JPH03247586A - 酸化物単結晶の育成装置 - Google Patents
酸化物単結晶の育成装置Info
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- JPH03247586A JPH03247586A JP4352490A JP4352490A JPH03247586A JP H03247586 A JPH03247586 A JP H03247586A JP 4352490 A JP4352490 A JP 4352490A JP 4352490 A JP4352490 A JP 4352490A JP H03247586 A JPH03247586 A JP H03247586A
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- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明はチョクラルスキー法により育成することが困難
であるBaTfOa単結晶及びKT a O,単結晶等
の単結晶を育成する技術として開発された溶液引き上げ
法(Top 5eededSolutlon Grow
th法;TSSG法)を改良した酸化物単結晶の育成装
置に関する。
であるBaTfOa単結晶及びKT a O,単結晶等
の単結晶を育成する技術として開発された溶液引き上げ
法(Top 5eededSolutlon Grow
th法;TSSG法)を改良した酸化物単結晶の育成装
置に関する。
[従来の技術]
大型で良質な単結晶を育成する方法としてチョクラルス
キー法が知られている。このチョクラルスキー法はるつ
ぼの中に装入された融液に種結晶を接触させ、この種結
晶を回転させながら上方に引き上げることにより、種結
晶の下方に単結晶を育成する方法である。
キー法が知られている。このチョクラルスキー法はるつ
ぼの中に装入された融液に種結晶を接触させ、この種結
晶を回転させながら上方に引き上げることにより、種結
晶の下方に単結晶を育成する方法である。
このチョクラルスキー法においては、融液組成が育成す
べき結晶の組成と同一であることが必要である。このた
め、結晶組成と同一の組成の融液からでは所望の結晶構
造を得ることができないBaTiO3単結晶等の育成の
場合、及び結晶組成と同一の組成の融液を形成するため
には極めて高温に加熱する必要があり、このためるつぼ
等を使用することがで′きないSrTiO3単結晶等の
育成の場合には適用することができないという欠点があ
る。
べき結晶の組成と同一であることが必要である。このた
め、結晶組成と同一の組成の融液からでは所望の結晶構
造を得ることができないBaTiO3単結晶等の育成の
場合、及び結晶組成と同一の組成の融液を形成するため
には極めて高温に加熱する必要があり、このためるつぼ
等を使用することがで′きないSrTiO3単結晶等の
育成の場合には適用することができないという欠点があ
る。
溶液引き上げ法は、上述のチョクラルスキー法の欠点−
を解消した単結晶の育成方法として開発されたものであ
る(V、Be1russ、 J、Kalnajs an
dムル1nz、 TOP−5EEDED 5OLUTI
ON GROWTHOF 0XIDECRYSTALS
FROM NON−STOICHIOMETRI
CMELTS、Mat。
を解消した単結晶の育成方法として開発されたものであ
る(V、Be1russ、 J、Kalnajs an
dムル1nz、 TOP−5EEDED 5OLUTI
ON GROWTHOF 0XIDECRYSTALS
FROM NON−STOICHIOMETRI
CMELTS、Mat。
Red、 Bull、 第6巻 1971年発行 第
899−908頁)。
899−908頁)。
第4図は、この溶液引き上げ法による単結晶の育成装置
を示す模式的断面図である。
を示す模式的断面図である。
加熱炉8にはその上面中央から下面に鉛直に貫通した加
熱空間が設けられており、この加熱空間の周囲にはヒー
タ2が加熱炉8に埋め込まれて配設されている。また、
加熱炉8にはその上面の周縁部から前記加熱空間の上下
方向略中夫に到達する観察用窓6が設けられており、こ
の窓6を介して単結晶育成状況を観察できるようになっ
ている。
熱空間が設けられており、この加熱空間の周囲にはヒー
タ2が加熱炉8に埋め込まれて配設されている。また、
加熱炉8にはその上面の周縁部から前記加熱空間の上下
方向略中夫に到達する観察用窓6が設けられており、こ
の窓6を介して単結晶育成状況を観察できるようになっ
ている。
加熱炉8の加熱空間には、石英ガラス等からなるマツフ
ル9が配置されている。このマツフル9は有底筒状の容
器であり、上端は石英ガラス等からなる蓋10により閉
塞されている。そして、このマツフル9はステージ12
上に載置され、マツフル10内にはテーブル11が載置
され、このテーブル11上に原料融液5が貯留されるる
つぼ1が載置される。また、蓋10の中央には種棒3が
挿通する孔が設けられており、種棒3の下半部はこの蓋
10に設けられた孔を介してマツフル9内のるつぼ1の
直上域に位置される。
ル9が配置されている。このマツフル9は有底筒状の容
器であり、上端は石英ガラス等からなる蓋10により閉
塞されている。そして、このマツフル9はステージ12
上に載置され、マツフル10内にはテーブル11が載置
され、このテーブル11上に原料融液5が貯留されるる
つぼ1が載置される。また、蓋10の中央には種棒3が
挿通する孔が設けられており、種棒3の下半部はこの蓋
10に設けられた孔を介してマツフル9内のるつぼ1の
直上域に位置される。
種棒3は内管及び外管からなる2重管であり、その上端
部は上昇・下降ヘッド7に固定されている。この種棒3
の内管の上端は外部からガスを導入可能にヘッド7の上
面に開口している。また、この種棒3の外管の上部には
、ガス抜き用の孔が形成されている。そして、この種棒
3は駆動装置(図示せず)により上昇会下降ヘッド7が
移動すると、それに伴って上昇又は下降移動するように
なっている。また、種棒3の下端部には種結晶取り付は
部が設けられており、この取り付は部に種結晶4を白金
線等により縛って取り付けるようになっている。
部は上昇・下降ヘッド7に固定されている。この種棒3
の内管の上端は外部からガスを導入可能にヘッド7の上
面に開口している。また、この種棒3の外管の上部には
、ガス抜き用の孔が形成されている。そして、この種棒
3は駆動装置(図示せず)により上昇会下降ヘッド7が
移動すると、それに伴って上昇又は下降移動するように
なっている。また、種棒3の下端部には種結晶取り付は
部が設けられており、この取り付は部に種結晶4を白金
線等により縛って取り付けるようになっている。
次に、この従来の単結晶育成装置の動作について説明す
る。
る。
先ず、るつぼ1内に所定の組成の原料粉を装入し、るつ
ぼ1をマツフル9内のテーブル11上に設置する。そし
て、この原料粉をヒータ2により加熱して溶融させるこ
とにより、原料融液5を得る。
ぼ1をマツフル9内のテーブル11上に設置する。そし
て、この原料粉をヒータ2により加熱して溶融させるこ
とにより、原料融液5を得る。
次に、その下端部に種結晶4が取付けられた種棒3を下
降させて、種結晶4を融液5に接触させる。
降させて、種結晶4を融液5に接触させる。
次いで、ヒータ2の通電電流を低下させて融液5の温度
を0.1乃至lO℃/時で下降させ、種結晶4の下部に
平衡的に結晶を成長させると共に、結晶が所望の結晶径
となるように種棒3を所定の速度で上昇させる。これに
より、種結晶4の下部に単結晶が育成される。
を0.1乃至lO℃/時で下降させ、種結晶4の下部に
平衡的に結晶を成長させると共に、結晶が所望の結晶径
となるように種棒3を所定の速度で上昇させる。これに
より、種結晶4の下部に単結晶が育成される。
上述した方法においては、融液の凝固を平衡的に促進さ
せて良質の単結晶を得るたぬには、融液の温度勾配を必
要最小限に維持することが重要である。また、この温度
勾配は、種結晶4以外の場所に結晶の核が発生しないよ
うに、種結晶4と接触した部分の固液界面の温度が最も
低くなるような極めて緩やかなものであることが必要で
ある。
せて良質の単結晶を得るたぬには、融液の温度勾配を必
要最小限に維持することが重要である。また、この温度
勾配は、種結晶4以外の場所に結晶の核が発生しないよ
うに、種結晶4と接触した部分の固液界面の温度が最も
低くなるような極めて緩やかなものであることが必要で
ある。
このため、種棒3には、白金又は白金−ロジウム合金等
の金属からなる二重構造管が使用されている。つまり、
種棒3は、有底筒状の外管の内部に筒状の内管を配置し
、内管と外管との間に気体流路を設けて、この気体流路
と内管の内側の気体流路とが種棒3の下端部において連
通した構造になっている。そして、内管の上端部から冷
却用気体を内管内に供給し、外管と内管との間の気体流
路を介して前記ガス抜き用の孔から排出することにより
、種棒3の先端に取り付けられた種結晶4を冷却する。
の金属からなる二重構造管が使用されている。つまり、
種棒3は、有底筒状の外管の内部に筒状の内管を配置し
、内管と外管との間に気体流路を設けて、この気体流路
と内管の内側の気体流路とが種棒3の下端部において連
通した構造になっている。そして、内管の上端部から冷
却用気体を内管内に供給し、外管と内管との間の気体流
路を介して前記ガス抜き用の孔から排出することにより
、種棒3の先端に取り付けられた種結晶4を冷却する。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、上述した従来の単結晶育成装置において
は、融液5の表面からの熱放射及び融液表面より上方で
の気体の対流により、融液表面の温度が過剰に低下しや
すい。融液表面の温度が過剰に低下すると、融液5の液
面に浮遊する結晶核が発生したり、又は結晶が種結晶4
から融液5の液面に沿って成長したりするため、結晶を
所望の形状に育成することができないという問題点かあ
る。
は、融液5の表面からの熱放射及び融液表面より上方で
の気体の対流により、融液表面の温度が過剰に低下しや
すい。融液表面の温度が過剰に低下すると、融液5の液
面に浮遊する結晶核が発生したり、又は結晶が種結晶4
から融液5の液面に沿って成長したりするため、結晶を
所望の形状に育成することができないという問題点かあ
る。
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、
種結晶以外の場所からの結晶の成長を抑制することがで
き、所望の形状の酸化物単結晶を安定して育成すること
ができる酸化物単結晶の育成装置を提供することを目的
とする。
種結晶以外の場所からの結晶の成長を抑制することがで
き、所望の形状の酸化物単結晶を安定して育成すること
ができる酸化物単結晶の育成装置を提供することを目的
とする。
[課題を解決するための手段]
本発明に係る酸化物単結晶の育成装置は、種結晶を原料
融液に接触させた後にこの原料融液から単結晶を引き上
げる酸化物単結晶の育成装置において、前記原料融液上
に設けられた熱遮蔽板を有し、この熱遮蔽板の下面から
前記原料融液の液面までの間の距離は30乃至150
m1llであることを特徴とする。
融液に接触させた後にこの原料融液から単結晶を引き上
げる酸化物単結晶の育成装置において、前記原料融液上
に設けられた熱遮蔽板を有し、この熱遮蔽板の下面から
前記原料融液の液面までの間の距離は30乃至150
m1llであることを特徴とする。
[作用コ
本願発明者等は、酸化物単結晶を所望の形状に育成すべ
く、種々実験研究を行った。その結果、融液の上方に熱
遮蔽板を設けることにより、融液からの熱放射及び気体
の対流による過剰の冷却が抑制され、融液の温度分布が
酸化物単結晶の育成に適したものになることが判明した
。本発明はこのような実験結果に基づいてなされたもの
である。
く、種々実験研究を行った。その結果、融液の上方に熱
遮蔽板を設けることにより、融液からの熱放射及び気体
の対流による過剰の冷却が抑制され、融液の温度分布が
酸化物単結晶の育成に適したものになることが判明した
。本発明はこのような実験結果に基づいてなされたもの
である。
本発明においては、原料融液の上方に熱遮蔽板が設けら
れている。この熱遮蔽板により、融液表面からの熱放射
及び気体の対流による融液の過剰な冷却が抑制され、融
液液面の周縁部の温度降下が防止されて融液の温度分布
が酸化物単結晶の育成に適したものになる。これにより
、融液液面に浮遊する結晶核の発生及び融液液面に沿う
結晶の成長が抑制され、酸化物単結晶を所望の形状に育
成することが可能になる。
れている。この熱遮蔽板により、融液表面からの熱放射
及び気体の対流による融液の過剰な冷却が抑制され、融
液液面の周縁部の温度降下が防止されて融液の温度分布
が酸化物単結晶の育成に適したものになる。これにより
、融液液面に浮遊する結晶核の発生及び融液液面に沿う
結晶の成長が抑制され、酸化物単結晶を所望の形状に育
成することが可能になる。
この場合に、熱遮蔽板はその下面が融液の液面から30
乃至150 mm上方に位置するようにする。熱遮蔽板
下面と融液液面との間の間隔が30mm未満の場合は、
結晶育成状態を観察するために、熱遮蔽板に大きな観察
穴を設ける必要がある。しかし、熱遮蔽板に穴を設ける
と、融液表面からの熱放射及び気体の対流を抑制するこ
とができなくなり、融液を所定の温度分布にすることが
できない。このため、酸化物単結晶を所望の形状に育成
することができなくなる。熱遮蔽板に穴を設けることな
く結晶の育成状態を観察するためには、熱遮蔽板として
透明な石英ガラス板を使用することが考えられる。しか
し、この場合は、融液からの揮発物質又はるつぼ材料の
蒸着により石英ガラス板に曇りが発生し、短時間で結晶
育成状態を観察することができなくなる。このため、熱
遮蔽板は融液の液面から30a+a以上離す必要がある
。
乃至150 mm上方に位置するようにする。熱遮蔽板
下面と融液液面との間の間隔が30mm未満の場合は、
結晶育成状態を観察するために、熱遮蔽板に大きな観察
穴を設ける必要がある。しかし、熱遮蔽板に穴を設ける
と、融液表面からの熱放射及び気体の対流を抑制するこ
とができなくなり、融液を所定の温度分布にすることが
できない。このため、酸化物単結晶を所望の形状に育成
することができなくなる。熱遮蔽板に穴を設けることな
く結晶の育成状態を観察するためには、熱遮蔽板として
透明な石英ガラス板を使用することが考えられる。しか
し、この場合は、融液からの揮発物質又はるつぼ材料の
蒸着により石英ガラス板に曇りが発生し、短時間で結晶
育成状態を観察することができなくなる。このため、熱
遮蔽板は融液の液面から30a+a以上離す必要がある
。
一方、熱遮蔽板下面と融液液面との間の間隔が150m
mを超える場合は、熱遮蔽板を設ける効果が少なく、融
液を所定の温度分布にすることができないため、酸化物
単結晶を所望の形状に育成することができない。従って
、熱遮蔽板は、その下面が融液の液面から30乃至15
0 mm上方に位置していることが必要である。
mを超える場合は、熱遮蔽板を設ける効果が少なく、融
液を所定の温度分布にすることができないため、酸化物
単結晶を所望の形状に育成することができない。従って
、熱遮蔽板は、その下面が融液の液面から30乃至15
0 mm上方に位置していることが必要である。
なお、熱遮蔽板の材質は耐熱性及び強度等か満足できる
ものであればよく、熱反射効率及び熱伝導度等からの制
約は実質的に受けない。このような熱遮蔽板としては、
白金、白金−ロジウム合金及びイリジウム等の金属並び
にアルミナ及びジルフェア等のセラミックス等を使用す
ることができる。しかし、セラミックスの場合は、単結
晶育成中にセラミックス粉が脱落したり、粉塵が発生し
て融液を汚染する虞れがあるので、熱遮蔽板の材質とし
ては、白金又は白金−ロジウム合金が好ましい。
ものであればよく、熱反射効率及び熱伝導度等からの制
約は実質的に受けない。このような熱遮蔽板としては、
白金、白金−ロジウム合金及びイリジウム等の金属並び
にアルミナ及びジルフェア等のセラミックス等を使用す
ることができる。しかし、セラミックスの場合は、単結
晶育成中にセラミックス粉が脱落したり、粉塵が発生し
て融液を汚染する虞れがあるので、熱遮蔽板の材質とし
ては、白金又は白金−ロジウム合金が好ましい。
[実施例コ
次に、本発明の実施例について添付の図面を参照して説
明する。
明する。
第1図は本発明の実施例に係る酸化物単結晶の育成装置
を示す模式的断面図である。
を示す模式的断面図である。
本実施例が従来と異なる点は、るっぽ1の上方に熱遮蔽
板13を設けたことにあり、その他の構造は基本的には
従来と同様であるので、第1図において第4図と同一物
には同一符号を付してその詳しい説明は省略する。
板13を設けたことにあり、その他の構造は基本的には
従来と同様であるので、第1図において第4図と同一物
には同一符号を付してその詳しい説明は省略する。
本実施例においては、るっぽ1の上方に厚さが1mmの
白金からなる円板状の熱遮蔽板13が配置されている。
白金からなる円板状の熱遮蔽板13が配置されている。
この熱遮蔽板13は中央部に種棒3が嵌合する穴が設け
られており、蓋1oから白金製の吊り線14により吊り
下げられている。この場合に、融液5の液面から遮蔽板
13の下面までの距離は30乃至150mmである。
られており、蓋1oから白金製の吊り線14により吊り
下げられている。この場合に、融液5の液面から遮蔽板
13の下面までの距離は30乃至150mmである。
第2図は本実施例におけるるつぼ1内の融液5の温度分
布を示す温度分布図、第3図は熱遮蔽板が設けられてい
ない従来の酸化物単結晶育成装置におけるるつぼ内の融
液の温度分布を示す温度分布図である。なお、この第2
図及び第3図において、等混線の間隔はlOoCである
。
布を示す温度分布図、第3図は熱遮蔽板が設けられてい
ない従来の酸化物単結晶育成装置におけるるつぼ内の融
液の温度分布を示す温度分布図である。なお、この第2
図及び第3図において、等混線の間隔はlOoCである
。
本実施例に係る酸化物単結晶育成装置の場合は、第2図
から明らかなように、種結晶に接触している部分の融液
の温度がこの接触部の周辺部の温度よりも低い。換言す
れば、融液表面の種結晶接触部の周辺部は十分に高い温
度を有している。このため、種結晶以外の場所に結晶核
が発生することが防止され、所望のバルク状の結晶を得
ることができる。一方、従来の酸化物単結晶育成装置の
場合は、融液表面近傍の温度が低いと共に、第3図から
明らかなように、水平方向の温度勾配が小さい。このた
め、結晶育成中に種結晶以外の場所での結晶核の発生を
回避することができす、また種結晶に晶出する結晶も融
液表面に沿って成長する。
から明らかなように、種結晶に接触している部分の融液
の温度がこの接触部の周辺部の温度よりも低い。換言す
れば、融液表面の種結晶接触部の周辺部は十分に高い温
度を有している。このため、種結晶以外の場所に結晶核
が発生することが防止され、所望のバルク状の結晶を得
ることができる。一方、従来の酸化物単結晶育成装置の
場合は、融液表面近傍の温度が低いと共に、第3図から
明らかなように、水平方向の温度勾配が小さい。このた
め、結晶育成中に種結晶以外の場所での結晶核の発生を
回避することができす、また種結晶に晶出する結晶も融
液表面に沿って成長する。
従って、従来の酸化物単結晶の育成装置では、結晶が偏
平な形状になりやすい。
平な形状になりやすい。
次に、上述した実施例装置を使用して実際にチタン酸バ
リウム(B aT i 03 )の単結晶を育成した結
果について説明する。
リウム(B aT i 03 )の単結晶を育成した結
果について説明する。
先ず、るつぼ1内にBaO及びT i O2を35:6
5のモル比で混合した原料を入れ、ヒータ2によりこの
原料を加熱溶融して原料融液5とした。そして、この融
液5をヒータ2により加熱して、1000°Cの温度に
維持した。一方、種棒3の先端の種結晶取り付は部に白
金線によりBaTiO3の種結晶4を固定した。この種
結晶4は縦が3mm1横が3mm、長さカ月Ommであ
り、長手方向が(100)面になるように切り出したも
のである。なお、熱遮蔽板13は厚さが1mmの白金か
らなる円板状のものであり、白金吊り線14によりその
下面が融液5の液面から80mm上方になるように配置
した。
5のモル比で混合した原料を入れ、ヒータ2によりこの
原料を加熱溶融して原料融液5とした。そして、この融
液5をヒータ2により加熱して、1000°Cの温度に
維持した。一方、種棒3の先端の種結晶取り付は部に白
金線によりBaTiO3の種結晶4を固定した。この種
結晶4は縦が3mm1横が3mm、長さカ月Ommであ
り、長手方向が(100)面になるように切り出したも
のである。なお、熱遮蔽板13は厚さが1mmの白金か
らなる円板状のものであり、白金吊り線14によりその
下面が融液5の液面から80mm上方になるように配置
した。
次に、種棒3を下降させて、種結晶4を融液5に接触さ
せた。そして、融液5の温度を5°C/時で下降させ、
種結晶4に結晶が晶出してくるのを確認した後、融液5
の温度降下速度を0.5℃/時に変更し、種棒3を0.
3mm /時の速度で上昇させた。
せた。そして、融液5の温度を5°C/時で下降させ、
種結晶4に結晶が晶出してくるのを確認した後、融液5
の温度降下速度を0.5℃/時に変更し、種棒3を0.
3mm /時の速度で上昇させた。
このようにして約50時間結晶を育成した後、この結晶
を50℃/時の温度降下速度で冷却した。その結果、直
径が15mm、長さが15mmのBaTiO3単結晶を
得た。この単結晶は所望のバルク状結晶であった。また
、この結晶育成中は、良好な結晶育成を妨げるような現
象、即ち種結晶以外の場所から同時に核が発生する現象
は皆無であった。
を50℃/時の温度降下速度で冷却した。その結果、直
径が15mm、長さが15mmのBaTiO3単結晶を
得た。この単結晶は所望のバルク状結晶であった。また
、この結晶育成中は、良好な結晶育成を妨げるような現
象、即ち種結晶以外の場所から同時に核が発生する現象
は皆無であった。
一方、比較のために、熱遮蔽板を設けず、その他の構成
は本実施例と同様の装置によりBaTiO3単結晶を育
成した。その結果、結晶は融液の液面に沿って成長して
偏平な傘状になり、所望のバルク状結晶を得ることがで
きなかった。
は本実施例と同様の装置によりBaTiO3単結晶を育
成した。その結果、結晶は融液の液面に沿って成長して
偏平な傘状になり、所望のバルク状結晶を得ることがで
きなかった。
しかも、単結晶育成中に種結晶以外のところから結晶核
が発生したため、数回作業を中断した。この場合は、結
晶核を除去するために育成中の結晶を引き上げた後、融
液の温度を上昇させることにより結晶核を消失させた。
が発生したため、数回作業を中断した。この場合は、結
晶核を除去するために育成中の結晶を引き上げた後、融
液の温度を上昇させることにより結晶核を消失させた。
そして、再び所定の温度にまで融液の温度を下げて作業
を続行した。
を続行した。
また、比較のために、熱遮蔽板を融液の液面から20m
m上方の位置に配置し、その他の構成は本実施例と同様
の装置により酸化物単結晶の育成を試みた。その結果、
結晶育成状態を観察することができないため、結晶の育
成を行うことができなかった。
m上方の位置に配置し、その他の構成は本実施例と同様
の装置により酸化物単結晶の育成を試みた。その結果、
結晶育成状態を観察することができないため、結晶の育
成を行うことができなかった。
なお、上述した実施例においては、熱遮蔽板の材質が白
金の場合について説明したが、耐熱性及び強度が満足で
きるものであれば、白金−ロジウム合金及びイリジウム
等の金属又はアルミナ及びジルコニウム等のセラミック
ス等を使用してもよい。また、熱遮蔽板の温度が100
0°C以上になり、白金では軟化してしまうために使用
できない場合には、石英ガラスに白金の薄い箔を被着し
たものを熱遮蔽板として使用してもよい。この熱遮蔽板
は、白金のみからなる熱遮蔽板に比して耐熱強度が高く
、高価な白金の使用量が少ない。
金の場合について説明したが、耐熱性及び強度が満足で
きるものであれば、白金−ロジウム合金及びイリジウム
等の金属又はアルミナ及びジルコニウム等のセラミック
ス等を使用してもよい。また、熱遮蔽板の温度が100
0°C以上になり、白金では軟化してしまうために使用
できない場合には、石英ガラスに白金の薄い箔を被着し
たものを熱遮蔽板として使用してもよい。この熱遮蔽板
は、白金のみからなる熱遮蔽板に比して耐熱強度が高く
、高価な白金の使用量が少ない。
また、上述の実施例においては、熱遮蔽板を白金吊り線
で吊り下げて融液上に配置したが、マツフルに段差を設
けて、この段差により熱遮蔽板を係止してもよい。
で吊り下げて融液上に配置したが、マツフルに段差を設
けて、この段差により熱遮蔽板を係止してもよい。
[発明の効果コ
以上説明したように本発明によれば、原料融液上の所定
位置に熱遮蔽板が配置されているから、原料融液が過剰
に冷却されることが回避され、融液の温度分布が酸化物
単結晶の育成に好適な状態になる。このため、原料融液
の表面に浮遊する結晶核の発生及び融液液面に沿う結晶
の成長が抑制されて、バルク杖の酸化物単結晶を安定し
て育成することができる。
位置に熱遮蔽板が配置されているから、原料融液が過剰
に冷却されることが回避され、融液の温度分布が酸化物
単結晶の育成に好適な状態になる。このため、原料融液
の表面に浮遊する結晶核の発生及び融液液面に沿う結晶
の成長が抑制されて、バルク杖の酸化物単結晶を安定し
て育成することができる。
第1図は本発明の実施例に係る単結晶の育成装置を示す
模式的断面図、第2図は同じくそのるつぼ内の融液の温
度分布を示す温度分布図、第3図は従来の酸化物単結晶
育成装置におけるるつぼ内の融液の温度分布を示す温度
分布図、第4図は従来の酸化物単結晶の育成装置を示す
模式的断面図である。 1:るつぼ、2;ヒータ、3;種棒、4;種結晶、5;
融液、6;観察窓、7;上昇・下降ヘッド、8;加熱炉
、9;マツフル、10;蓋、11;テーブル、12;ス
テージ、13;熱遮蔽板、14;吊り線
模式的断面図、第2図は同じくそのるつぼ内の融液の温
度分布を示す温度分布図、第3図は従来の酸化物単結晶
育成装置におけるるつぼ内の融液の温度分布を示す温度
分布図、第4図は従来の酸化物単結晶の育成装置を示す
模式的断面図である。 1:るつぼ、2;ヒータ、3;種棒、4;種結晶、5;
融液、6;観察窓、7;上昇・下降ヘッド、8;加熱炉
、9;マツフル、10;蓋、11;テーブル、12;ス
テージ、13;熱遮蔽板、14;吊り線
Claims (2)
- (1)種結晶を原料融液に接触させた後にこの原料融液
から単結晶を引き上げる酸化物単結晶の育成装置におい
て、前記原料融液上に設けられた熱遮蔽板を有し、この
熱遮蔽板の下面から前記原料融液の液面までの間の距離
は30乃至150mmであることを特徴とする酸化物単
結晶の育成装置。 - (2)前記熱遮蔽板は白金又は白金−ロジウム合金から
なることを特徴とする請求項1に記載の酸化物単結晶の
育成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4352490A JPH03247586A (ja) | 1990-02-23 | 1990-02-23 | 酸化物単結晶の育成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4352490A JPH03247586A (ja) | 1990-02-23 | 1990-02-23 | 酸化物単結晶の育成装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03247586A true JPH03247586A (ja) | 1991-11-05 |
Family
ID=12666136
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4352490A Pending JPH03247586A (ja) | 1990-02-23 | 1990-02-23 | 酸化物単結晶の育成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03247586A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016538226A (ja) * | 2013-12-03 | 2016-12-08 | エルジー・シルトロン・インコーポレーテッド | 単結晶成長装置 |
-
1990
- 1990-02-23 JP JP4352490A patent/JPH03247586A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016538226A (ja) * | 2013-12-03 | 2016-12-08 | エルジー・シルトロン・インコーポレーテッド | 単結晶成長装置 |
| US10066315B2 (en) | 2013-12-03 | 2018-09-04 | Sk Siltron Co., Ltd. | Single crystal growing apparatus |
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