JPH03246965A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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Publication number
JPH03246965A
JPH03246965A JP2043953A JP4395390A JPH03246965A JP H03246965 A JPH03246965 A JP H03246965A JP 2043953 A JP2043953 A JP 2043953A JP 4395390 A JP4395390 A JP 4395390A JP H03246965 A JPH03246965 A JP H03246965A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
region
base
diode
base region
collector
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2043953A
Other languages
English (en)
Inventor
Akira Yamazaki
晃 山崎
Hideo Kawasaki
川崎 英夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electronics Corp filed Critical Matsushita Electronics Corp
Priority to JP2043953A priority Critical patent/JPH03246965A/ja
Publication of JPH03246965A publication Critical patent/JPH03246965A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Bipolar Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は半導体装置、特にコレクターベース間にタイオ
ードを有するダーリントントランジスタに関するもので
ある。
従来の技術 近年、ダーリントントランジスタのコ】・フタ−ベース
間にタイオードを形成し、L負荷時の電圧吸収用に用い
られる傾向にある。
以下従来のダーリントント・ランジスタについて説明す
る。
第5図は従来のコレクターベース間にタイオードを有す
るダーリントントランジスタの平面区、第6図は出力段
のトランジスタのm遣を示す第5図のv−v′面の断面
図、第7図は入力段のトランジスタの構造を示す第5図
のw−w’面の断面図である。また、第4図はコレクタ
ーベース間にダイオードを有するダーリントントランジ
スタの等価回路である。
半導体基板内にN型の濃度が高いコレクタ領域8を形成
し、このコレクタ領域8上にN型のコレクタ領域7を形
成し、このコレクタ領域7内に第7図に示すように、P
型の第1のベース領域4′を形成し、この第1のベース
領域4′内にN型のエミッタ領域5′を形成して入力段
トランジスタT rlを形成し、また第6図に示すよう
に、コレクタ領域7内に第1のベース領域4′とは別に
P型の第2のベース領域4を形成し、この第2のベース
領域4内にN型の第2のエミッタ領域5を形成して出力
段トランジスタT、2形成し、この入力段トランジスタ
T rlと出力段トランジスタT 12が第4図に示す
ダーリントン接続となるよう、コレクタ電極9、ベース
電極3、エミッタ電極2、および入力段トランジスタT
、1のエミッタ領域5′と出力段トランジスタT r2
のベース領域4を接続スる電極10を形成している。ま
た、コレクタ領域7内に、第1のベース領域4′および
第2のベース領域4から距MCMなしてN型の濃度の高
い高濃度領域6を形成して入力段トランジスタT、1と
出力段トランジスタT1□の各コレクターベース間に第
4図に示すように逆向きのタイオードD1とダイオード
D2を設けている。第6図、第7図において1は絶縁製
である。
前記距離Cは入力段トランジスタT rlのベース領域
4′と出力段トランジスタT、□のベース領域4と裏面
の濃度の高いコレクタ領域8との距離C゛より狭く、こ
のWMCによりダーリントントランジスタのコレクター
ベース間のダイオードの逆方向耐圧を規制する構造とな
っている。また、ダーリントントランジスタのコレクタ
ーベース間の逆方向の許容電流、すなわち、ダイオード
耐量は、コレクタ領域7より濃度の高いコレクタ領域と
同一4電型の高濃度領域6と入力段トランジスタT r
 lのベース領域4′および出力段トランジスタT r
2のベース領域4の周辺長で決定される。
発明が解決しようとする課題 しかし、従来の構成では、第6図および第7図に示すよ
うに入力段トランジスタT rlに形成されたタイオー
ドD1と出力段トランジスタT1□に形成されたタイオ
ードD2の逆方向耐圧には入力段トランジスタT、、1
のエミッターベース間の順方向耐圧(約0.7V)Lか
差がないために、逆方向に電流を流したときに入力段ト
ランジスタT r lのダイオードD1が先に動作し、
発振し、逆方向電圧が規制できないという問題があった
本発明は上記問題を解決するものであり、ダーリントン
トランジスタのコレクターベース間のダイオードの発振
を防止し、ダイオードの電圧を規制することが可能な半
導体装1を提供することを目的とするものである。
課題を解決するための手段 上記問題を解決するため本発明の半導体装1は、半導体
基板上に形成された一導電型のコレクタ領域内に逆導電
型の第1のベース領域を形成し、この第1のベース領域
内に一導電型の第1のエミッタamを形成してなる入力
段トランジスタと、前記第1のベース領域とは別に前記
コレクタ領域内に逆導電型の第2のベース領域を形成し
、この第2のベース領域内に一導電型の第2のエミッタ
領域を形成してなる出力段トランジスタとをダーリント
ン接続し、前記コレクタ領域内に、前記第1のベース領
域および第2のベース領域から所定距M離なして、−再
電型の濃度の高い高濃度領域を形成してコレクターベー
ス間にダイオードを形成した半導体装置であって、前記
入力段トランジスタの第1のベース領域から前記高濃度
領域までの距離より、前記出力段トランジスタの第2の
ベース領域から前記高濃度領域までの距離を短く形成し
たことを特徴とするものである。
作用 上記構成により、出力段トランジスタのダイオードの逆
方向耐圧は、入力段トランジスタの第1のベース領域か
ら高濃度領域までの距離より、出力段トランジスタの第
2のベース領域から高濃度領域までの距離を短くしたこ
とによって、入力段トランジスタのダイオードの逆方向
耐圧より低い値となる。したがって、ダーリントントラ
ンジス夕のコレクターベース間のタイオードに逆方向の
バイアスが印加されて、電圧降伏が生じ、電流が流れは
じめるとき、電流はダイオードの逆方向耐圧か低い出力
段トランジスタのダイオードから必ず流れはじめ、これ
により逆方向にバイアスをかけて電流を流したとき発振
せずに、タイオードの電圧を規制することができる。ま
た、電流値が増加すると入力段トランジスタのダイオー
ドが動作し、ダイオード耐量を減少させることもない。
実施例 以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。な
お、従来例の第5図〜第7図の構造と同一の構造には同
一の符号を付して説明を省略する。
第1図は本発明の一実施例を示す半導体装置の平面図、
第2図は出力段トランジスタの構造を示す第1図x−x
’面の断面図、第3図は入力段トランジスタの構造を示
す第1図Y−Y′面の断面図である。
本発明の半導体装置は、入力段トランジスタの第1のベ
ース領域4′からN型の濃度の高い高濃度領域6′まで
の距離Bより、出力段トランジスタの第2のベース領域
4から高濃度領域6′までの距i1Aを短くしている。
したがって出力段トランジスタTr2のダイオードD2
の逆方向耐汗は入力後トランジスタTrlのダイオード
D1の逆方向耐圧より低い値となっている。
上記構成により、ダーリントントランジスタのコレクタ
ーベース間のダイオードに逆方向にバイアスを印加し、
電流を流したとき、まず逆方向耐圧の低いダイオードD
2から必ず電流が流れるために、ダーリントントランジ
スタのコレクターベース間のダイオードの発振を防止す
ることができ、ダイオードの電圧を規制することができ
る。また電流値が増加すると入力段トランジスタT r
 lのダイオードD1が動作し、ダイオード耐量を減少
させることもない。
発明の効果 以上のように本発明によれば、出力段トランジスタのダ
イオードの逆方向耐圧を入力段トランジスタのダイオー
ドの逆方向耐圧より低い鎖とすることによってダーリン
トントランジスタのコレクターベース間のダイオードの
発振を防止することができ、ダイオードの電圧と規制す
ることが可能となり、L負荷時のトランジスタの保護ダ
イオードとして、最適となり、その効果は絶大である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す半導体装置の平面図、
第2図は第1図のx−x′面の断面図、第3図は第1図
のY−Y′面の断面図、第4図はダーリントントランジ
スタの等価回路図、第5図は従来の半導体装Wの平面図
、第6図は第5図のv−Y′面の断面図、第7図は第5
図のw−w′面の断面図である。 1・・・絶縁膜、2・・・エミッタ領域、3・・・ベー
ス電極、4.4′・・・ベース領域、5.5′・エミッ
タ領域、6.6′・・・高濃度領域(コレクタ領域と同
一導電型で濃度の高い領域)、7・・・コレクタ領域、
8・・・濃度の高いコレクタ領域、9・・・コレクタ電
極、10・・・を極。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、半導体基板上に形成された一導電型のコレクタ領域
    内に逆導電型の第1のベース領域を形成し、この第1の
    ベース領域内に一導電型の第1のエミッタ領域を形成し
    てなる入力段トランジスタと、前記第1のベース領域と
    は別に前記コレクタ領域内に逆導電型の第2のベース領
    域を形成し、この第2のベース領域内に一導電型の第2
    のエミッタ領域を形成してなる出力段トランジスタとを
    ダーリントン接続し、前記コレクタ領域内に、前記第1
    のベース領域および第2のベース領域から所定距離離な
    して、一導電型の濃度の高い高濃度領域を形成してコレ
    クターベース間にダイオードを形成した半導体装置であ
    って、 前記入力段トランジスタの第1のベース領域から前記高
    濃度領域までの距離より、前記出力段トランジスタの第
    2のベース領域から前記高濃度領域までの距離を短く形
    成したことを特徴とする半導体装置。
JP2043953A 1990-02-23 1990-02-23 半導体装置 Pending JPH03246965A (ja)

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JP2043953A JPH03246965A (ja) 1990-02-23 1990-02-23 半導体装置

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JP2043953A JPH03246965A (ja) 1990-02-23 1990-02-23 半導体装置

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JPH03246965A true JPH03246965A (ja) 1991-11-05

Family

ID=12678068

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JP2043953A Pending JPH03246965A (ja) 1990-02-23 1990-02-23 半導体装置

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62106663A (ja) * 1985-11-02 1987-05-18 Matsushita Electronics Corp 半導体装置
JPS6315067B2 (ja) * 1979-12-10 1988-04-02 Mitsubishi Electric Corp

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6315067B2 (ja) * 1979-12-10 1988-04-02 Mitsubishi Electric Corp
JPS62106663A (ja) * 1985-11-02 1987-05-18 Matsushita Electronics Corp 半導体装置

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