JPH03256617A - 中子保持装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明は中子除去装置を備えたワイヤ放電加工機に関
する。

従来技術 ワイヤ放電加工において、閉鎖された図形（その図形の
内側部分を必要とする場合と内側が不必要な場合の双方
がある。）を加工するとその図形部分が中子として切抜
かれ、通常下ガイド上に載った格好で残留する。

そのため、ワイヤ自動結線装置（ＡＷＦ装置）を備えた
ワイヤ放電加工機で同一のワークから複数の閉鎖図形を
連続して加工しようとすると、一つの図形の加工が終了
して次ぎの加工位置へテーブルとともにワークが移動す
るとき、そのままでは中子で下ガイドを損傷することが
ある。

そこで、ＡＷＦ装置を備えたワイヤ放電加工機で連続お
よび長時間の無人運転が可能なように、中子除去装置に
よって一つの閉鎖図形の加工終了毎に中子を除去するよ
うになってきた。

中子除去装置では中子を保持して持上げ、廃棄位置まで
該中子を保持する中子保持装置が重要であるが、これに
は磁石式、コレット式および吸引式が研究されている。

磁石式は中子の保持を磁力によるので、磁力で耐えられ
る重量であれば中子の大きさに関係なく中子を保持する
ことができる、しかし、非磁性体の中子に対しては無力
である。また、永久磁石の場合には一度吸着したものを
廃棄位置で引き剥がす手段を別途に講じなければならな
い。

コレット式は純機械的に中子を保持するので、中子が磁
性体であるか否かに無関係でまた確実な保持ができるが
、コレットを駆動する機構が複雑になるきらいがある。

さらに、吸引式は吸引パッドによる吸着力を利用して中
子を保持するので、中子が磁性体であるか否かに無関係
で、しかも機構を簡単にすることができるが、中子に対
して吸引パッドが大き過ぎたり中子に加工開始孔などが
あると、エア漏れを起こして中子を吸着することができ
ず、逆に小さ過ぎると中子を持上げる際にバランスがと
れなかったり、吸着力が不足して中子を持ち上げられな
かったりする難点がある。

なお、吸引式では前記の難点を解決するため、吸引に関
して各独立した小さな吸引パッドを複数個、面状に配列
して吸着面を構成し、加工開始孔や中子周辺に位置した
吸引パッドにエア漏れがあっても他の吸引パッドで中子
を吸着して保持する構成も研究されている。

この場合に、各吸引パッドの大きさをできるだけ小さく
すれば、それに対応してより小さな中子をも吸着するこ
とができるようになり、また、必要な中子保持力は吸引
パッドの数を増すことで解決できる筈である。

しかし、各吸引パッドを小さくするには限度があり、あ
まり小さくすると（例えばφ２）、それぞれの吸引パッ
ドの取付けやこれらに対する配管が困難になり、また、
細い配管のためにエアの流通抵抗が大きくなって、結局
、各吸引パッド自体でも、また吸着面全体としても充分
な吸着力を得られなくなる。

一方、前記において、配管可能で実用的な吸引パッド（
φ６〜８程度）にするとこれより小さな寸法部分を持つ
中子（例えば、細長い中子）を吸着できない。

発明が解決しようとする課題 この発明は、ある程度大きな中子から、磁性体に限られ
はするが一つの吸引パッドより小さな寸法部分を持つ中
子までを保持でき、吸着した中子の吸着解除が簡単な中
子保持装置の提供を課題とする。

課題を解決するための手段 中子保持装置の吸着面を、吸引パッドと電磁石で構成さ
れたものとする。

作　　　用 吸引パッドは負圧による吸引力で、また、電磁石は断続
が容易な磁力によって中子をそれぞれ吸着する。

実施例 第４図はワイヤ放電加工機１の全体を示し、Ｚ軸２に上
ガイド３、ＵＶ軸駆動装置４、ＡＷＦ装置５および中子
除去装置６を備える。符号７は下アームで先端の前記上
ガイド３と対向する位置に下ガイド８を備える。符号９
はワイヤ、１０は中子回収箱でテーブル１１と共に移動
する。また、このワイヤ放電加工機１はＮＣ制御装置１
２で作動が制御される。

ワイヤ放電加工機１のその他の具体的な構成およびＡＷ
Ｆ装置１５の構成はこれらの作動と共に公知のものであ
る。

中子除去装置６は第３図のように、アーム１３を備え、
破線で示す水平なホームポジション位置と実線で示す垂
直な作動位置とに回動可能とされ、該アーム１３の先端
に中子保持装置１４を備える。

中子保持装置１４は第１，２図のように、器体１５とそ
の下部に固定された電磁石１６、およびそのコア１７の
下面に配置された複数（９個）の吸引パッド１８を有し
、器体１５と電磁石のコア１７にわたって９本のエア通
路１９．２０が貫通して形成されている。

器体１５のエア通路１９は、３本の文通路（−列３個の
吸引パッド１８に対応する）が−本の主通路にまとめら
れ、主通路のそれぞれに真空装置２１　（第３図）と連
通ずるチューブ２２が接続されている。各文通路の末端
は弁座を形成してポル室２３に拡大され、コア１７のエ
ア通路２０に接続している。

電磁石１６はコア１７の回りに励磁コイル２４を備える
。このコイル２４はボビン形に巻がれて樹脂などで完全
に防水され、コア１７の周囲に形成した環状溝に嵌込ま
れている。コア１７のエア通路２０は上端が弁座のよう
に形成されてその部分に弁機能を果すボール２５を受け
ている。

吸引パッド１８は柔軟な弾性を有する合成樹脂板に９個
の貫通孔を設けそれぞれの周囲に下方に拡開するさかず
き形のスカートを形成したもので、各貫通孔の位置をコ
ア１７におけるエア通路の端部に合せて、全体がコア１
７の下面に貼着しである。

各吸引パッド１８の直径は５ｍｍ（φ６）で周縁間の間
隔は約１ｍｍである。

この様にして複数の吸引パッド１８と電磁石１６を備え
た吸着面２６が構成される。

一つの閉鎖図形についてカット加工が終了し、ワーク２
７（第３図）に中子２８が形成されると、ＮＣ制御装置
１２はＡＷＦ装置５でワイヤ９を切断した後、２軸２を
上昇させて中子除去モードとなり、中子除去装置６のア
ーム１３が作動位置に回動され、Ｚ軸２によって中子除
去装置６が下降されてアーム１３先端の中子保持装置１
４の吸着面２６が中子の上面に押圧された位置で停止す
る。

そして、真空装置２１が作動し、また、電磁石１６が励
磁される。

前記の停止はタッチセンサあるいはＮＣ制御装置１２に
設定された中子除去袋ｆ［６の下降距離により制御され
る。

また、中子除去装置６の下降に先だって、カット加工の
終了位置と前記図形のあらかじめ定めた中心位置とから
算出される距離と方向にテーブル１１がわずかに移動さ
れ、中子２３の位置が作動位置にあるアーム１３先端の
吸着面２６の直下となるようにされる。

吸着面２６が押圧されることによって、中子２７は複数
の吸引パッド１８による吸引力と、中子２７が磁性体で
あれば電磁石１６による磁力との合力によって中子保持
装置１４に確実に保持される。このとき、複数の吸引パ
ッド１８のうち、いくつかは中子２７の周縁から外れ、
あるいは加工開始孔の位置に配置されてエア漏れを起こ
すがこれらの吸引パッド１８ではエア通路内部のボール
２５がエア通路１９の弁座まで吸い上げられて真空装置
２１につながる開口を閉鎖してしまうので、すなわち、
各吸引パッド１８は各独立して真空装置２１に接続され
る構成であるから、他の吸引パッド１８の吸引力が減少
することはない。さらに、中子２８が磁性体である場合
は磁力によっても保持される。

次いで、２軸２によって中子除去装置６が上昇され、こ
れにともなって中子２８が吸着面２６に保持されてワー
ク２７から抜き出され、所定位置まで持ち上げられた後
、アーム６が中子２８とともにホームポジションに回動
される。そして、テーブル１１を移動して中子回収箱１
０をホームポジション位置にあるアーム１３先端の直下
とした後、真空装置２１の作動および電磁石１６の励磁
を停止する。これにより、中子２８は中子回収箱１０内
に収容される。

ついで、ＮＣ制御装置１２は次の図形の加工に移行する
。

以上は実施例である。

吸引パッド１８の個数、大きさは任意である。

電磁石の作動を選択的にして、中子が磁性体でない場合
に電磁石の作動を停止するようにしても良い。

発明の効果 吸着面が吸引パッドを備えることにより、非磁性体の中
子をも保持できる。

電磁石の磁力と吸引パッドによる吸引力とを合わせて比
較的大きな中子でも強力に保持することができる。また
、磁性体であれば吸引パッドでは保持が出来ない小さな
中子でも保持できる。

励磁の断続および吸引力の断続で中子の保持と解放を簡
単に、かつ、確実に行うことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は一部を断面にして示す正面図、第２図は下面図
、第３図は要部の正面図、第４図は全体の斜視図である
。 ６・・・中子除去装置、１４・・・中子保持装置、１８
・・・吸引パッド、１６・・・電磁石、２６・・・吸着
面、２７・・・中子。 第 ３ ８

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　吸着面を吸引パッドと電磁石で形成していることを特
   徴とした中子保持装置。