JPH03255143A - 半導電性組成物 - Google Patents
半導電性組成物Info
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- JPH03255143A JPH03255143A JP5179490A JP5179490A JPH03255143A JP H03255143 A JPH03255143 A JP H03255143A JP 5179490 A JP5179490 A JP 5179490A JP 5179490 A JP5179490 A JP 5179490A JP H03255143 A JPH03255143 A JP H03255143A
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Landscapes
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、架橋ポリエチレンなどを絶縁体とする固体絶
縁ケーブルの内部半導電層及び外部半導電層として好適
な半導電性組成物に関する。
縁ケーブルの内部半導電層及び外部半導電層として好適
な半導電性組成物に関する。
(従来の技術)
架橋ポリエチレンなどを絶縁体とする、いわゆるCvケ
ーブルに用いられる内部及び外部半導電層は、高分子基
材にカーボンブラックを配合したものが一般に用いられ
る。この時に、高分子基材としては、カーボンブラ・7
りを高濃度に充填する必要から、エチレン−酢酸ビニル
共重合体(以下、EVAという)が最も多くの場合に用
いられており、その他に、エチレン−エチルアクリレー
ト共重合体(以下、EEAという)などが用いられてい
る(特開昭63−205340号公報)。
ーブルに用いられる内部及び外部半導電層は、高分子基
材にカーボンブラックを配合したものが一般に用いられ
る。この時に、高分子基材としては、カーボンブラ・7
りを高濃度に充填する必要から、エチレン−酢酸ビニル
共重合体(以下、EVAという)が最も多くの場合に用
いられており、その他に、エチレン−エチルアクリレー
ト共重合体(以下、EEAという)などが用いられてい
る(特開昭63−205340号公報)。
(発明が解決しようとする課題〉
従来、この種の半導電性組成物は、高分子基材としての
EVAないしEEAがその重合時に生しる非常に高分子
量化した成分(ポリマーゲル)を含むこと、及びEVA
ないしEEAとカーボンブラックを混合する時に、カン
ボンブラックの分散不良が生しることの2つの理由によ
り、ケーブルに被覆した時に、絶縁層と半導電層との界
面に小さい突起が生しるという問題があった。
EVAないしEEAがその重合時に生しる非常に高分子
量化した成分(ポリマーゲル)を含むこと、及びEVA
ないしEEAとカーボンブラックを混合する時に、カン
ボンブラックの分散不良が生しることの2つの理由によ
り、ケーブルに被覆した時に、絶縁層と半導電層との界
面に小さい突起が生しるという問題があった。
(課題を解決するための手段)
本発明者らは、上記課題について鋭意検討した結果、半
導電層を構成する高分子基材として、密度が0.9g/
c++!以下のエチレン−炭素数4以上のα−オレフィ
ン系共重合体(以下、エチレンα−オレフィン系共重合
体と称する)にエチレンアクリル酸アルキル系共重合体
を混合した特定のオレフィン系重合体ブレンドを用いる
ことにより、絶縁層と半導を層との界面に小さい突起が
生しないことを見出し、本発明を完成するに至った。
導電層を構成する高分子基材として、密度が0.9g/
c++!以下のエチレン−炭素数4以上のα−オレフィ
ン系共重合体(以下、エチレンα−オレフィン系共重合
体と称する)にエチレンアクリル酸アルキル系共重合体
を混合した特定のオレフィン系重合体ブレンドを用いる
ことにより、絶縁層と半導を層との界面に小さい突起が
生しないことを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は:
■ 密度が0.9g/cm2以下のエチレン−炭素数4
以上のα−オレフィン系共重合体5〜80重量部とエチ
レン−アクリル酸アルキル系共重合体95〜20重量部
とを含む高分子基材に、カーボンブラックを配合してな
る、半導電性組成物を提供するものであり、また ■ カーボンブラックが、アセチレンブラックである点
にも特徴があり、さらに ■ エチレン−アクリル酸アルキル系共重合体のメルト
フローレートが、30g/10分以下である点にも特徴
がある。
以上のα−オレフィン系共重合体5〜80重量部とエチ
レン−アクリル酸アルキル系共重合体95〜20重量部
とを含む高分子基材に、カーボンブラックを配合してな
る、半導電性組成物を提供するものであり、また ■ カーボンブラックが、アセチレンブラックである点
にも特徴があり、さらに ■ エチレン−アクリル酸アルキル系共重合体のメルト
フローレートが、30g/10分以下である点にも特徴
がある。
さらに、本発明を具体的に説明する。
本発明に使用するエチレン−α−オレフィン系共重合体
としては、密度が0.9g/cm2!以下であって、か
つエチレンと、ブテン−1,ヘキセン1.4−メチルペ
ンテン−1などの炭素数4以上のα−オレフィンとの共
重合体が挙げられが、エチレンとブテン−】との共重合
体が好ましく使用される。
としては、密度が0.9g/cm2!以下であって、か
つエチレンと、ブテン−1,ヘキセン1.4−メチルペ
ンテン−1などの炭素数4以上のα−オレフィンとの共
重合体が挙げられが、エチレンとブテン−】との共重合
体が好ましく使用される。
また、上記二元共重合体の他に、上記共重合体の機能を
損なわない範囲の少量で1,4−へキサジエン、ジシク
ロペンタジェンなどのジエン類や塩化ビニル、スチレン
などの他のオレフィン系化合物をコモノマーとして共重
合した共重合体も使用可能である。
損なわない範囲の少量で1,4−へキサジエン、ジシク
ロペンタジェンなどのジエン類や塩化ビニル、スチレン
などの他のオレフィン系化合物をコモノマーとして共重
合した共重合体も使用可能である。
該共重合体の密度が0.9g/cm2以上では、その重
合時にポリマーゲルの生成が多くなり、小突起の形成が
出来易くなる。
合時にポリマーゲルの生成が多くなり、小突起の形成が
出来易くなる。
本発明に使用するエチレン−アクリル酸アルキル系共重
合体としては、該共重合体中のアクリル酸アルキル単位
の含有量が1〜35重量%、好ましくは2〜25重量%
の範囲のものであり、かつエチレン−アクリル酸アルキ
ル共重合体、並びにその機能を損なわない範囲の少量で
該共重合成分に他の第3のオレフィン系化合物(例えば
、塩化ビニル、酢酸ビニル、アクリル酸、マレイン酸、
無水マレイン酸など)を共重合したものも含まれる。
合体としては、該共重合体中のアクリル酸アルキル単位
の含有量が1〜35重量%、好ましくは2〜25重量%
の範囲のものであり、かつエチレン−アクリル酸アルキ
ル共重合体、並びにその機能を損なわない範囲の少量で
該共重合成分に他の第3のオレフィン系化合物(例えば
、塩化ビニル、酢酸ビニル、アクリル酸、マレイン酸、
無水マレイン酸など)を共重合したものも含まれる。
また、共重合成分である該アクリル酸アルキルとして、
アクリル酸メチル、エチル、イソプロピル、ヘキシルな
どを挙げることができ、特にエチレン−アクリル酸エチ
ル共重合体が好ましく使用できる。
アクリル酸メチル、エチル、イソプロピル、ヘキシルな
どを挙げることができ、特にエチレン−アクリル酸エチ
ル共重合体が好ましく使用できる。
さらに、上記エチレン−アクリル酸アルキル系共重合体
は、そのメルトフローレート(以下、MFRという)が
190’Cで荷重2,160g下で30 g / 10
分以下のものが望ましく、特に好ましくは0. 5〜2
5 g / I O分程度である。
は、そのメルトフローレート(以下、MFRという)が
190’Cで荷重2,160g下で30 g / 10
分以下のものが望ましく、特に好ましくは0. 5〜2
5 g / I O分程度である。
そのMFRが、30g/10分を越えると、小突起が出
来易くなる。
来易くなる。
半導電層を構成する高分子基材の構成化としては、エチ
レン−α−オレフィン系共重合体5〜80重量部、好ま
しくは10〜70重量部とエチレン−アクリル酸アルキ
ル系共重合体95〜20重量部、好ましくは90〜30
重量部とを主体とするブレンドが望ましい。
レン−α−オレフィン系共重合体5〜80重量部、好ま
しくは10〜70重量部とエチレン−アクリル酸アルキ
ル系共重合体95〜20重量部、好ましくは90〜30
重量部とを主体とするブレンドが望ましい。
エチレン−α−オレフィン系共重合体の混合量が5重量
部未満では、ブレンドするエチレン−アクリル酸アルキ
ル系共重合体から生ずるポリマーゲルが多くなり、半導
電層に突起を形成するようになり、またカーボンの分散
性も悪くなる。
部未満では、ブレンドするエチレン−アクリル酸アルキ
ル系共重合体から生ずるポリマーゲルが多くなり、半導
電層に突起を形成するようになり、またカーボンの分散
性も悪くなる。
また、エチレン−α−オレフィン系共重合体の混合量が
80重量部を越えると、半導電層が粘着性の高いものと
なって取り扱い難いものとなる。
80重量部を越えると、半導電層が粘着性の高いものと
なって取り扱い難いものとなる。
半導電層を構成する上記高分子基材には、前記エチレン
−α−オレフィン系共重合体とエチレンアクリル酸アル
キル系共重合体との他に、これらの機能を損なわない範
囲の少量で他のポリオレフィン系材料、例えばポリエチ
レン、エチレン酢酸ビニル系共重合体などを含ませても
よい。
−α−オレフィン系共重合体とエチレンアクリル酸アル
キル系共重合体との他に、これらの機能を損なわない範
囲の少量で他のポリオレフィン系材料、例えばポリエチ
レン、エチレン酢酸ビニル系共重合体などを含ませても
よい。
このような高分子基材に半導電性を付与するためには、
カーボンブラック、例えば導電性カーボンブラックを配
合する必要がある。
カーボンブラック、例えば導電性カーボンブラックを配
合する必要がある。
このカーボンブラックとしては、前述の小突起の低減の
ためには、アセチレンブラックが特に好ましく使用でき
る。
ためには、アセチレンブラックが特に好ましく使用でき
る。
このカーボンブラックの配合量は、半導電層に要求され
るit性を考慮して決定されるが、一般には上記高分子
基材100重量部当たり30〜90重量部が用いられる
。
るit性を考慮して決定されるが、一般には上記高分子
基材100重量部当たり30〜90重量部が用いられる
。
本発明の半導電性&ll威物酸物、必要に応じて滑剤、
酸化防止剤、充填剤、架橋剤、架橋助剤などの種々の添
加剤を配合することができる。
酸化防止剤、充填剤、架橋剤、架橋助剤などの種々の添
加剤を配合することができる。
特に、滑剤としては、例えばステアリン酸、ステアリン
酸亜鉛などを;酸化防止剤としては、例えば4.4゛−
チオビス(6−1−ブチル−3メチルフエノール)など
を;充填剤としては、炭酸カルシウム、クレー、マグネ
シア、酸化亜鉛などを;架橋剤としては、ジク耐ルバー
オキサイド、2.5−ジメチル−25−ジ(t−ブチル
パーオキシ)ヘキシン−3などの有機過酸化物系架橋剤
を;架橋助剤としては、トリアリルイソシアヌレート、
トリアリルシアヌレート、テトラアリルオキシエタン、
m−フェニレンビスマレイミドなどが好ましく使用でき
る。
酸亜鉛などを;酸化防止剤としては、例えば4.4゛−
チオビス(6−1−ブチル−3メチルフエノール)など
を;充填剤としては、炭酸カルシウム、クレー、マグネ
シア、酸化亜鉛などを;架橋剤としては、ジク耐ルバー
オキサイド、2.5−ジメチル−25−ジ(t−ブチル
パーオキシ)ヘキシン−3などの有機過酸化物系架橋剤
を;架橋助剤としては、トリアリルイソシアヌレート、
トリアリルシアヌレート、テトラアリルオキシエタン、
m−フェニレンビスマレイミドなどが好ましく使用でき
る。
そして、このような組成の本発明の半導電性組成物を用
いて半導電層を形成するには、例えば押出被覆法などを
適用して行うことができる。
いて半導電層を形成するには、例えば押出被覆法などを
適用して行うことができる。
この際に、上記有機過酸化物などを用いる化学架橋で架
橋させても、あるいは場合により電離性放射線による架
橋を行ってもよい。
橋させても、あるいは場合により電離性放射線による架
橋を行ってもよい。
(作用)
■ 本発明において、密度が0.9g/cJ以下のエチ
レン−炭素数4以上のα−オレフィン系共重合体を用い
たので、ポリマーゲルの形成が従来(7)EVA、 E
EA等と比べて少なく、かつカーボンの配合時にカーボ
ンの分散不良が生じにくい。
レン−炭素数4以上のα−オレフィン系共重合体を用い
たので、ポリマーゲルの形成が従来(7)EVA、 E
EA等と比べて少なく、かつカーボンの配合時にカーボ
ンの分散不良が生じにくい。
■ 一方、エチレン−アクリル酸アルキル系共重合体を
用いたので、エチレン−α−オレフィン系共重合体のみ
を用いたのでは、得られた半導電性組成物で半導電層を
形成した場合に、非常に粘着性が高くなり実用上取り扱
いにくい問題点が回避される。
用いたので、エチレン−α−オレフィン系共重合体のみ
を用いたのでは、得られた半導電性組成物で半導電層を
形成した場合に、非常に粘着性が高くなり実用上取り扱
いにくい問題点が回避される。
また、EVAを用いずに、エチレン−アクリル酸アルキ
ル系共重合体を選択したので、EVAとエチレン−α−
オレフィン系共重合体とを混合した場合に小突起の個数
が増加するのに比較して、そのような現象が生しない。
ル系共重合体を選択したので、EVAとエチレン−α−
オレフィン系共重合体とを混合した場合に小突起の個数
が増加するのに比較して、そのような現象が生しない。
その機構は、未だ判っていないが、EVA又はエチレン
−アクリル酸アルキル系共重合体と、エチレン−α−オ
レフィン系共重合体との相溶性の差に起因するものと考
えられる。
−アクリル酸アルキル系共重合体と、エチレン−α−オ
レフィン系共重合体との相溶性の差に起因するものと考
えられる。
■ 本発明において、使用するカーボンブラックとして
は、アセチレンブラックであることが望ましい。
は、アセチレンブラックであることが望ましい。
その理由は、最も汎用のオイルを原料とするファーネス
ブランクは、原料中に不純物が多いことから、高分子基
材中に配合した場合に分散不良となり易い成分が多く、
かつ小突起が出来易いためである。
ブランクは、原料中に不純物が多いことから、高分子基
材中に配合した場合に分散不良となり易い成分が多く、
かつ小突起が出来易いためである。
■ エチレン−アクリル酸アルキル系共重合体のVFR
は、30以下、好ましくは0. 5〜25のイ直が望ま
しい。
は、30以下、好ましくは0. 5〜25のイ直が望ま
しい。
このMFRが30を越え、MFRが大きくなると(すな
わち、分子量が低くなると)、小突起が出来やすい。
わち、分子量が低くなると)、小突起が出来やすい。
この理由は、混合時にエチレン−α−オレフィン系共重
合体とエチレン−アクリル酸アルキル系共重合体との粘
度が違いすぎるために両者の分散が悪くなるとか、ある
いはエチレン−アクリル酸アルキル系共重合体の分子量
が低くいために、その重合時にポリマーゲルが生し易(
なるためと考えられる。
合体とエチレン−アクリル酸アルキル系共重合体との粘
度が違いすぎるために両者の分散が悪くなるとか、ある
いはエチレン−アクリル酸アルキル系共重合体の分子量
が低くいために、その重合時にポリマーゲルが生し易(
なるためと考えられる。
(実施例)
本発明を以下の実施例により詳細に説明するが、これら
は本発明の範囲を制限しない。
は本発明の範囲を制限しない。
14ma+”の撚り線導体上に1mn厚の内部半導電層
、3mm厚のXLPE (低密度ポリエチレン)絶縁層
、及びIIIIIg−の第1表に示す配合の外部半導電
層を順次押出被覆し、赤外線ヒーターで140°Cで加
熱し、モデルケーブルを作製した。
、3mm厚のXLPE (低密度ポリエチレン)絶縁層
、及びIIIIIg−の第1表に示す配合の外部半導電
層を順次押出被覆し、赤外線ヒーターで140°Cで加
熱し、モデルケーブルを作製した。
これらのモデルケーブルからIIIIl厚のスライス片
を切り出し、光学顕微鏡で絶縁層と外部導電層の界面を
観察した。
を切り出し、光学顕微鏡で絶縁層と外部導電層の界面を
観察した。
その結果、見つかった高さ10μm以上の小突起を、比
較例1を1とした相対数で第1表に示す。
較例1を1とした相対数で第1表に示す。
また、出来上がったケーブル表面の粘着性を触感で調べ
、同様に第1表に示した。
、同様に第1表に示した。
なお、実施例で使用した各材料は以下の通りである。
EVA:三井・デュポンポリケミカル製、エバフレック
スEV450 (MFR15)EEA−1:三井・デュ
ポンポリケミカル製、エバフレックスA−707(MF
R25)EEA−2:三井・デュポンポリケミカル製、
エバフレックスA−701(MFR5)EEA−3:三
井・デュポンポリケミカル製、エバフレックスA−70
4(MFR275)共重合体−1:エチレンとブテン−
1との共重合物 (密度0.900g/cffl、 M
FRO,8)共重合体−2:エチレンとブテン−1との
共重合物 (密度0.907g/cm2、 MFR0,
9)アセチレンブラック:1!X気化学■製、デンカブ
ラック、 ファーネスブラック:東海カーボン■製、ジーストS○
、 酸化防止剤:住友化学■製、スミライザーWx−R。
スEV450 (MFR15)EEA−1:三井・デュ
ポンポリケミカル製、エバフレックスA−707(MF
R25)EEA−2:三井・デュポンポリケミカル製、
エバフレックスA−701(MFR5)EEA−3:三
井・デュポンポリケミカル製、エバフレックスA−70
4(MFR275)共重合体−1:エチレンとブテン−
1との共重合物 (密度0.900g/cffl、 M
FRO,8)共重合体−2:エチレンとブテン−1との
共重合物 (密度0.907g/cm2、 MFR0,
9)アセチレンブラック:1!X気化学■製、デンカブ
ラック、 ファーネスブラック:東海カーボン■製、ジーストS○
、 酸化防止剤:住友化学■製、スミライザーWx−R。
滑剤: ステアリン酸亜鉛、有機過酸化物
二日本油脂■製、ジクミルパーオキサイド。
二日本油脂■製、ジクミルパーオキサイド。
比較例1〜2と実施例1とを比較すると、EVA、ある
いはEEA単独使用と比べて、EEAとエチレン−炭素
数4以上のα−オレフィンの共重合体で密度0.9g/
cm2以下とのブレンドを高分子基材として用いると、
絶縁層と半導電層との界面の小突起数が非常に少なくな
るのが判る。
いはEEA単独使用と比べて、EEAとエチレン−炭素
数4以上のα−オレフィンの共重合体で密度0.9g/
cm2以下とのブレンドを高分子基材として用いると、
絶縁層と半導電層との界面の小突起数が非常に少なくな
るのが判る。
しかし、比較例4のように、EEAに混合するエチレン
−α−オレフィン共重合体の量が少ないブレンドでは、
上記の効果が殆どないことが判る。
−α−オレフィン共重合体の量が少ないブレンドでは、
上記の効果が殆どないことが判る。
次に、比較例7と実施例1とを比較すると、アセチレン
ブラックを配合する実施例1が界面の小突起数が非常に
少なくて、アセチレンブラックの使用が望ましいことが
判る。
ブラックを配合する実施例1が界面の小突起数が非常に
少なくて、アセチレンブラックの使用が望ましいことが
判る。
また、実施例1.3と比較例6とを比較すると、使用す
るEEAのMFR値は25以下程度に低いことが望まし
いことが判る。
るEEAのMFR値は25以下程度に低いことが望まし
いことが判る。
さらに、実施例4の結果を他の実施例と比べると、有機
過酸化物による架橋を施してもその効果に変わりがない
ことが判る。
過酸化物による架橋を施してもその効果に変わりがない
ことが判る。
さらに、実施例1と比較例8とを比較すると、エチレン
−α−オレフィン共重合体の密度は、0゜9g/cm2
以下が良いことが判る。
−α−オレフィン共重合体の密度は、0゜9g/cm2
以下が良いことが判る。
(発明の効果)
以上説明したように、本発明の半導電性組成物では、C
Vケーブルの絶縁体と半導電層との間に存在する小突起
数を減らすことが出来る。
Vケーブルの絶縁体と半導電層との間に存在する小突起
数を減らすことが出来る。
従って、特に、超高圧CVケーブルの分野において、そ
の半導電層用に用いれば初期及び長期のケーブル性能を
向上できる。
の半導電層用に用いれば初期及び長期のケーブル性能を
向上できる。
397
Claims (3)
- (1)密度が0.9g/cm^2以下のエチレン−炭素
数4以上のα−オレフィン系共重合体5〜80重量部と
エチレン−アクリル酸アルキル系共重合体95〜20重
量部とを含む高分子基材に、カーボンブラックを配合し
てなることを特徴とする、半導電性組成物。 - (2)カーボンブラックが、アセチレンブラックである
ことを特徴とする、請求項(1)記載の半導電性組成物
。 - (3)エチレン−アクリル酸アルキル系共重合体のメル
トフローレートが、30g/10分以下であることを特
徴とする、請求項(1)ないし(2)記載の半導電性組
成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5179490A JPH03255143A (ja) | 1990-03-05 | 1990-03-05 | 半導電性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5179490A JPH03255143A (ja) | 1990-03-05 | 1990-03-05 | 半導電性組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03255143A true JPH03255143A (ja) | 1991-11-14 |
Family
ID=12896846
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5179490A Pending JPH03255143A (ja) | 1990-03-05 | 1990-03-05 | 半導電性組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03255143A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5556697A (en) * | 1994-03-24 | 1996-09-17 | Bicc Cables Corporation | Semiconductive power cable shield |
| JP2019527249A (ja) * | 2016-06-30 | 2019-09-26 | ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー | 溶接線および突起を有さない半導体シールド |
-
1990
- 1990-03-05 JP JP5179490A patent/JPH03255143A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5556697A (en) * | 1994-03-24 | 1996-09-17 | Bicc Cables Corporation | Semiconductive power cable shield |
| JP2019527249A (ja) * | 2016-06-30 | 2019-09-26 | ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー | 溶接線および突起を有さない半導体シールド |
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