JPH0321844U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0321844U JPH0321844U JP8284289U JP8284289U JPH0321844U JP H0321844 U JPH0321844 U JP H0321844U JP 8284289 U JP8284289 U JP 8284289U JP 8284289 U JP8284289 U JP 8284289U JP H0321844 U JPH0321844 U JP H0321844U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- susceptor
- heater cover
- heater
- ring
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 2
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 claims 2
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 claims 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
Description
第1図は本考案装置の一実施例の構成を示す簡
略縦断面図、第2図は本考案におけるウエーハの
温度分布の説明図、第3図は従来装置の一例の構
成を示す簡略縦断面図、第4図は従来におけるウ
エーハの温度分布の説明図である。 1…反応室、2…サセプタ、3…ウエーハ、4
…ヒータカバー、5…ヒータ、6…リング状回転
部、7…回転駆動部、12…支承部。
略縦断面図、第2図は本考案におけるウエーハの
温度分布の説明図、第3図は従来装置の一例の構
成を示す簡略縦断面図、第4図は従来におけるウ
エーハの温度分布の説明図である。 1…反応室、2…サセプタ、3…ウエーハ、4
…ヒータカバー、5…ヒータ、6…リング状回転
部、7…回転駆動部、12…支承部。
Claims (1)
- 反応室1内に反応ガスを導入しつつ排気し、サ
セプタ2上のウエーハ3をヒータカバー4で仕切
られたヒータ5により加熱し、かつ当該サセプタ
2を回転することによりウエーハ3に薄膜を生成
する化学気相生成装置において、反応室1にリン
グ状回転部6を支承し、この回転部6にヒータカ
バー4を取付け、このヒータカバー4上にはウエ
ーハ3を載置したサセプタ2を設置すると共にリ
ング状回転部6に回転駆動部7を連結せしめてな
る化学気相生成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8284289U JPH0321844U (ja) | 1989-07-14 | 1989-07-14 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8284289U JPH0321844U (ja) | 1989-07-14 | 1989-07-14 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0321844U true JPH0321844U (ja) | 1991-03-05 |
Family
ID=31630008
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8284289U Pending JPH0321844U (ja) | 1989-07-14 | 1989-07-14 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0321844U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006222372A (ja) * | 2005-02-14 | 2006-08-24 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 酸化炉装置 |
-
1989
- 1989-07-14 JP JP8284289U patent/JPH0321844U/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006222372A (ja) * | 2005-02-14 | 2006-08-24 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 酸化炉装置 |
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