JPH0325436B2 - - Google Patents
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- JPH0325436B2 JPH0325436B2 JP10871482A JP10871482A JPH0325436B2 JP H0325436 B2 JPH0325436 B2 JP H0325436B2 JP 10871482 A JP10871482 A JP 10871482A JP 10871482 A JP10871482 A JP 10871482A JP H0325436 B2 JPH0325436 B2 JP H0325436B2
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- Japan
- Prior art keywords
- butyl
- phosphonate
- general formula
- formula
- methylphenoxycarbonylethyl
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- Anti-Oxidant Or Stabilizer Compositions (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、一般式（）
（式中、R1およびR2は水素原子または低級ア
ルキル基を、R3は低級アルキル基またはフエニ
ル基を示す。） で示されるリン含有化合物およびその製造法に関
する。 ポリオレフイン、ABS樹脂、ポリスチレン、
ハイインパクトポリスチレン、アクリロニトリル
−スチレン共重合物、ポリアミド、ポリアセター
ルおよびエチレン−プロピレン共重合物などの合
成樹脂、天然ゴムおよびブタジエンゴム、イソプ
レンゴム、イソプレン−イソブチレン共重合ゴ
ム、スチレン−ブタジエン共重合ゴム、アクリロ
ニトリル−ブタジエン共重合ゴム、エチレン−プ
ロピレン共重合ゴムなどの合成ゴム、潤滑油、燃
料油などの石油製品、油脂およびグリースなどの
各種の有機物質は、熱、光および酸素により劣化
を受けやすく、かかる劣化を抑制するために、従
来より各種の酸化防止剤、たとえば、 ２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフエノ
ール、 ｎ−オクタデシル ３−（３，５−ジ−ｔ−
ブチル−４−ヒドロキシフエニル）プロピオネ
ート、 ペンタエリスリチル テトラキス〔３−（３，
５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフエニ
ル）プロピオネート〕 などのフエノール系酸化防止剤、 ジラウリル ３，3′−チオジプロピオネー
ト、 ペンタエリスリチル テトラキス（３−ラウ
リルチオプロピオネート） などのイオウ系酸化防止剤、および トリス（ノニルフエニル）ホスフアイト、 ３，９−ビス（オクタデシロキシ）−２，４，
８，10−テトラオキサ−３，９−ジホスフアス
ピロ〔５・５〕ウンデカン などのリン含有化合物を配合することもよく知ら
れている。しかしながら、これらは何れも高温度
で長時間有機物質中に保持された場合、効果の持
続性に乏しいという欠点があつた。 このような事情に鑑み本発明者らは、これらの
欠点の改良されたすぐれた劣化防止性能を有する
化合物を開発すべく鋭意研究の結果、前記一般式
（）で示されるリン含有化合物の開発に成功し、
該化合物が劣化防止剤として非常に有用であるこ
とを見出し、本発明に至つた。 前記一般式（）で示されるリン含有化合物は
本発明者らによつて初めて合成された新規化合物
であり、該化合物は、一般式（） （式中、R1およびR2は前記と同じ意味を有す
る。） で示されるフエニル アクリレート類と一般式
（） （式中、R3は前記と同じ意味を有する。） で示される二置換ホスフアイトとを反応させるこ
とによつて製造することができる。 ここで、置換基R1，R2およびR3における低級
アルキル基としては、メチル、エチル、ｎ−プロ
ピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｔ−ブチルな
どが挙げられる。 本発明の一般式（）で示されるリン含有化合
物を製造するにあたり反応原料として使用される
一般式（）で示されるフエニル アクリレート
類は、新規化合物であつて、たとえば、２−ｔ−
ブチル−４−メチルフエノール、２−ｔ−ブチル
−６−メチルフエノール、２−ｔ−ブチル−５−
メチルフエノール、２−ｔ−ブチル−４，６−ジ
メチルフエノールなどのフエノール類と塩化アク
リロイルを、トルエンなどの不活性溶媒中で、ト
リエチルアミン、ピリジンなどの脱塩化水素剤存
在下に反応させることによつて製造することがで
きる。また、他の原料である一般式（）で示さ
れる二置換ホスフアイトは公知化合物であり、具
体的にはジメチルホスフアイト、ジエチルフオス
フアイト、ジ−ｎ−プロピルホスフアイト、ジイ
ソプロピルホスフアイト、ジ−ｎ−ブチルホスフ
アイト、ジフエニルホスフアイトなどが例示され
る。 かかるフエニル アクリレート類と二置換ホス
フアイトの反応は、溶媒中で、通常は塩基性触媒
の存在下に行なわれる。 この場合の溶媒としては、メタノール、エタノ
ール、ｔ−ブチルアルコールなどのアルコール
類、エチレングリコールジメチルエーテル、ジオ
キサン、テトラヒドロフランなどのエーテル類、
およびジクロロメタン、クロロホルムなどのハロ
ゲン化炭化水素などが用いられるが、特に好まし
いのはクロロホルムである。 また塩基性触媒としては、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウムなどの水酸化アルカリ金属、ナト
リウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリ
ウムｔ−ブトキシドなどのアルカリ金属アルコキ
シド、トリエチルアミンなどの第三アミン類、お
よび水酸化ベンジルトリメチルアンモニウムなど
が用いられるが、特に好ましいのはナトリウムメ
トキシドである。触媒の使用量は、通常はフエニ
ル アクリレート類１モルに対して0.01〜20モル
％の範囲であり、好ましくは0.1〜10モル％の範
囲である。 反応温度は、０℃から用いる溶媒の還流温度の
範囲であるが、通常は還流温度で行なわれる。 本製造法における両原料の反応モル比は通常、
二置換ホスフアイトに対してフエニル アクレレ
ート類が0.9〜1.1モル倍である。 この反応における生成物の単離法としては、た
とえば、反応終了後、反応液を約40℃以下に冷却
し、塩基性触媒を酸で中和し、水洗した後、有機
層の溶媒を留去する方法がある。この方法によつ
て、純度95％以上の生成物が得られるが、必要に
応じて再結晶法等により精製することができる。 かくして製造される本発明の一般式（）で示
されるリン含有化合物として、具体的には、 ジメチル ２−ｔ−ブチル−４−メチルフエノ
キシカルボニルエチルホスフオネート、 ジメチル ２−ｔ−ブチル−５−メチルフエノ
キシカルボニルエチルホスフオネート、 ジメチル ２−ｔ−ブチル−４，６−ジメチル
フエノキシカルボニルエチルホスフオネート、 ジエチル ２−ｔ−ブチル−４−メチルフエノ
キシカルボニルエチルホスフオネート、 ジエチル ２−ｔ−ブチル−５−メチルフエノ
キシカルボニルエチルホスフオネート、 ジエチル ２−ｔ−ブチル−４，６−ジメチル
フエノキシカルボニルエチルホスフオネート、 ジプロピル ２−ｔ−ブチル−４−メチルフエ
ノキシカルボニルエチルホスフオネート、 ジプロピル ２−ｔ−ブチル−５−メチルフエ
ノキシカルボニルエチルホスフオネート、 ジプロピル ２−ｔ−ブチル−４，６−ジメチ
ルフエノキシカルボニルエチルホスフオネート、 ジイソプロピル ２−ｔ−ブチル−４−メチル
フエノキシカルボニルエチルホスフオネート、 ジイソプロピル ２−ｔ−ブチル−５−メチル
フエノキシカルボニルエチルホスフオネート、 ジイソプロピル ２−ｔ−ブチル−４，６−ジ
メチルフエノキシカルボニルエチルホスフオネー
ト、 ジブチル ２−ｔ−ブチル−４−メチルフエノ
キシカルボニルエチルホスフオネート、 ジブチル ２−ｔ−ブチル−５−メチルフエノ
キシカルボニルエチルホスフオネート、 ジブチル ２−ｔ−ブチル−４，６−ジメチル
フエノキシカルボニルエチルホスフオネート、 ジフエニル ２−ｔ−ブチル−４−メチルフエ
ノキシカルボニルエチルホスフオネート、 ジフエニル ２−ｔ−ブチル−５−メチルフエ
ノキシカルボニルエチルホスフオネート、 および ジフエニル ２−ｔ−ブチル−４，６−ジメチ
ルフエノキシカルボニルエチルホスフオネート が例示される。 これらの本発明にかかる新規リン含有化合物
は、有機物質用劣化防止剤のみならず、特に色相
改良剤としても有用である。 以下、本発明を実施例によつて説明する。 原料製造例 １ 温度計、撹拌装置、冷却管、滴下ろう斗をそな
えた300ml四ツ口フラスコに、２−ｔ−ブチル−
４−メチルフエノール32.8ｇ（0.20モル）、トル
エチルアミン22.3ｇ（0.22モル）およびトルエン
100ｇを仕込み、容器内の空気を窒素置換した後、
19.10ｇ（0.21モル）の塩化アクリロイルを反応
温度30℃で１時間かけて滴下する。滴下終了後、
塩酸で過剰のトリエチルアミンを中和した後、水
洗し、有機層のトルエンを減圧留去することによ
つて、粗生成物43.0ｇ（収率99％）を得た。この
粗生成物を減圧蒸留で精製することによつて、白
色透明の２−ｔ−ブチル−４−メチルフエニル
アクリレートを得た。 融点 54〜56℃ 沸点 120〜122℃／４mmＨｇ 原料製造例 ２ 反応原料として２−ｔ−ブチル−５−メチルフ
エノールを用いる以外は原料製造例１と同様な条
件で反応させることによつて、２−ｔ−ブチル−
５−メチルフエニル アクリレートを得た。 沸点 95〜98℃／１mmＨｇ（油状物） 原料製造例 ３ 反応原料として２−ｔ−ブチル−４，６−ジメ
チルフエノールを用いる以外は原料製造例１と同
様な条件で反応させることによつて、２−ｔ−ブ
チル−４，６−ジメチルフエニル アクリレート
を得た。 融点 53〜55℃（白色結晶） 沸点 93〜95℃／１mmＨｇ 実施例 １ 温度計、撹拌装置、冷却管をそなえた200ml四
ツ口フラスコに、２−ｔ−ブチル−４−メチルフ
エニル アクリレート6.80ｇ（0.031モル）、ジエ
チルホスフアイト4.30ｇ（0.031モル）およびク
ロロホルム50ｇを仕込み、容器内の空気を窒素置
換した後、28重量％ナトリウムメトキシドメタノ
ール溶液0.16ｇ（0.0008モル）を加え、61℃で８
時間保温する。反応終了後、40℃以下に冷却し、
希塩酸で中和した後、水洗し、有機層のクロロホ
ルムを減圧留去する。蒸留残にｎ−ヘキサンを加
えて再結晶することにより、白色結晶状のジエチ
ル２−ｔ−ブチル−４−メチルフエノキシカルボ
ニルエチルホスフオネート10.4ｇ（収率90％）を
得た。 融点 52〜54℃ 元素分析 C18H29O5P （ ）内計算値 Ｃ； 60.80％ （60.66％） Ｈ； 8.10％ （8.20％） Ｐ； 8.59％ （8.69％） 赤外線吸収スペクトル（流動パラフイン法） （単位cm-1） 1745（νC=0）、1630（νarpn.C=C）、 1240（νC-0）、 1190，1150，1018（νP-0）、 805（δ面外 arom.C−Ｈ） 実施例 ２ 反応原料として２−ｔ−ブチル−４−メチルフ
エニル アクリレートとジフエニルホスフアイト
を用いる以外は実施例１と同様な条件で反応させ
ることによつて、無色透明の粘稠物としてジフエ
ニル ２−ｔ−ブチル−４−メチルフエノキシカ
ルボニルエチルホスフオネートが得られた。 元素分析 C26H29O5P （ ）内計算値 Ｃ； 69.05％ （69.02％） Ｈ； 6.52％ （6.46％） Ｐ； 6.60％ （6.85％） 赤外線吸収スペクトル（流動パラフイン法） （単位cm-1） 1740（νC=0）、1610（νarpn.C=C）、 1230（νC-0）、 1190，1140，1020（νP-0）、 805（δ面外 arom.C−Ｈ） 実施例 ３ 実施例１で用いたのと同様のフラスコに、２−
ｔ−ブチル−５−メチルフエニル アクリレート
6.80ｇ（0.031モル）、ジフエニルホスフアイト
7.26ｇ（0.031モル）およびクロロホルム50ｇを
仕込み、容器内の空気を窒素置換した後、28重量
％ナトリウムメトキシド メタノール溶液0.10ｇ
（0.0005モル）を加え、61℃で10時間保温する。
反応終了後、40℃まで冷却し、希塩酸で中和後、
水洗し、有機層のクロロホルムを減圧留去して、
無色透明粘稠物としてジフエニル ２−ｔ−ブチ
ル−５−メチルフエノキシカルボニルエチルホス
フオネート13.61ｇ（収率97％）を得た。 元素分析 C16H29O5P （ ）内計算値 Ｃ； 68.95％ （69.02％） Ｈ； 6.60％ （6.46％） Ｐ； 6.92％ （6.85％） 赤外線吸収スペクトル（流動パラフイン法） （単位cm-1） 1750（νC=0）、1620（νarpn.C=C）、 1245（νC-0）、 1180，1140，1020（νP-0）、 795（δ面外 arom.C−Ｈ） 実施例 ４ 実施例１で用いたのと同様のフラスコに、２−
ｔ−ブチル−４，６−ジメチルフエニル アクリ
レート7.0ｇ（0.030モル）、ジブチルホスフアイ
ト5.83ｇ（0.030モル）およびクロロホルム50ｇ
を仕込み、容器内の空気を窒素置換した後、28重
量％ナトリウムメトキシド メタノール溶液0.15
ｇ（0.00078モル）を加え、61℃で８時間保温す
る。反応終了後、40℃以下に冷却し、希塩酸で中
和し、水洗後、有機層のクロロホルムを減圧留去
する。蒸留残にｎ−ヘキサンを加えて再結晶し、
白色結晶としてジブチル ２−ｔ−ブチル−４，
６−ジメチルフエノキシカルボニルエチルホスフ
オネート11.0ｇ（収率86％）を得た。 融点 62〜63℃ 元素分析 C23H39O5P （ ）内計算値 Ｃ； 64.85％ （64.77％） Ｈ； 9.16％ （9.22％） Ｐ； 7.10％ （7.26％） 赤外線吸収スペクトル（流動パラフイン法） （単位cm-1） 1755（νC=0）、1620（νarpn.C=C）、 1250（νC-0）、 1150，1030（νP-0）、 840（δ面外 arom.C−Ｈ） 参考例 １ 下記配合物をミキサーで５分間混和した後、
180℃ミキシングロールで溶融混練して得られた
コンパウンドを、210℃の熱プレスで厚さ１mmの
シートに成形し、40×40×１mmの試験片を作成し
た。100℃のギヤーオーブン中で一定時間熱劣化
させ、変色度合を色差計でのイエローインデツク
ス（ΔYI）値で判定した。その結果を表−１に示
す。 ＜配合＞ 未安定化ポリプロピレン樹脂 100重量部 ステアリン酸カルシウム 0.1 〃 ２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフエノー
ル 0.2 〃 供試リン含有化合物 0.2 〃 【表】
ルキル基を、R3は低級アルキル基またはフエニ
ル基を示す。） で示されるリン含有化合物およびその製造法に関
する。 ポリオレフイン、ABS樹脂、ポリスチレン、
ハイインパクトポリスチレン、アクリロニトリル
−スチレン共重合物、ポリアミド、ポリアセター
ルおよびエチレン−プロピレン共重合物などの合
成樹脂、天然ゴムおよびブタジエンゴム、イソプ
レンゴム、イソプレン−イソブチレン共重合ゴ
ム、スチレン−ブタジエン共重合ゴム、アクリロ
ニトリル−ブタジエン共重合ゴム、エチレン−プ
ロピレン共重合ゴムなどの合成ゴム、潤滑油、燃
料油などの石油製品、油脂およびグリースなどの
各種の有機物質は、熱、光および酸素により劣化
を受けやすく、かかる劣化を抑制するために、従
来より各種の酸化防止剤、たとえば、 ２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフエノ
ール、 ｎ−オクタデシル ３−（３，５−ジ−ｔ−
ブチル−４−ヒドロキシフエニル）プロピオネ
ート、 ペンタエリスリチル テトラキス〔３−（３，
５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフエニ
ル）プロピオネート〕 などのフエノール系酸化防止剤、 ジラウリル ３，3′−チオジプロピオネー
ト、 ペンタエリスリチル テトラキス（３−ラウ
リルチオプロピオネート） などのイオウ系酸化防止剤、および トリス（ノニルフエニル）ホスフアイト、 ３，９−ビス（オクタデシロキシ）−２，４，
８，10−テトラオキサ−３，９−ジホスフアス
ピロ〔５・５〕ウンデカン などのリン含有化合物を配合することもよく知ら
れている。しかしながら、これらは何れも高温度
で長時間有機物質中に保持された場合、効果の持
続性に乏しいという欠点があつた。 このような事情に鑑み本発明者らは、これらの
欠点の改良されたすぐれた劣化防止性能を有する
化合物を開発すべく鋭意研究の結果、前記一般式
（）で示されるリン含有化合物の開発に成功し、
該化合物が劣化防止剤として非常に有用であるこ
とを見出し、本発明に至つた。 前記一般式（）で示されるリン含有化合物は
本発明者らによつて初めて合成された新規化合物
であり、該化合物は、一般式（） （式中、R1およびR2は前記と同じ意味を有す
る。） で示されるフエニル アクリレート類と一般式
（） （式中、R3は前記と同じ意味を有する。） で示される二置換ホスフアイトとを反応させるこ
とによつて製造することができる。 ここで、置換基R1，R2およびR3における低級
アルキル基としては、メチル、エチル、ｎ−プロ
ピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｔ−ブチルな
どが挙げられる。 本発明の一般式（）で示されるリン含有化合
物を製造するにあたり反応原料として使用される
一般式（）で示されるフエニル アクリレート
類は、新規化合物であつて、たとえば、２−ｔ−
ブチル−４−メチルフエノール、２−ｔ−ブチル
−６−メチルフエノール、２−ｔ−ブチル−５−
メチルフエノール、２−ｔ−ブチル−４，６−ジ
メチルフエノールなどのフエノール類と塩化アク
リロイルを、トルエンなどの不活性溶媒中で、ト
リエチルアミン、ピリジンなどの脱塩化水素剤存
在下に反応させることによつて製造することがで
きる。また、他の原料である一般式（）で示さ
れる二置換ホスフアイトは公知化合物であり、具
体的にはジメチルホスフアイト、ジエチルフオス
フアイト、ジ−ｎ−プロピルホスフアイト、ジイ
ソプロピルホスフアイト、ジ−ｎ−ブチルホスフ
アイト、ジフエニルホスフアイトなどが例示され
る。 かかるフエニル アクリレート類と二置換ホス
フアイトの反応は、溶媒中で、通常は塩基性触媒
の存在下に行なわれる。 この場合の溶媒としては、メタノール、エタノ
ール、ｔ−ブチルアルコールなどのアルコール
類、エチレングリコールジメチルエーテル、ジオ
キサン、テトラヒドロフランなどのエーテル類、
およびジクロロメタン、クロロホルムなどのハロ
ゲン化炭化水素などが用いられるが、特に好まし
いのはクロロホルムである。 また塩基性触媒としては、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウムなどの水酸化アルカリ金属、ナト
リウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリ
ウムｔ−ブトキシドなどのアルカリ金属アルコキ
シド、トリエチルアミンなどの第三アミン類、お
よび水酸化ベンジルトリメチルアンモニウムなど
が用いられるが、特に好ましいのはナトリウムメ
トキシドである。触媒の使用量は、通常はフエニ
ル アクリレート類１モルに対して0.01〜20モル
％の範囲であり、好ましくは0.1〜10モル％の範
囲である。 反応温度は、０℃から用いる溶媒の還流温度の
範囲であるが、通常は還流温度で行なわれる。 本製造法における両原料の反応モル比は通常、
二置換ホスフアイトに対してフエニル アクレレ
ート類が0.9〜1.1モル倍である。 この反応における生成物の単離法としては、た
とえば、反応終了後、反応液を約40℃以下に冷却
し、塩基性触媒を酸で中和し、水洗した後、有機
層の溶媒を留去する方法がある。この方法によつ
て、純度95％以上の生成物が得られるが、必要に
応じて再結晶法等により精製することができる。 かくして製造される本発明の一般式（）で示
されるリン含有化合物として、具体的には、 ジメチル ２−ｔ−ブチル−４−メチルフエノ
キシカルボニルエチルホスフオネート、 ジメチル ２−ｔ−ブチル−５−メチルフエノ
キシカルボニルエチルホスフオネート、 ジメチル ２−ｔ−ブチル−４，６−ジメチル
フエノキシカルボニルエチルホスフオネート、 ジエチル ２−ｔ−ブチル−４−メチルフエノ
キシカルボニルエチルホスフオネート、 ジエチル ２−ｔ−ブチル−５−メチルフエノ
キシカルボニルエチルホスフオネート、 ジエチル ２−ｔ−ブチル−４，６−ジメチル
フエノキシカルボニルエチルホスフオネート、 ジプロピル ２−ｔ−ブチル−４−メチルフエ
ノキシカルボニルエチルホスフオネート、 ジプロピル ２−ｔ−ブチル−５−メチルフエ
ノキシカルボニルエチルホスフオネート、 ジプロピル ２−ｔ−ブチル−４，６−ジメチ
ルフエノキシカルボニルエチルホスフオネート、 ジイソプロピル ２−ｔ−ブチル−４−メチル
フエノキシカルボニルエチルホスフオネート、 ジイソプロピル ２−ｔ−ブチル−５−メチル
フエノキシカルボニルエチルホスフオネート、 ジイソプロピル ２−ｔ−ブチル−４，６−ジ
メチルフエノキシカルボニルエチルホスフオネー
ト、 ジブチル ２−ｔ−ブチル−４−メチルフエノ
キシカルボニルエチルホスフオネート、 ジブチル ２−ｔ−ブチル−５−メチルフエノ
キシカルボニルエチルホスフオネート、 ジブチル ２−ｔ−ブチル−４，６−ジメチル
フエノキシカルボニルエチルホスフオネート、 ジフエニル ２−ｔ−ブチル−４−メチルフエ
ノキシカルボニルエチルホスフオネート、 ジフエニル ２−ｔ−ブチル−５−メチルフエ
ノキシカルボニルエチルホスフオネート、 および ジフエニル ２−ｔ−ブチル−４，６−ジメチ
ルフエノキシカルボニルエチルホスフオネート が例示される。 これらの本発明にかかる新規リン含有化合物
は、有機物質用劣化防止剤のみならず、特に色相
改良剤としても有用である。 以下、本発明を実施例によつて説明する。 原料製造例 １ 温度計、撹拌装置、冷却管、滴下ろう斗をそな
えた300ml四ツ口フラスコに、２−ｔ−ブチル−
４−メチルフエノール32.8ｇ（0.20モル）、トル
エチルアミン22.3ｇ（0.22モル）およびトルエン
100ｇを仕込み、容器内の空気を窒素置換した後、
19.10ｇ（0.21モル）の塩化アクリロイルを反応
温度30℃で１時間かけて滴下する。滴下終了後、
塩酸で過剰のトリエチルアミンを中和した後、水
洗し、有機層のトルエンを減圧留去することによ
つて、粗生成物43.0ｇ（収率99％）を得た。この
粗生成物を減圧蒸留で精製することによつて、白
色透明の２−ｔ−ブチル−４−メチルフエニル
アクリレートを得た。 融点 54〜56℃ 沸点 120〜122℃／４mmＨｇ 原料製造例 ２ 反応原料として２−ｔ−ブチル−５−メチルフ
エノールを用いる以外は原料製造例１と同様な条
件で反応させることによつて、２−ｔ−ブチル−
５−メチルフエニル アクリレートを得た。 沸点 95〜98℃／１mmＨｇ（油状物） 原料製造例 ３ 反応原料として２−ｔ−ブチル−４，６−ジメ
チルフエノールを用いる以外は原料製造例１と同
様な条件で反応させることによつて、２−ｔ−ブ
チル−４，６−ジメチルフエニル アクリレート
を得た。 融点 53〜55℃（白色結晶） 沸点 93〜95℃／１mmＨｇ 実施例 １ 温度計、撹拌装置、冷却管をそなえた200ml四
ツ口フラスコに、２−ｔ−ブチル−４−メチルフ
エニル アクリレート6.80ｇ（0.031モル）、ジエ
チルホスフアイト4.30ｇ（0.031モル）およびク
ロロホルム50ｇを仕込み、容器内の空気を窒素置
換した後、28重量％ナトリウムメトキシドメタノ
ール溶液0.16ｇ（0.0008モル）を加え、61℃で８
時間保温する。反応終了後、40℃以下に冷却し、
希塩酸で中和した後、水洗し、有機層のクロロホ
ルムを減圧留去する。蒸留残にｎ−ヘキサンを加
えて再結晶することにより、白色結晶状のジエチ
ル２−ｔ−ブチル−４−メチルフエノキシカルボ
ニルエチルホスフオネート10.4ｇ（収率90％）を
得た。 融点 52〜54℃ 元素分析 C18H29O5P （ ）内計算値 Ｃ； 60.80％ （60.66％） Ｈ； 8.10％ （8.20％） Ｐ； 8.59％ （8.69％） 赤外線吸収スペクトル（流動パラフイン法） （単位cm-1） 1745（νC=0）、1630（νarpn.C=C）、 1240（νC-0）、 1190，1150，1018（νP-0）、 805（δ面外 arom.C−Ｈ） 実施例 ２ 反応原料として２−ｔ−ブチル−４−メチルフ
エニル アクリレートとジフエニルホスフアイト
を用いる以外は実施例１と同様な条件で反応させ
ることによつて、無色透明の粘稠物としてジフエ
ニル ２−ｔ−ブチル−４−メチルフエノキシカ
ルボニルエチルホスフオネートが得られた。 元素分析 C26H29O5P （ ）内計算値 Ｃ； 69.05％ （69.02％） Ｈ； 6.52％ （6.46％） Ｐ； 6.60％ （6.85％） 赤外線吸収スペクトル（流動パラフイン法） （単位cm-1） 1740（νC=0）、1610（νarpn.C=C）、 1230（νC-0）、 1190，1140，1020（νP-0）、 805（δ面外 arom.C−Ｈ） 実施例 ３ 実施例１で用いたのと同様のフラスコに、２−
ｔ−ブチル−５−メチルフエニル アクリレート
6.80ｇ（0.031モル）、ジフエニルホスフアイト
7.26ｇ（0.031モル）およびクロロホルム50ｇを
仕込み、容器内の空気を窒素置換した後、28重量
％ナトリウムメトキシド メタノール溶液0.10ｇ
（0.0005モル）を加え、61℃で10時間保温する。
反応終了後、40℃まで冷却し、希塩酸で中和後、
水洗し、有機層のクロロホルムを減圧留去して、
無色透明粘稠物としてジフエニル ２−ｔ−ブチ
ル−５−メチルフエノキシカルボニルエチルホス
フオネート13.61ｇ（収率97％）を得た。 元素分析 C16H29O5P （ ）内計算値 Ｃ； 68.95％ （69.02％） Ｈ； 6.60％ （6.46％） Ｐ； 6.92％ （6.85％） 赤外線吸収スペクトル（流動パラフイン法） （単位cm-1） 1750（νC=0）、1620（νarpn.C=C）、 1245（νC-0）、 1180，1140，1020（νP-0）、 795（δ面外 arom.C−Ｈ） 実施例 ４ 実施例１で用いたのと同様のフラスコに、２−
ｔ−ブチル−４，６−ジメチルフエニル アクリ
レート7.0ｇ（0.030モル）、ジブチルホスフアイ
ト5.83ｇ（0.030モル）およびクロロホルム50ｇ
を仕込み、容器内の空気を窒素置換した後、28重
量％ナトリウムメトキシド メタノール溶液0.15
ｇ（0.00078モル）を加え、61℃で８時間保温す
る。反応終了後、40℃以下に冷却し、希塩酸で中
和し、水洗後、有機層のクロロホルムを減圧留去
する。蒸留残にｎ−ヘキサンを加えて再結晶し、
白色結晶としてジブチル ２−ｔ−ブチル−４，
６−ジメチルフエノキシカルボニルエチルホスフ
オネート11.0ｇ（収率86％）を得た。 融点 62〜63℃ 元素分析 C23H39O5P （ ）内計算値 Ｃ； 64.85％ （64.77％） Ｈ； 9.16％ （9.22％） Ｐ； 7.10％ （7.26％） 赤外線吸収スペクトル（流動パラフイン法） （単位cm-1） 1755（νC=0）、1620（νarpn.C=C）、 1250（νC-0）、 1150，1030（νP-0）、 840（δ面外 arom.C−Ｈ） 参考例 １ 下記配合物をミキサーで５分間混和した後、
180℃ミキシングロールで溶融混練して得られた
コンパウンドを、210℃の熱プレスで厚さ１mmの
シートに成形し、40×40×１mmの試験片を作成し
た。100℃のギヤーオーブン中で一定時間熱劣化
させ、変色度合を色差計でのイエローインデツク
ス（ΔYI）値で判定した。その結果を表−１に示
す。 ＜配合＞ 未安定化ポリプロピレン樹脂 100重量部 ステアリン酸カルシウム 0.1 〃 ２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフエノー
ル 0.2 〃 供試リン含有化合物 0.2 〃 【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 （式中、R1およびR2は水素原子または低級ア
ルキル基を、R3は低級アルキル基またはフエニ
ル基を示す。） で示されるリン含有化合物。 ２ 一般式 （式中、R1およびR2は水素原子または低級ア
ルキル基を示す。） で示されるフエニル アクリレート類と一般式 （式中R3は低級アルキル基またはフエニル基
を示す。） で示される二置換ホスフアイトを反応させること
を特徴とする一般式 （式中、R1，R2およびR3は前記と同じ意味を
有する。） で示されるリン含有化合物の製造法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10871482A JPS58225094A (ja) | 1982-06-23 | 1982-06-23 | リン含有化合物およびその製造法 |
| US06/504,782 US4539355A (en) | 1982-06-23 | 1983-06-16 | Phosphorus-containing compounds, their production and their use as antioxidants |
| CA000430970A CA1213898A (en) | 1982-06-23 | 1983-06-22 | Phosphorus-containing compounds, their production and their use as anti-oxidants |
| EP83303635A EP0098109B1 (en) | 1982-06-23 | 1983-06-23 | Phosphorus-containing compounds, their production and their use as anti-oxidants |
| DE8383303635T DE3374127D1 (en) | 1982-06-23 | 1983-06-23 | Phosphorus-containing compounds, their production and their use as anti-oxidants |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10871482A JPS58225094A (ja) | 1982-06-23 | 1982-06-23 | リン含有化合物およびその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58225094A JPS58225094A (ja) | 1983-12-27 |
| JPH0325436B2 true JPH0325436B2 (ja) | 1991-04-05 |
Family
ID=14491723
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10871482A Granted JPS58225094A (ja) | 1982-06-23 | 1982-06-23 | リン含有化合物およびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58225094A (ja) |
-
1982
- 1982-06-23 JP JP10871482A patent/JPS58225094A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58225094A (ja) | 1983-12-27 |
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