JPH0325725A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体およびその製造方法Info
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- JPH0325725A JPH0325725A JP16204789A JP16204789A JPH0325725A JP H0325725 A JPH0325725 A JP H0325725A JP 16204789 A JP16204789 A JP 16204789A JP 16204789 A JP16204789 A JP 16204789A JP H0325725 A JPH0325725 A JP H0325725A
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- Japan
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- roller
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- head
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［概要］
磁気記録媒体およびその製造方法に関し、ヘッドと媒体
の吸着が生じず、またヘッドと媒体の接触によるヘッド
クラッシュの発生が少ない磁気記録媒体およびその製造
方法を提供することを目的とし、 基板上に少なくとも磁性層および保護層を有する磁気記
録媒体において、前記基板と１，てコンタクトスタート
ストップゾーンの表面粗さがデータゾーンの表面粗さよ
り大きい基板を有するように構成し、 また、他の発明は基板上に少なくとも磁性層および保護
層を順次形或する磁気記録媒体の製造方法において、前
記基板に研磨テープをローラで押しつけてテクスチャー
加工するとき、前記ローラの加工用ゴムの硬度またはロ
ーラの外径を変更することにより、基板のコンタク１・
スタートストップゾーンの表面粗さをデータゾーンの表
面粗さより大きくなるように構成した。
の吸着が生じず、またヘッドと媒体の接触によるヘッド
クラッシュの発生が少ない磁気記録媒体およびその製造
方法を提供することを目的とし、 基板上に少なくとも磁性層および保護層を有する磁気記
録媒体において、前記基板と１，てコンタクトスタート
ストップゾーンの表面粗さがデータゾーンの表面粗さよ
り大きい基板を有するように構成し、 また、他の発明は基板上に少なくとも磁性層および保護
層を順次形或する磁気記録媒体の製造方法において、前
記基板に研磨テープをローラで押しつけてテクスチャー
加工するとき、前記ローラの加工用ゴムの硬度またはロ
ーラの外径を変更することにより、基板のコンタク１・
スタートストップゾーンの表面粗さをデータゾーンの表
面粗さより大きくなるように構成した。
［産業上の利用分野コ
本発明は、磁気記録媒体およびその製造方法に関する。
近年、磁気ディスク装置においては、高密度化に伴って
ヘッドの低浮上化によりデータゾーンではヘッドと媒体
の空隙が狭くなっている。ヘッドと媒体が接触して情報
が破損されるヘッドクラッシュを防止する．ためには、
浮上マージンを拡げることが必要であり、このために、
基板の全面を均一に平滑加工すると、逆にコンタクトス
タートストップ（Ｃ Ｓ Ｓ）ゾーンでヘッドと媒体が
吸着するという現象が発生ずる。
ヘッドの低浮上化によりデータゾーンではヘッドと媒体
の空隙が狭くなっている。ヘッドと媒体が接触して情報
が破損されるヘッドクラッシュを防止する．ためには、
浮上マージンを拡げることが必要であり、このために、
基板の全面を均一に平滑加工すると、逆にコンタクトス
タートストップ（Ｃ Ｓ Ｓ）ゾーンでヘッドと媒体が
吸着するという現象が発生ずる。
したがって、ヘッドクラッシコおよび吸着を防ｄユする
ために、媒体の表面粗さを制御することが必要となる。
ために、媒体の表面粗さを制御することが必要となる。
［従来の技術］
従来の基板の加工方法を第８図に示す。
第８図において、１は硬質で非磁性の基板、例えばアル
ミニウム板にＮｉ−Ｐメッキを施し、研摩された板、、
またはガラス板、２は基板１−の表面に粗さを与えるた
めのテクスチャー加工処理を施す研磨テープ、３は研磨
テープ２を所定圧力で基板１に押しつける加工口−ラで
ある。
ミニウム板にＮｉ−Ｐメッキを施し、研摩された板、、
またはガラス板、２は基板１−の表面に粗さを与えるた
めのテクスチャー加工処理を施す研磨テープ、３は研磨
テープ２を所定圧力で基板１に押しつける加工口−ラで
ある。
加工ローラ３は第９図１：′．示すように、シャフト４
と、ステンレス製のローラ本体５と、加工用ゴム６とに
より構成されτいる。加工用ゴム６としては硬度が同一
のものを仲用しでいる。また、加工ローラ３の外径は同
一寸法となっている。
と、ステンレス製のローラ本体５と、加工用ゴム６とに
より構成されτいる。加工用ゴム６としては硬度が同一
のものを仲用しでいる。また、加工ローラ３の外径は同
一寸法となっている。
第８図の矢印Ａで示す方向に、基板１を回転させながら
、加工口・−ラ３に所定の圧力を与えて研磨テーブ２を
基板１に押しつけて矢印Ｂで示す方向に研磨テープ２を
搬送すると、基板１の表面には第１０図に示すような均
一な大ぎさの粗さが形成される。
、加工口・−ラ３に所定の圧力を与えて研磨テーブ２を
基板１に押しつけて矢印Ｂで示す方向に研磨テープ２を
搬送すると、基板１の表面には第１０図に示すような均
一な大ぎさの粗さが形成される。
このようにしてテクスチャー加工処理が施さむた基板１
上には、スパッタリングなどにより例えばＣｒよりなる
下地層が形成され、下地層の上にはＣｏ合金系、例えば
ＣｏＮ ｉ Ｃ ｒなどの磁性層が形成され、磁性層の
上にはＣａｔｂｏｎ又はＺｒＯ２などの保護層が形成さ
れる。
上には、スパッタリングなどにより例えばＣｒよりなる
下地層が形成され、下地層の上にはＣｏ合金系、例えば
ＣｏＮ ｉ Ｃ ｒなどの磁性層が形成され、磁性層の
上にはＣａｔｂｏｎ又はＺｒＯ２などの保護層が形成さ
れる。
また、保護層の上には例えばシリコンオイルなどの潤滑
油が塗布される。こうして製造された磁気記録媒体の断
面を第１０図に示す。
油が塗布される。こうして製造された磁気記録媒体の断
面を第１０図に示す。
第ｌＯ図において、１は基板、７はＣｒなとの下地層、
８はＣｏ合金系などの磁性層、９はＣａｒｂｏｎ又はＺ
ｒ０２などの保護層である。
８はＣｏ合金系などの磁性層、９はＣａｒｂｏｎ又はＺ
ｒ０２などの保護層である。
［発明が解決しようとする課題１
しかしながら、このような従来の磁気記録媒体およびそ
の製造方法にあっては、媒体表面の粗さはＣＳＳゾーン
もデータゾーンも同一の大きさであるため、ヘッドの低
浮上化によりデータゾーンでヘッドと媒体の空隙が狭く
なると、ヘッドと媒体が接触して情報が破損されるヘッ
ドクラッシュが発生するという問題点があり、また、基
板の全面を均一 に平滑加工する堅いヘッドと媒体が吸
着するという問題点があった。
の製造方法にあっては、媒体表面の粗さはＣＳＳゾーン
もデータゾーンも同一の大きさであるため、ヘッドの低
浮上化によりデータゾーンでヘッドと媒体の空隙が狭く
なると、ヘッドと媒体が接触して情報が破損されるヘッ
ドクラッシュが発生するという問題点があり、また、基
板の全面を均一 に平滑加工する堅いヘッドと媒体が吸
着するという問題点があった。
本発明は、このような従来の問題点に鑑みてなされたも
のーζ′・あって、・′゛・、ツド２：媒体の吸着が？
ｔしず、またへ・ソドと媒体の接触にｊ、るヘッドクウ
・・ノシュの発生が少ない磁気記録媒体およびその製造
方法を提供するこ２、を［１的，ｌ：（，Ｔ：いる。
のーζ′・あって、・′゛・、ツド２：媒体の吸着が？
ｔしず、またへ・ソドと媒体の接触にｊ、るヘッドクウ
・・ノシュの発生が少ない磁気記録媒体およびその製造
方法を提供するこ２、を［１的，ｌ：（，Ｔ：いる。
［課題を解決するための千段」
第１図（Ａ＞， （Ｂ）は本発明の原理説明Ｉ匈であ
る。
る。
第１図（Ａ）において、３（；は基板１１−上に構成さ
れる磁性層、３７は保護層、１１はコンタクトスタート
ストップゾ一二、３ ３０表面粗さがデータゾー・ン３
９の表面粗さより大きい基板である。
れる磁性層、３７は保護層、１１はコンタクトスタート
ストップゾ一二、３ ３０表面粗さがデータゾー・ン３
９の表面粗さより大きい基板である。
次に、第１図（ｉ３）におｉ，１て、Ｓ２，Ｓ３（よ基
板１１上に少なくとも＠ｎＭ３６および保護Ｋ｝３７を
順次形成する工程、３１は前記基板１１に研磨テープを
「１−ラで押；，一つけ′？：テクスチャ・一加工する
とき、前記ローラの加工用ゴムの精度またはローラの外
径を変更することにより、基板１１のコンタクトスター
トストップゾーン３８の表面粗さをデータゾーン３９の
表面粗さより大きくなるように形成する工程である。
板１１上に少なくとも＠ｎＭ３６および保護Ｋ｝３７を
順次形成する工程、３１は前記基板１１に研磨テープを
「１−ラで押；，一つけ′？：テクスチャ・一加工する
とき、前記ローラの加工用ゴムの精度またはローラの外
径を変更することにより、基板１１のコンタクトスター
トストップゾーン３８の表面粗さをデータゾーン３９の
表面粗さより大きくなるように形成する工程である。
［作用］
基板に研磨テープを押しつけるローラの加工用ゴムの硬
度またはローラの外径を変えるようにしたため、基板の
コンタクトスタートストップ（ＣＳＳ）ゾーンの表面粗
さは、データゾーンの表面粗さより大きくなる。したが
って、この基板を用いて製造された磁気記録媒体のＣＳ
Ｓゾーンの表面粗さは大きく、データゾーンの表面粗さ
は小さくなる。
度またはローラの外径を変えるようにしたため、基板の
コンタクトスタートストップ（ＣＳＳ）ゾーンの表面粗
さは、データゾーンの表面粗さより大きくなる。したが
って、この基板を用いて製造された磁気記録媒体のＣＳ
Ｓゾーンの表面粗さは大きく、データゾーンの表面粗さ
は小さくなる。
したがって、ヘッドと媒体の吸着を防止することができ
、また、ヘッドと媒体が接触して情報が破損されるヘッ
ドクラッシュの発生は少なくなる。
、また、ヘッドと媒体が接触して情報が破損されるヘッ
ドクラッシュの発生は少なくなる。
［実施例］
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第２図〜第７図は本発明の一実施例を示す図である。
第２図は基板の加工装置を示す図である。
第２図において、１１は矢印Ａで示す方向に回転する基
板、１２は研磨テープ１３を矢印Ｂで示す方向に供給す
る供給リール、１４は研磨テープ１３を所定の圧力で基
板１１に押しつける加工ローラ、１５は研磨テープ１３
を巻き取る巻取リリール、１６は研磨液または冷却潤滑
剤を供給するノズルである。なお、ｌ７はガイドローラ
、１８はキャプスタン、１９はキャプスタンピンチロー
ラである。
板、１２は研磨テープ１３を矢印Ｂで示す方向に供給す
る供給リール、１４は研磨テープ１３を所定の圧力で基
板１１に押しつける加工ローラ、１５は研磨テープ１３
を巻き取る巻取リリール、１６は研磨液または冷却潤滑
剤を供給するノズルである。なお、ｌ７はガイドローラ
、１８はキャプスタン、１９はキャプスタンピンチロー
ラである。
次に、前記加エローラ１４の断面．を第３図に示す。
第３図において、２０はシャフト、２１はシャフト２０
はベアリング２２を介して回転自在に支持されるローラ
本体、２３はローラ本体２１土に設けた加工用ゴム、２
４はローラ本体２１上に設けられ加工用ゴム２３より硬
度が低い加工用ゴムである。一方の加工用ゴム２４は基
板１１のデータゾーン用のもので例えば硬度を４０°と
する。
はベアリング２２を介して回転自在に支持されるローラ
本体、２３はローラ本体２１土に設けた加工用ゴム、２
４はローラ本体２１上に設けられ加工用ゴム２３より硬
度が低い加工用ゴムである。一方の加工用ゴム２４は基
板１１のデータゾーン用のもので例えば硬度を４０°と
する。
また、他方の加工用ゴム２３は基板１１のＣＳＳゾーン
用のもので、例えば硬度を６０°〜７０°とす６。
用のもので、例えば硬度を６０°〜７０°とす６。
このように、加工用ゴム２３．２４の硬度を可変とする
こεにより、基板１１のＣＳＳゾーンの表面粗さとデー
タゾ・−ンの表面粗さを変えることができるようにし゛
〔ある。
こεにより、基板１１のＣＳＳゾーンの表面粗さとデー
タゾ・−ンの表面粗さを変えることができるようにし゛
〔ある。
加工ローラ１４としては、前記のものに限らず、第４図
に示すよう（ご、如エローラ２５の外径を変えるように
（一でも良い。
に示すよう（ご、如エローラ２５の外径を変えるように
（一でも良い。
すなわち、ＣＳＳゾーン用の加］二口−ラ２５の外径を
Ｉ、１、データゾーン用の加工ローラ２５の外径をＬ２
とすると、ＬＬ＞Ｌ２となるように形成されている。な
お、加工用ゴム２６としては、同一硬度のものを使用す
る。
Ｉ、１、データゾーン用の加工ローラ２５の外径をＬ２
とすると、ＬＬ＞Ｌ２となるように形成されている。な
お、加工用ゴム２６としては、同一硬度のものを使用す
る。
前記加エローラ１４、または加’１１ｕ−ラ２５を用い
た加工装置により基板１１は、ＣＳＳゾーンの表面粗さ
がデータゾーンのそれより大きくなるようにテクスチャ
ー加工処理される。
た加工装置により基板１１は、ＣＳＳゾーンの表面粗さ
がデータゾーンのそれより大きくなるようにテクスチャ
ー加工処理される。
次に、このようにテクスチャー加工処理された基板１，
１を用いて磁気記録媒体を製造する装置として、スパッ
タ装置を第５図に示す。
１を用いて磁気記録媒体を製造する装置として、スパッ
タ装置を第５図に示す。
第５図において、２７はスパッタ装置を構成する真空容
器であり、この真空容器２７内には下地層（例えば、Ｃ
ｒ層）を形成するための一対の第１ターゲット２８．２
９と、磁性層（例えば、ＣＯ合金系層）を形ｔｔるため
の一対の第２ターゲット３０．３１と、保護層（例えば
Ｃ ａｒｂｏｎ又はＺｒＯ２層）を形成するための一対
の第３ターゲット３２．３３が矢印Ｃで示す基板１１の
搬送方向に順次配置されている。
器であり、この真空容器２７内には下地層（例えば、Ｃ
ｒ層）を形成するための一対の第１ターゲット２８．２
９と、磁性層（例えば、ＣＯ合金系層）を形ｔｔるため
の一対の第２ターゲット３０．３１と、保護層（例えば
Ｃ ａｒｂｏｎ又はＺｒＯ２層）を形成するための一対
の第３ターゲット３２．３３が矢印Ｃで示す基板１１の
搬送方向に順次配置されている。
次に、磁気記録媒体の製造方法を説明する。
まず、第２図の矢印Ａで示す方向に基板１１を回転させ
た状態で、所定の圧力で加エローラ１４または加工ロー
ラ２５を介して研磨テープ１３を基板１１に押（７つけ
て基板１１にテクスチャー加工処理を行なう。加エロー
ラ１４の加工用ゴム２３と加工用ゴム２４の硬度が異な
ることから、また、加エローラ２５の外径が異なること
から、基板１１のＣＳＳゾーンの表面粗さは、基板１１
のデータゾーンのそれより大きくなる（第６図、参照）
。
た状態で、所定の圧力で加エローラ１４または加工ロー
ラ２５を介して研磨テープ１３を基板１１に押（７つけ
て基板１１にテクスチャー加工処理を行なう。加エロー
ラ１４の加工用ゴム２３と加工用ゴム２４の硬度が異な
ることから、また、加エローラ２５の外径が異なること
から、基板１１のＣＳＳゾーンの表面粗さは、基板１１
のデータゾーンのそれより大きくなる（第６図、参照）
。
このように、表面粗さがｃｓｓｙ−ンとデータゾーンに
よって異なる基板１１を用いて、第５図のスパッタ装置
により磁気記録媒体を形成する。
よって異なる基板１１を用いて、第５図のスパッタ装置
により磁気記録媒体を形成する。
まず、スパッタリングにより第１ターゲット２８．２９
から例えばＣｒよりなる下地層を基板１１上に形威し、
次に、第２ターゲット３０，３１からＣｏ合金系、例え
ばＣｏＮｉＣｒなどの磁性層を下地層上に形成し、次に
、第３ターゲット３２．３３から例えばＣｉｒｂｏｎ，
Ｚ ｒ ＣＯ２などの保護層を磁性層上に形成する。
から例えばＣｒよりなる下地層を基板１１上に形威し、
次に、第２ターゲット３０，３１からＣｏ合金系、例え
ばＣｏＮｉＣｒなどの磁性層を下地層上に形成し、次に
、第３ターゲット３２．３３から例えばＣｉｒｂｏｎ，
Ｚ ｒ ＣＯ２などの保護層を磁性層上に形成する。
このようにして、製造された磁気記録媒体３４の断面を
第６図に示す。
第６図に示す。
第６図において、１１はＣＳＳゾーンの表面粗さがデー
タゾーンのそれより大きい基板、３５は例えばＣｒより
なる下地層、３６はＣｏ合金系よりなる磁性層、３７は
例えばＣ ｕｂｏｎ， Ｚ ｒ ０ ２などよりなる保
護層である。基板１１の表面粗さをＣＳＳゾーン３８と
データゾーン３９により異なるようにしたため、、媒体
３４の表面相さもＣＳＳゾーン３８ではデータゾ・一ン
３９より大きくなっている（第７図、参照）。
タゾーンのそれより大きい基板、３５は例えばＣｒより
なる下地層、３６はＣｏ合金系よりなる磁性層、３７は
例えばＣ ｕｂｏｎ， Ｚ ｒ ０ ２などよりなる保
護層である。基板１１の表面粗さをＣＳＳゾーン３８と
データゾーン３９により異なるようにしたため、、媒体
３４の表面相さもＣＳＳゾーン３８ではデータゾ・一ン
３９より大きくなっている（第７図、参照）。
次に、データゾーン３９用の加工用ゴム２４の硬度を４
００ＳＣＳＳゾーン３８用の加工用ゴム２３の硬度を５
０°．６００．７０°としたときの、中心線平均粗さ（
Ｒａ）、ヘッド浮上立上り、吸着限界潤滑剤厚、および
ＣＳＳ強度を表に示す。
００ＳＣＳＳゾーン３８用の加工用ゴム２３の硬度を５
０°．６００．７０°としたときの、中心線平均粗さ（
Ｒａ）、ヘッド浮上立上り、吸着限界潤滑剤厚、および
ＣＳＳ強度を表に示す。
表から明らかなように、デー・タゾーン３９用の加工用
ゴム２４の硬度を４０°、ＣＳＳゾーン３８用の加工用
ゴム２３の硬度を６０°〜７０°とすることにより、吸
着現象を回避するここができ、ヘッドと媒体３４が接触
して情報が破損されるヘッドクラッシュを少なくするこ
とができる。
ゴム２４の硬度を４０°、ＣＳＳゾーン３８用の加工用
ゴム２３の硬度を６０°〜７０°とすることにより、吸
着現象を回避するここができ、ヘッドと媒体３４が接触
して情報が破損されるヘッドクラッシュを少なくするこ
とができる。
［発明の効果］
以上説明してきたように、本発明によれば、基板のＣＳ
Ｓゾーンの表面粗さを大きく、基板のデータゾーンの表
面粗さを小さくするようにしたため、ヘッドと媒体の吸
着を防止することができ、また、ヘッドと媒体が接触し
て情報が破損されるヘッドクラッシュを少なくすること
ができる。
Ｓゾーンの表面粗さを大きく、基板のデータゾーンの表
面粗さを小さくするようにしたため、ヘッドと媒体の吸
着を防止することができ、また、ヘッドと媒体が接触し
て情報が破損されるヘッドクラッシュを少なくすること
ができる。
第１図（Ａ），（Ｂ）は本発明の原理説明図、第２図は
基板の加工装置を示す図、 第３図はローラの断面図、 第４図は他のローラ断而図、 第５図はスバッタ装置を示す図、 第６図は媒体の部分断面図、 第７図は媒体の外観図、 第８図は従来の基板の加工方法の説明図、第９図は従来
のローラの断面図、 第１０図は従来の媒体の断面図である。 図中、 １１・・・基板、 １２・・・供給リール、 １３・・・研磨テープ、 １４・・・加エローラ、 １５・・・巻取リローラ、 １６・・・ノズル、 １７・・・ガイドローラ、 １８・・・キャプスタン、 ｌ９・・・キャプスタンピンチ口ーラ、２０・・・シャ
フト、 ２１・・・ローラ本体、 ２２・・・ベアリング、 ２３．２４・・・加工用ゴム、 ２５・・・加工ローラ、 ２６・・・加工■ゴム、 ２７・・・真空容器、 ２８．２９・・・第１ターゲッ！・、 ３０．３１−・・・第２ターゲッ１・、２，３３・・・
第３ターゲッ ４・・・磁気記録媒体、 ５・・・下地層、 ６・・・磁性層、 ７・・・保護層、 ８・・・ＣＳＳゾーン、 ９・・・データゾーン。 ト、
基板の加工装置を示す図、 第３図はローラの断面図、 第４図は他のローラ断而図、 第５図はスバッタ装置を示す図、 第６図は媒体の部分断面図、 第７図は媒体の外観図、 第８図は従来の基板の加工方法の説明図、第９図は従来
のローラの断面図、 第１０図は従来の媒体の断面図である。 図中、 １１・・・基板、 １２・・・供給リール、 １３・・・研磨テープ、 １４・・・加エローラ、 １５・・・巻取リローラ、 １６・・・ノズル、 １７・・・ガイドローラ、 １８・・・キャプスタン、 ｌ９・・・キャプスタンピンチ口ーラ、２０・・・シャ
フト、 ２１・・・ローラ本体、 ２２・・・ベアリング、 ２３．２４・・・加工用ゴム、 ２５・・・加工ローラ、 ２６・・・加工■ゴム、 ２７・・・真空容器、 ２８．２９・・・第１ターゲッ！・、 ３０．３１−・・・第２ターゲッ１・、２，３３・・・
第３ターゲッ ４・・・磁気記録媒体、 ５・・・下地層、 ６・・・磁性層、 ７・・・保護層、 ８・・・ＣＳＳゾーン、 ９・・・データゾーン。 ト、
Claims (2)
- （１）基板（１１）上に少なくとも磁性層（３６）およ
び保護層（３７）を有する磁気記録媒体において、前記
基板（１１）としてコンタクトスタートストップゾーン
（３８）の表面粗さがデータゾーン（３９）の表面粗さ
より大きい基板（１１）を有することを特徴とする磁気
記録媒体。 - （２）基板（１１）上に少なくとも磁性層（３６）およ
び保護層（３７）を順次形成する磁気記録媒体の製造方
法において（Ｓ２）、（Ｓ３）、前記基板（１１）に研
磨テープをローラで押しつけてテクスチャー加工すると
き、前記ローラの加工用ゴムの硬度またはローラの外径
を変更することにより、基板（１１）のコンタクトスタ
ートストップゾーン（３８）の表面粗さをデータゾーン
（３９）の表面粗さより大きくなるように（Ｓ１）した
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16204789A JPH0325725A (ja) | 1989-06-23 | 1989-06-23 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16204789A JPH0325725A (ja) | 1989-06-23 | 1989-06-23 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0325725A true JPH0325725A (ja) | 1991-02-04 |
Family
ID=15747085
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16204789A Pending JPH0325725A (ja) | 1989-06-23 | 1989-06-23 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0325725A (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53123906A (en) * | 1977-04-05 | 1978-10-28 | Fujitsu Ltd | Magnetic disc |
| JPS60231919A (ja) * | 1984-05-02 | 1985-11-18 | Mitsubishi Electric Corp | 磁気デイスク |
| JPS63249933A (ja) * | 1987-04-03 | 1988-10-17 | Hitachi Ltd | 磁気デイスク媒体 |
| JPS63279425A (ja) * | 1987-05-11 | 1988-11-16 | Nec Corp | 磁気ディスク媒体 |
-
1989
- 1989-06-23 JP JP16204789A patent/JPH0325725A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53123906A (en) * | 1977-04-05 | 1978-10-28 | Fujitsu Ltd | Magnetic disc |
| JPS60231919A (ja) * | 1984-05-02 | 1985-11-18 | Mitsubishi Electric Corp | 磁気デイスク |
| JPS63249933A (ja) * | 1987-04-03 | 1988-10-17 | Hitachi Ltd | 磁気デイスク媒体 |
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