性等の低下
を招き、製品バラツキが大きくなり、またマスクスパッ
タを行なうには基板を＃４ける等、製造工程が複雑とな
り、量産性に問題を残していた。
本発明の目的は、上記従来技術の問題を解消し、磁性膜
の膜質や磁気特性を損わず、製造容易かつ製品歩留りが
良く、量産性に適合した薄膜磁気ヘッドを提供するにあ
る。
の膜質や磁気特性を損わず、製造容易かつ製品歩留りが
良く、量産性に適合した薄膜磁気ヘッドを提供するにあ
る。
〔発明の概要〕
この目的を達成するために、本発明は、基板（下部コア
）の少なくとも磁気ギャップ部に相当する位置に、アジ
マス角に相当する傾斜面を形放し、この傾斜面の角度を
維持するように磁気ギャップを形成した点にｆＦ徴があ
る。
）の少なくとも磁気ギャップ部に相当する位置に、アジ
マス角に相当する傾斜面を形放し、この傾斜面の角度を
維持するように磁気ギャップを形成した点にｆＦ徴があ
る。
以下、本発明の実施例を図面を用いて説明する。
第１図は本発明による薄膜磁気ヘッドの一実施例を示す
斜視図であって、１は非磁性の平坦な基板、２は下１部
コア、５は上部コア、４はコイル・５は磁気ギャップ材
、６はコイル４とコア２．３を絶縁する絶縁材から放る
絶縁層である。
斜視図であって、１は非磁性の平坦な基板、２は下１部
コア、５は上部コア、４はコイル・５は磁気ギャップ材
、６はコイル４とコア２．３を絶縁する絶縁材から放る
絶縁層である。
同図において、下部コア２は平坦な基板１に対してアジ
マス角に相当する角度θをなしている。このアジマス角
θの傾斜面は平坦な基板１に磁性膜をスパッタリング、
蒸着又はメッキ等の方法で形放した後、ラッピング又は
バイト切削等により得ることができる。アジマス角θの
傾斜面をもった下部コア２の上面に基板１を平坦に保っ
たまま、ギャップ材５．コイル４．絶縁層６及び上部コ
ア５等をＩＣ製造と類似の底膜とフォトエツチングな頭
次繰返して積層形成する。なお、コイルは１ターンとし
て示しであるが、多ターンでもよい。
マス角に相当する角度θをなしている。このアジマス角
θの傾斜面は平坦な基板１に磁性膜をスパッタリング、
蒸着又はメッキ等の方法で形放した後、ラッピング又は
バイト切削等により得ることができる。アジマス角θの
傾斜面をもった下部コア２の上面に基板１を平坦に保っ
たまま、ギャップ材５．コイル４．絶縁層６及び上部コ
ア５等をＩＣ製造と類似の底膜とフォトエツチングな頭
次繰返して積層形成する。なお、コイルは１ターンとし
て示しであるが、多ターンでもよい。
また、アジマス角は５〜２５度が一般的であるので、図
示のような下部コア２の緩慢な傾斜面では、ステップカ
バレッジの問題は全くなく、傾斜面に形成する上部コア
３の磁性膜は平坦面に形成した磁性膜と比較して有意差
はない。
示のような下部コア２の緩慢な傾斜面では、ステップカ
バレッジの問題は全くなく、傾斜面に形成する上部コア
３の磁性膜は平坦面に形成した磁性膜と比較して有意差
はない。
上部コア５を形成した後、この上に保護膜（図示せず）
を形成し、チップ整形して薄膜磁気ヘッドを得る。
を形成し、チップ整形して薄膜磁気ヘッドを得る。
第２図は第１図に示した本発明による薄膜磁気ヘッドを
量産するためにウニＩ・上に多数のチップを展開した第
−例の斜視図であり、１は基板、２は下部コア、５は上
部コア、４はコイル、７はテッグ化のための切断線であ
る。
量産するためにウニＩ・上に多数のチップを展開した第
−例の斜視図であり、１は基板、２は下部コア、５は上
部コア、４はコイル、７はテッグ化のための切断線であ
る。
同図において、基板１となるウニＩ・に下部コア２とな
る多数の傾斜面をもった磁性膜を形放し、前記と同様の
方法により多数の薄膜磁気へラドチップを搭載する。こ
のウニ・・を切断線７に沿りて高速スライサ（図示せず
）により切断し、個々のヘッドチップに分離して多数の
薄膜磁気ヘッドを得るものである。
る多数の傾斜面をもった磁性膜を形放し、前記と同様の
方法により多数の薄膜磁気へラドチップを搭載する。こ
のウニ・・を切断線７に沿りて高速スライサ（図示せず
）により切断し、個々のヘッドチップに分離して多数の
薄膜磁気ヘッドを得るものである。
第５図は第１図に示した本発明による薄膜磁気ヘッドを
量産するためにウェハ上に多数のチップを展開した第二
例の斜視図であり、逆アジマス角の傾斜面を同一基板の
下部コアに形成したものであって、１〜４および７は第
２図と同様の部分を示し、２１は下部コア２に対する逆
アジマスの下部コアを示す。
量産するためにウェハ上に多数のチップを展開した第二
例の斜視図であり、逆アジマス角の傾斜面を同一基板の
下部コアに形成したものであって、１〜４および７は第
２図と同様の部分を示し、２１は下部コア２に対する逆
アジマスの下部コアを示す。
同図において、下部コアに形成するアジマス角、逆アジ
マス角に対応する傾斜面は、第２図と同様に基板１上に
磁性膜を形成後、ラッピングあるいはバイト切削により
形成する、この例によれば、アジマス角付きと逆アジマ
ス角付きの両者を同一ウェハ上で量産することができる
。
マス角に対応する傾斜面は、第２図と同様に基板１上に
磁性膜を形成後、ラッピングあるいはバイト切削により
形成する、この例によれば、アジマス角付きと逆アジマ
ス角付きの両者を同一ウェハ上で量産することができる
。
第４図は本発明による薄膜磁気ヘッドを量産するために
ウェハ上に多数のチップを展開した第三例の斜視図であ
って、１は非出性基板、２は下部コア、７は切断線、８
は非磁性膜である。
ウェハ上に多数のチップを展開した第三例の斜視図であ
って、１は非出性基板、２は下部コア、７は切断線、８
は非磁性膜である。
なお、上部コア、コイル等は省略しである。
同図において、基板１は平坦面をもつものであり、この
上に切削等の機械加工がしやすい非磁性ＩＩａを形成す
る。非磁性膜８はＣｕ ＊ Ａｔ＊ＳＵＳ、ＳｉＯ，、
Ｔｉｅ！あるいはガラス材、セラミックス材等であり、
これを機械加工によりアジマス角に相当する傾斜面を形
放し、その上に下部コア２となる磁性膜を形成するもの
である。
上に切削等の機械加工がしやすい非磁性ＩＩａを形成す
る。非磁性膜８はＣｕ ＊ Ａｔ＊ＳＵＳ、ＳｉＯ，、
Ｔｉｅ！あるいはガラス材、セラミックス材等であり、
これを機械加工によりアジマス角に相当する傾斜面を形
放し、その上に下部コア２となる磁性膜を形成するもの
である。
これによれば、非磁性膜８のアジマス角は下部コア２の
上面に転写維持され、以下上記と同様の方法で薄膜磁気
ヘッドを得ることができる。
上面に転写維持され、以下上記と同様の方法で薄膜磁気
ヘッドを得ることができる。
第５図は本発明による薄膜磁気ヘッドを量産するために
ウェハ上に多数のチップを展開した第四例の斜視図であ
って、２は下部コア、７は切断、廐、１１は非磁性の基
板で、その他の構成部分は省略しである。
ウェハ上に多数のチップを展開した第四例の斜視図であ
って、２は下部コア、７は切断、廐、１１は非磁性の基
板で、その他の構成部分は省略しである。
同図において、基板１１は機械加工がしやすい上記のよ
うな非磁性材料等を用い、これをアジマス角に相当する
傾斜面をもつように機械加工し、その上に下部コア２と
なる磁性膜を形成するものである。これによれば、基板
１１のアジマス角は上記例と同様に下部コア２の上面に
転写維持され、以下同様の方法で薄膜磁気ヘッドを得る
ことができる。
うな非磁性材料等を用い、これをアジマス角に相当する
傾斜面をもつように機械加工し、その上に下部コア２と
なる磁性膜を形成するものである。これによれば、基板
１１のアジマス角は上記例と同様に下部コア２の上面に
転写維持され、以下同様の方法で薄膜磁気ヘッドを得る
ことができる。
第６図は本発明による薄膜磁気ヘッドを量産するために
ウェハ上に多数のチップを展開した第五例の斜視図であ
って、１〜４および７は前記と同様の部分を示し、２９
はギャップ形成位置である。
ウェハ上に多数のチップを展開した第五例の斜視図であ
って、１〜４および７は前記と同様の部分を示し、２９
はギャップ形成位置である。
同図忙おいて、平坦な基板１の上に形成した下部コア２
のギャップ形成位ｆＩ７ｔ２９にアジマス角に釉当する
部分的傾斜面部を加工する。この傾斜面部と他の平坦部
との接続部は連続するように適度のテーパをもたせてい
るので、その後に形成する上部コア３の磁性膜形成工程
でのステップカバレッジに問題はない。
のギャップ形成位ｆＩ７ｔ２９にアジマス角に釉当する
部分的傾斜面部を加工する。この傾斜面部と他の平坦部
との接続部は連続するように適度のテーパをもたせてい
るので、その後に形成する上部コア３の磁性膜形成工程
でのステップカバレッジに問題はない。
なお、同図においては、平坦面に形成した下部コア２の
ギャップ形成位置２９に部分的傾斜面部を加工したが、
基板１のギャップ形成位置に部分的傾斜面部を加工して
もよい。
ギャップ形成位置２９に部分的傾斜面部を加工したが、
基板１のギャップ形成位置に部分的傾斜面部を加工して
もよい。
第７図は本発明による薄膜磁気ヘッドの他の実施例をウ
ェハ上に多数のチップを展開して示す斜視図であり、１
は非磁性の基板、７は切断線、８は機械加工のしやすい
非磁性膜、２２は下部コア、５２は上部コア、４０は巻
線穴である。
ェハ上に多数のチップを展開して示す斜視図であり、１
は非磁性の基板、７は切断線、８は機械加工のしやすい
非磁性膜、２２は下部コア、５２は上部コア、４０は巻
線穴である。
同図において、基板１は平坦な表面をもち、巻線穴４０
が設けられる。この上に前記第４図におけるものと同様
の材料からなる非磁性ｌＩ８を形放し、その表面をアジ
マス角に相当する傾斜面に加工する。この傾斜面上に下
部コア２２を形成し、さらに上部コア５２を形成する。
が設けられる。この上に前記第４図におけるものと同様
の材料からなる非磁性ｌＩ８を形放し、その表面をアジ
マス角に相当する傾斜面に加工する。この傾斜面上に下
部コア２２を形成し、さらに上部コア５２を形成する。
上部コア５２と下部コア２２は巻線穴４０を囲むように
パターニングされる。
パターニングされる。
なお、同図では平坦な基板１上に形成した非磁性ｒ＆８
にアジマス角和相自する傾斜面を加工しているが、基板
１にこの傾斜面を加工してもよいし、前記した第一実施
例で説明した各種の傾斜面形成方法のいづれによっても
よい。
にアジマス角和相自する傾斜面を加工しているが、基板
１にこの傾斜面を加工してもよいし、前記した第一実施
例で説明した各種の傾斜面形成方法のいづれによっても
よい。
これにより、精密な薄膜磁気ヘッドを歩留まりよく量産
することができる。
することができる。
以上説明したように、本発明によれば、アジマス角に相
当する傾斜面をゆるやかにでき、コアをその磁気特性を
損わずに形成することができるので、裏造歩留まりがよ
く量産性のよい薄ｇＩ＆磁気ヘッドを得ることができ、
上記従来技術の問題を解消して優れた機能の薄膜磁気ヘ
ッドを提供することができる。
当する傾斜面をゆるやかにでき、コアをその磁気特性を
損わずに形成することができるので、裏造歩留まりがよ
く量産性のよい薄ｇＩ＆磁気ヘッドを得ることができ、
上記従来技術の問題を解消して優れた機能の薄膜磁気ヘ
ッドを提供することができる。
第１図は本発明忙よる薄膜磁気ヘッドの一実施例を示す
斜視図、第２図は本発明による薄膜磁気ヘッドのチップ
をウェハ上に多数展開した第−例の斜視図、第３図は本
発明による薄膜磁気ヘッドのチップを逆アジマス角の薄
膜磁気ヘッドと共にウェハ上に多数展開した第二例の斜
視図、第４図は本発明による薄膜磁気ヘッドのチップを
ウェハ上に多数展開した第三例の斜視図、第５図は本発
明による薄膜磁気ヘッドのチップをウェハ上に多数展開
した第四例の斜視図、第６図は本発明による薄膜迅気ヘ
ッドのチップをウニ・・上に多数展開した第五例の斜視
図、第７図は本発明による薄膜磁気ヘッドの他の実施例
をウェハ上に多数展開して示す斜視図である。 １．１１・・・非磁性の基板 ２．２１．２２・・・下部コア ３．５２・・・上部コア ４・・・コイル ５・・・ギャップ材 第 １ 図 寡２図 第４図 ′ｌ 第 ５ 図 躬 ６ 図 第 ７ 図
斜視図、第２図は本発明による薄膜磁気ヘッドのチップ
をウェハ上に多数展開した第−例の斜視図、第３図は本
発明による薄膜磁気ヘッドのチップを逆アジマス角の薄
膜磁気ヘッドと共にウェハ上に多数展開した第二例の斜
視図、第４図は本発明による薄膜磁気ヘッドのチップを
ウェハ上に多数展開した第三例の斜視図、第５図は本発
明による薄膜磁気ヘッドのチップをウェハ上に多数展開
した第四例の斜視図、第６図は本発明による薄膜迅気ヘ
ッドのチップをウニ・・上に多数展開した第五例の斜視
図、第７図は本発明による薄膜磁気ヘッドの他の実施例
をウェハ上に多数展開して示す斜視図である。 １．１１・・・非磁性の基板 ２．２１．２２・・・下部コア ３．５２・・・上部コア ４・・・コイル ５・・・ギャップ材 第 １ 図 寡２図 第４図 ′ｌ 第 ５ 図 躬 ６ 図 第 ７ 図
Claims (2)
- （１）非磁性の基板上に下部コア、ギャップ材、絶縁材
、上部コア等を順次積層形成して成る薄膜磁気ヘッドに
おいて、前記下部コアの少なくとも磁気ギャップ形成部
分に前記基板に対してアジマス角に相当する傾斜面を有
することを特徴とする薄膜磁気ヘッド。 - （２）特許請求の範囲（１）項記載の薄膜磁気ヘッドに
おいて、前記下部コアの前記基板側の少なくとも磁気ギ
ャップ形成位置の面にアジマス角に相当する傾斜面を形
有することを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16980985A JPS6231015A (ja) | 1985-08-02 | 1985-08-02 | 薄膜磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16980985A JPS6231015A (ja) | 1985-08-02 | 1985-08-02 | 薄膜磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6231015A true JPS6231015A (ja) | 1987-02-10 |
Family
ID=15893297
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16980985A Pending JPS6231015A (ja) | 1985-08-02 | 1985-08-02 | 薄膜磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6231015A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03121167A (ja) * | 1989-07-31 | 1991-05-23 | Fujimori Kogyo Kk | 電子部品連形成用接着テープ |
| US7772313B2 (en) | 2002-07-30 | 2010-08-10 | Liquamelt Corp. | Pumpable heat-processable liquid dispersions for forming fused thermoplastic solids |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS555250A (en) * | 1978-06-28 | 1980-01-16 | Komatsu Ltd | Work rest device |
-
1985
- 1985-08-02 JP JP16980985A patent/JPS6231015A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS555250A (en) * | 1978-06-28 | 1980-01-16 | Komatsu Ltd | Work rest device |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03121167A (ja) * | 1989-07-31 | 1991-05-23 | Fujimori Kogyo Kk | 電子部品連形成用接着テープ |
| US7772313B2 (en) | 2002-07-30 | 2010-08-10 | Liquamelt Corp. | Pumpable heat-processable liquid dispersions for forming fused thermoplastic solids |
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