JPH0323923U - - Google Patents

Description

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案機構の一実施例を適用した化学
気相生成装置の一例の構成を示す簡略縦断面図、
第２図は搬送用フオークに基板を載置した状態を
示す説明図、第３図は本考案におけるリングの一
例を示す平面図、第４図ａ，ｂはそれぞれ本考案
におけるサセプタ周りの側面図及び平面図、第５
図は従来機構の一例を示す簡略縦断面図である。 １……反応室、２……サセプタ、３……基板（
ウエーハ）、４……（石英）ヒータカバー、５…
…ヒータ、６……リング状回転部、７……回転駆
動部、８……ガス導入管、９……排気管、１２…
…支承部、１５……排気管、１７……基板支持棒
用孔、１８……溝部、１９……基板支承棒、２０
……爪部、２１……（石英）リング、２２……（
石英）リング支持棒、２３……シール用フレキシ
ブル管、２４……昇降駆動部。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 反応室１内に反応ガスを導入しつつ排気し
   、サセプタ２上の基板３をヒータカバー４で仕切
   られたヒータ５により加熱し、かつ当該サセプタ
   ２を回転することにより基板３に薄膜を生成する
   化学気相生成装置において、サセプタ２の複数箇
   所に基板支持棒用孔１７を設け、かつこれらの孔
   １７に連通してサセプタ２の外周下部に溝部１８
   を設け、これらの溝部１８において各基板支持棒
   用孔１７に挿入した基板支持棒１９をそれぞれ爪
   部２０で支持するリング２１を付設すると共に、
   これらのリング２１に、反応室１に貫通せしめた
   リング支持棒２２を対向配置し、これらのリング
   支持棒２２と反応室１との間はシール用フレキシ
   ブル管２３で連接せしめ、各リング支持棒２２を
   昇降駆動部２４に連結してなる化学気相生成装置
   における基板昇降機構。 (2) 化学気相生成装置は反応室１にリング状回
   転部６を支承し、この回転部６にヒータカバー４
   を取付け、このヒータカバー４上には基板３を載
   置したサセプタ２を設置すると共にリング状回転
   部６に回転駆動部７を連結せしめる請求項第１項
   に記載の化学気相生成装置における基板昇降機構
   。