JPH0325770B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0325770B2 JPH0325770B2 JP61077500A JP7750086A JPH0325770B2 JP H0325770 B2 JPH0325770 B2 JP H0325770B2 JP 61077500 A JP61077500 A JP 61077500A JP 7750086 A JP7750086 A JP 7750086A JP H0325770 B2 JPH0325770 B2 JP H0325770B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photopolymer
- layer
- light
- exposure
- coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 77
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 31
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 28
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 claims description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 9
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 3
- -1 silver halides Chemical class 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 2
- OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N Ipazine Chemical compound CCN(CC)C1=NC(Cl)=NC(NC(C)C)=N1 OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000000994 depressogenic effect Effects 0.000 description 1
- 150000008049 diazo compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/24—Curved surfaces
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/095—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having more than one photosensitive layer
- G03F7/0952—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having more than one photosensitive layer comprising silver halide or silver salt based image forming systems, e.g. for camera speed exposure
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、パターンを施したフオトポリマーコ
ーテイングを印刷ローラー上に形成する方法に係
る。この方法に於いては、フオトポリマー層に適
用されて密着している除去可能な感光性の継ぎ目
のない中間層を第1段階で露光し任意に現象す
る。これによつて、本質的に前記中間層に所望の
パターンを施した不透明画像が形成される。続い
て、中間層に形成された画像を介してフオトポリ
マー層を露光し、この露光の後不透明な中間層部
分及びフオトポリマー層の可溶性部分を除去す
る。
ーテイングを印刷ローラー上に形成する方法に係
る。この方法に於いては、フオトポリマー層に適
用されて密着している除去可能な感光性の継ぎ目
のない中間層を第1段階で露光し任意に現象す
る。これによつて、本質的に前記中間層に所望の
パターンを施した不透明画像が形成される。続い
て、中間層に形成された画像を介してフオトポリ
マー層を露光し、この露光の後不透明な中間層部
分及びフオトポリマー層の可溶性部分を除去す
る。
この種の公知の方法に於いては、フオトポリマ
ー層で被覆された印刷ローラーの周りでその端部
が接触するか又はオーバーラツプするパターンフ
イルムを適用し、次いでその全体の周りを透明フ
イルムの薄い層で包囲し、このフイルムの下を真
空にしてパターンフイルムを均一な圧力でフオト
ポリマーコーテイングに圧着することが知られて
いる。この状態で露光を行い、包囲フイルム及び
パターンフイルムを除去する。
ー層で被覆された印刷ローラーの周りでその端部
が接触するか又はオーバーラツプするパターンフ
イルムを適用し、次いでその全体の周りを透明フ
イルムの薄い層で包囲し、このフイルムの下を真
空にしてパターンフイルムを均一な圧力でフオト
ポリマーコーテイングに圧着することが知られて
いる。この状態で露光を行い、包囲フイルム及び
パターンフイルムを除去する。
露光後にできるフオトポリマーコーテイングの
可溶性部分を水洗除去することによつて、パター
ンを施した印刷ローラーが製造される。
可溶性部分を水洗除去することによつて、パター
ンを施した印刷ローラーが製造される。
光硬化ポリマーの場合には、これらは非露光部
分である。しかしながら光分解型ポリマーの場合
にはこれらは露光部分である。
分である。しかしながら光分解型ポリマーの場合
にはこれらは露光部分である。
フオトポリマー層を塗布した回転ローラーに沿
つてパターンフイルムを巻き戻し、スリツトを介
して接触表面の位置で露光することもまた知られ
ている。
つてパターンフイルムを巻き戻し、スリツトを介
して接触表面の位置で露光することもまた知られ
ている。
この公知の方法に於いて、光硬化型及び光分解
型フオトポリマーコーテイングを使う場合には、
パターン化の不完全性がパターンの接触点で生起
する。その結果その位置での印刷結果は不利益に
影響を受ける。
型フオトポリマーコーテイングを使う場合には、
パターン化の不完全性がパターンの接触点で生起
する。その結果その位置での印刷結果は不利益に
影響を受ける。
光硬化型ポリマー及びオーバーラツプしている
両端を有するパターンフイルムの場合には、露光
前いくぶん弾力性であるフオトポリマー層がオー
バーラツプの位置でいくぶん窪むこととなる。こ
の窪みは硬化により露光部分の位置で固定され
る。
両端を有するパターンフイルムの場合には、露光
前いくぶん弾力性であるフオトポリマー層がオー
バーラツプの位置でいくぶん窪むこととなる。こ
の窪みは硬化により露光部分の位置で固定され
る。
接触両端を有するパターンフイルムの場合に
は、パターンフイルム中のパターンの透明部分に
よつては光は前記端部の位置で散乱又は反射され
る。その結果不完全な光の透過がその位置で生起
する。一方に於いて、前記端部の位置に於いて、
パターンフイルムのパターンの光透過を意図して
いない(即ち黒色の)部分にいくぶんかの光が必
然的に透過するようになる。
は、パターンフイルム中のパターンの透明部分に
よつては光は前記端部の位置で散乱又は反射され
る。その結果不完全な光の透過がその位置で生起
する。一方に於いて、前記端部の位置に於いて、
パターンフイルムのパターンの光透過を意図して
いない(即ち黒色の)部分にいくぶんかの光が必
然的に透過するようになる。
光硬化型フオトポリマー及び光分解型フオトポ
リマーいずれの場合に於いても、接触端部の位置
で、硬化部分のいくらかが必然的に流し去られる
こととなり、洗い流されるべき軟い部分が除去さ
れにくくなる。
リマーいずれの場合に於いても、接触端部の位置
で、硬化部分のいくらかが必然的に流し去られる
こととなり、洗い流されるべき軟い部分が除去さ
れにくくなる。
巻返し可能なパターンフイルム及びスリツト露
光の場合、露光スリツトのスリツト幅のためパタ
ーンの結合位置で二重露光が常に生起する。その
結果、ポリマー層の露光部分及び非露光部分の間
のスロープフオーメーシヨン(slope
formation)が影響を受け、そのため光硬化型及
び光分解型フオトポリマーコーテイング用パター
ンの残り部分に於ける単一露光に対して偏りが生
じる。
光の場合、露光スリツトのスリツト幅のためパタ
ーンの結合位置で二重露光が常に生起する。その
結果、ポリマー層の露光部分及び非露光部分の間
のスロープフオーメーシヨン(slope
formation)が影響を受け、そのため光硬化型及
び光分解型フオトポリマーコーテイング用パター
ンの残り部分に於ける単一露光に対して偏りが生
じる。
本発明の第一の目的は、パターンの高さ、深さ
及びスロープフオーメーシヨンに偏りがある長手
方向ゾーンをもたないフオトポリマーコーテイン
グを有するパターンを施した印刷ローラーを得る
方法を提供することである。
及びスロープフオーメーシヨンに偏りがある長手
方向ゾーンをもたないフオトポリマーコーテイン
グを有するパターンを施した印刷ローラーを得る
方法を提供することである。
本発明によると上記目的は、比較的厚さのある
可撓性フオトポリマー層でフオトポリマー層を形
成し、第1の段階で前記中間層の周りに適用され
たパターンフイルムを介して露光を行い、この第
1段後のパターンフイルムを除去し、フオトポリ
マー層の窪み部分がもとの状態に戻るまで前記フ
オトポリマー層の露光を延期することによつて達
成される。
可撓性フオトポリマー層でフオトポリマー層を形
成し、第1の段階で前記中間層の周りに適用され
たパターンフイルムを介して露光を行い、この第
1段後のパターンフイルムを除去し、フオトポリ
マー層の窪み部分がもとの状態に戻るまで前記フ
オトポリマー層の露光を延期することによつて達
成される。
比較的厚さのある可撓性フオトポリマー層と
は、1〜10mmの厚さ好ましくは2〜5mmの厚さを
有する可撓性フオトポリマー層をいう。
は、1〜10mmの厚さ好ましくは2〜5mmの厚さを
有する可撓性フオトポリマー層をいう。
このようにして印刷ローラー上にフオトポリマ
ーコーテイングのパターンが形成される。
ーコーテイングのパターンが形成される。
前記継ぎ目のない中間層の下側に存在するフオ
トポリマーコーテイングの部分を実質的に変換し
ないで継ぎ目のない中間層に所望の画像インフオ
ーメーシヨンを得るためには、感光性中間層とフ
オトポリマー層表面との間に光フイルター層を設
けるのが良い。
トポリマーコーテイングの部分を実質的に変換し
ないで継ぎ目のない中間層に所望の画像インフオ
ーメーシヨンを得るためには、感光性中間層とフ
オトポリマー層表面との間に光フイルター層を設
けるのが良い。
このようにして、第1の露光の間に感光性中間
層にのみ画像を確実に形成することが可能であ
る。
層にのみ画像を確実に形成することが可能であ
る。
光フイルター層は便宜上フオトポリマー層表面
に継ぎ目のないように適用される。
に継ぎ目のないように適用される。
感光性中間層は、たとえばジアゾ化合物、ハロ
ゲン化銀もしくは感光性ポリマーをベースとして
形成される層であり、スプレー法、スプレツダー
コーテイングもしくは転写コーテイングによつて
形成され得る。
ゲン化銀もしくは感光性ポリマーをベースとして
形成される層であり、スプレー法、スプレツダー
コーテイングもしくは転写コーテイングによつて
形成され得る。
感光性中間層は便宜上、フオトポリマー層より
もある種の露光に対してはるかに敏感である。
もある種の露光に対してはるかに敏感である。
特に、異つた波長の光を第1及び第2の段階で
露光に使用した場合には良い結果が得られる。第
1及び第2の段階で同じ波長の光を露光に使用す
ることもできるが、しかしながらこの場合、中間
層はある波長の光に対しフオトポリマー層よりも
はるかに感度が良いものでなくてはならない。
露光に使用した場合には良い結果が得られる。第
1及び第2の段階で同じ波長の光を露光に使用す
ることもできるが、しかしながらこの場合、中間
層はある波長の光に対しフオトポリマー層よりも
はるかに感度が良いものでなくてはならない。
本発明はまたパターンを施されたフオトポリマ
ーコーテイングを有する印刷ローラーにも係る。
この印刷ローラーは、フオトポリマーコーテイン
グに対して押圧されたパターンフイルムを介して
フオトポリマーコーテイングを露光し、続いてパ
ターンフイルム及びフオトポリマーコーテイング
の可溶性部分を除去することによつて形成され、
本発明により、洗浄除去後に得られるフオトポリ
マーコーテイングが、他の比較的不溶性のフオト
ポリマー部分よりもより低いクリアランス高さ及
び/又は異つた側面幅を有する不溶性フオトポリ
マー部分の長手方向ゾーンを有していないことを
特徴とする。
ーコーテイングを有する印刷ローラーにも係る。
この印刷ローラーは、フオトポリマーコーテイン
グに対して押圧されたパターンフイルムを介して
フオトポリマーコーテイングを露光し、続いてパ
ターンフイルム及びフオトポリマーコーテイング
の可溶性部分を除去することによつて形成され、
本発明により、洗浄除去後に得られるフオトポリ
マーコーテイングが、他の比較的不溶性のフオト
ポリマー部分よりもより低いクリアランス高さ及
び/又は異つた側面幅を有する不溶性フオトポリ
マー部分の長手方向ゾーンを有していないことを
特徴とする。
ここでクリアランス高さとは、不溶性ポリマー
部分の最も高い面とそれに隣接するリセスの表面
との間の距離をいう。
部分の最も高い面とそれに隣接するリセスの表面
との間の距離をいう。
他の不溶性フオトポリマー部分の表面を包含す
るシリンダー状表面に存在しない頂上面をもつ不
溶性フオトポリマー部分が存在しないため、この
種の印刷ローラーの印刷結果は公知の印刷ローラ
ーと対比してかなり改善されている。
るシリンダー状表面に存在しない頂上面をもつ不
溶性フオトポリマー部分が存在しないため、この
種の印刷ローラーの印刷結果は公知の印刷ローラ
ーと対比してかなり改善されている。
光分解型フオトポリマーコーテイングを使用す
る場合、不溶性フオトポリマー部分の表面はシリ
ンダー状表面に位置するが、これらのフオトポリ
マー部分に隣接するところでは同じ厚さのポリマ
ー層がせいぜい常にリセス中に存在するだけであ
る。これにより同様によい印刷結果が得られる。
る場合、不溶性フオトポリマー部分の表面はシリ
ンダー状表面に位置するが、これらのフオトポリ
マー部分に隣接するところでは同じ厚さのポリマ
ー層がせいぜい常にリセス中に存在するだけであ
る。これにより同様によい印刷結果が得られる。
これと同じことが、同じ側面幅を事実上有する
全てのフオトポリマー部分に適用できる。
全てのフオトポリマー部分に適用できる。
第1図に於いて、金属印刷ローラー1に均一な
厚さを有する光硬化型のフオトポリマーコーテイ
ング2が配置されている。
厚さを有する光硬化型のフオトポリマーコーテイ
ング2が配置されている。
フオトポリマーコーテイング2の表面には、ス
プレツダーにより塗布されたハロゲン化銀エマル
ジヨンの継ぎ目のない感光性中間層3が形成され
ている。このハロゲン化銀エマルジヨンの感光性
は、フオトポリマーコーテイングのそれよりも約
100倍高い。一般に、フオトポリマーコーテイン
グの感光性よりも約3〜200倍感度の高い感光性
中間層が用いられる。
プレツダーにより塗布されたハロゲン化銀エマル
ジヨンの継ぎ目のない感光性中間層3が形成され
ている。このハロゲン化銀エマルジヨンの感光性
は、フオトポリマーコーテイングのそれよりも約
100倍高い。一般に、フオトポリマーコーテイン
グの感光性よりも約3〜200倍感度の高い感光性
中間層が用いられる。
フオトポリマーコーテイング層2及び感光性中
間層3が設けられた印刷ローラー1の周りに、パ
ターンフイルム4が配置される。パターンフイル
ム4の両端7及び8が相互にオーバーラツプし、
オーバーラツプ部分4a及び4bを形成する。プ
ラスチツク材料(例えばポリ塩化ビニルフイルム
のようなもの)の透明フイルム層5を用いて全体
を包囲し、前記フイルム層5の下を真空状態とす
る。この結果、パターンフイルム4が、いくぶん
弾力性のあるフオトポリマーコーテイング2の表
面に対して押圧されることになる。オーバーラツ
プ部分4a及び4bの位置には、フオトポリマー
層の窪み6が生じる。
間層3が設けられた印刷ローラー1の周りに、パ
ターンフイルム4が配置される。パターンフイル
ム4の両端7及び8が相互にオーバーラツプし、
オーバーラツプ部分4a及び4bを形成する。プ
ラスチツク材料(例えばポリ塩化ビニルフイルム
のようなもの)の透明フイルム層5を用いて全体
を包囲し、前記フイルム層5の下を真空状態とす
る。この結果、パターンフイルム4が、いくぶん
弾力性のあるフオトポリマーコーテイング2の表
面に対して押圧されることになる。オーバーラツ
プ部分4a及び4bの位置には、フオトポリマー
層の窪み6が生じる。
感光性中間層3を用いないで窪み領域にある光
硬化型フオトポリマー層の露光部分を硬化する
と、パターンの幅にわたる狭い横断ゾーン中に局
所的にその痕跡が固定されることになる(第5図
の表面14参照)。
硬化型フオトポリマー層の露光部分を硬化する
と、パターンの幅にわたる狭い横断ゾーン中に局
所的にその痕跡が固定されることになる(第5図
の表面14参照)。
感光性中間層3を利用すると、露光の間パター
ンフイルムの画像が本質的に前記感光層3に転写
されるだけである。パターンフイルム及び包囲フ
イルム5を除去すると第2図に示されるような状
態となる。第2図に於いて感光性中間層3はパタ
ーンに応じて露光部分13と非露光部分15を有
している。このパターンは、感光層のタイプに応
じて、既に形成されるようになつているか又は現
像後に可視となる潜像として存在するかのどちら
かである。
ンフイルムの画像が本質的に前記感光層3に転写
されるだけである。パターンフイルム及び包囲フ
イルム5を除去すると第2図に示されるような状
態となる。第2図に於いて感光性中間層3はパタ
ーンに応じて露光部分13と非露光部分15を有
している。このパターンは、感光層のタイプに応
じて、既に形成されるようになつているか又は現
像後に可視となる潜像として存在するかのどちら
かである。
その後しばらくして、光硬化型フオトポリマー
層の窪み部分6は最初の状態に戻るその結果、第
3図に示されるような状態が得られる。
層の窪み部分6は最初の状態に戻るその結果、第
3図に示されるような状態が得られる。
次いで第2回目の露光を行い、フオトポリマー
層2の部分10を硬化する。感光性層及びフオト
ポリマー層の非硬化部分を除去すれば、硬化した
フオトポリマー層の部分10から形成されたパタ
ーンを有する印刷ローラーが得られる。
層2の部分10を硬化する。感光性層及びフオト
ポリマー層の非硬化部分を除去すれば、硬化した
フオトポリマー層の部分10から形成されたパタ
ーンを有する印刷ローラーが得られる。
第4図に他の具体例が示されており、パターン
フイルム4の両端7及び8は相互に隣接するよう
に位置している。この場合、弾力性のある光硬化
型のフオトポリマー層2に窪みが生じることはな
いが、光散乱のため、隣接する前記両端の位置で
露光されるフオトポリマー部分が、同量の光で露
光される他の部分よりもより少なく露光されるこ
とになる。フオトポリマー層を洗浄除去する際、
前記隣接両端位置のポリマー部分もまたある程度
洗浄除去されることとなり、他の部分よりも低い
高さの部分がその位置で得られることになる(第
5図の表面14参照)。
フイルム4の両端7及び8は相互に隣接するよう
に位置している。この場合、弾力性のある光硬化
型のフオトポリマー層2に窪みが生じることはな
いが、光散乱のため、隣接する前記両端の位置で
露光されるフオトポリマー部分が、同量の光で露
光される他の部分よりもより少なく露光されるこ
とになる。フオトポリマー層を洗浄除去する際、
前記隣接両端位置のポリマー部分もまたある程度
洗浄除去されることとなり、他の部分よりも低い
高さの部分がその位置で得られることになる(第
5図の表面14参照)。
光分解型フオトポリマー層の場合にあつても、
上記の隣接両端位置で露光される部分は同様に僅
かにしか露光されない。そのため、洗浄除去によ
り浅薄な深さとなる。このことは、第7a図に示
されており、この場合感光性中間層は利用されて
おらず、符号10は非露光部分を示し、符号18
は露光部分を示す。
上記の隣接両端位置で露光される部分は同様に僅
かにしか露光されない。そのため、洗浄除去によ
り浅薄な深さとなる。このことは、第7a図に示
されており、この場合感光性中間層は利用されて
おらず、符号10は非露光部分を示し、符号18
は露光部分を示す。
第7b図は、感光性中間層を実際に用いた例を
示す。
示す。
上に述べた両態様の場合共に、感光性中間層3
を設けることにより、上に述べた困難性を排除し
得るという利点が得られる。
を設けることにより、上に述べた困難性を排除し
得るという利点が得られる。
既述したように、フオトポリマー層を有するロ
ーラーを回転し、この回転ローラーに沿つてパタ
ーンフイルムを巻き戻し、スリツトを通して露光
することによりパターンを有する印刷ローラーを
製造することは既に知られていることである。パ
ターンの結合部分において、二重露光がスリツト
幅のためこれらの条件下で常に起こる。第6a図
において、単一の露光により硬化されたフオトポ
リマー層部分10が、かなり急な勾配をもつ側面
11及び12を有していることが判る。同じフオ
トポリマー層部分を二重露光すれば、よりゆるや
かな勾配をもつ側面11′及び12′を有する硬化
部分10′が得られ、第6a図の具体例と比較し
てより大きい側面幅が形成される。これは、本発
明の感光性中間層によつて回避される。
ーラーを回転し、この回転ローラーに沿つてパタ
ーンフイルムを巻き戻し、スリツトを通して露光
することによりパターンを有する印刷ローラーを
製造することは既に知られていることである。パ
ターンの結合部分において、二重露光がスリツト
幅のためこれらの条件下で常に起こる。第6a図
において、単一の露光により硬化されたフオトポ
リマー層部分10が、かなり急な勾配をもつ側面
11及び12を有していることが判る。同じフオ
トポリマー層部分を二重露光すれば、よりゆるや
かな勾配をもつ側面11′及び12′を有する硬化
部分10′が得られ、第6a図の具体例と比較し
てより大きい側面幅が形成される。これは、本発
明の感光性中間層によつて回避される。
次の実施例において、1つの具体例を説明す
る。
る。
実施例
直径50cmの印刷ローラー1に、例えばシレル
(Cyrel,デユポン)の如きフオトポリマーコーテ
イング層2を、スプレツダーコーテイング又はそ
の回りを包囲するようにこの材料のシートで適用
し、次いで一体に溶融し、正しく加工することに
より、正確な直径と円形を得た。
(Cyrel,デユポン)の如きフオトポリマーコーテ
イング層2を、スプレツダーコーテイング又はそ
の回りを包囲するようにこの材料のシートで適用
し、次いで一体に溶融し、正しく加工することに
より、正確な直径と円形を得た。
フオトポリマー層に、銀エマルジヨン層を感光
性中間層3として適用した。
性中間層3として適用した。
次いで、全体の回りに第1図に示されるような
方法でパターンフイルム4を適用し、その後ポリ
ビニルクロライドの包囲フイルム5を適用した。
次いで、包囲フイルム5の下部を真空状態とし、
パターンフイルムを感光性層をもつフオトポリマ
ーコーテイングに対して押圧する。
方法でパターンフイルム4を適用し、その後ポリ
ビニルクロライドの包囲フイルム5を適用した。
次いで、包囲フイルム5の下部を真空状態とし、
パターンフイルムを感光性層をもつフオトポリマ
ーコーテイングに対して押圧する。
第1番目の露光を、400〜440ナノメーターの波
長を有する光を用いて行つた。
長を有する光を用いて行つた。
その後、包囲フイルム5とパターンフイルム4
を除去し、感光性中間層3を現像すると、パター
ンフイルムの画像に対応する画像がそこに形成さ
れた。
を除去し、感光性中間層3を現像すると、パター
ンフイルムの画像に対応する画像がそこに形成さ
れた。
しばらくの時間の経過後、任意に熱処理と組み
合わせ、フオトポリマーコーテイング2から継ぎ
目が消失した。第2番目の露光を、340〜380ナノ
メーターの波長を有する光を用いて行なつた。
合わせ、フオトポリマーコーテイング2から継ぎ
目が消失した。第2番目の露光を、340〜380ナノ
メーターの波長を有する光を用いて行なつた。
最初から適用されている感光性中間層3の残り
の部分及びフオトポリマー層の非露光部分を、洗
浄によりある程度の深さまで除去した。
の部分及びフオトポリマー層の非露光部分を、洗
浄によりある程度の深さまで除去した。
感光性中間層3に対する第1番目の露光の影響
を本質的に制限するために、紫外線を吸収するテ
インユーヴイン(tinuvin)化合物(チバガイギ
ー)のフイルター層16を、中間層3とフオトポ
リマーコーテイング2との間に有利に適用するこ
とができる。
を本質的に制限するために、紫外線を吸収するテ
インユーヴイン(tinuvin)化合物(チバガイギ
ー)のフイルター層16を、中間層3とフオトポ
リマーコーテイング2との間に有利に適用するこ
とができる。
第1図は、印刷ローラーの製造段階に於ける断
面を示す。第2図は、光硬化型のフオトポリマー
コーテイングを有し、そのフオトポリマーコーテ
イングに窪み部分が生じている印刷ローラーを示
す。第3図は、最初の状態に戻つた後の同じフオ
トポリマーコーテイングを示す。第4図は、感光
性中間層とパターンフイルムを有する光硬化型の
フオトポリマーコーテイングの断面を示し、パタ
ーンフイルムの両端は相互に隣接状態で向かいあ
つている。第5図は、洗浄除去後にフオトポリマ
ー層の硬化部分が形成された印刷ローラーの表面
部分を示す。第6a図は、本発明方法によつて形
成された、本発明印刷ローラーのフオトポリマー
層の硬化部分の側面を示す。第6b図は、二重露
光によつて形成された同じ硬化部分を示す。第7
a図は、その両端が相互に隣接して位置するパタ
ーンフイルムを用い、光分解型ポリマーを用い、
感光性中間層を用いないで得られた印刷ローラー
の表面の一部を示す。第7b図は、感光性中間層
を用いて形成された同じ表面を示す。
面を示す。第2図は、光硬化型のフオトポリマー
コーテイングを有し、そのフオトポリマーコーテ
イングに窪み部分が生じている印刷ローラーを示
す。第3図は、最初の状態に戻つた後の同じフオ
トポリマーコーテイングを示す。第4図は、感光
性中間層とパターンフイルムを有する光硬化型の
フオトポリマーコーテイングの断面を示し、パタ
ーンフイルムの両端は相互に隣接状態で向かいあ
つている。第5図は、洗浄除去後にフオトポリマ
ー層の硬化部分が形成された印刷ローラーの表面
部分を示す。第6a図は、本発明方法によつて形
成された、本発明印刷ローラーのフオトポリマー
層の硬化部分の側面を示す。第6b図は、二重露
光によつて形成された同じ硬化部分を示す。第7
a図は、その両端が相互に隣接して位置するパタ
ーンフイルムを用い、光分解型ポリマーを用い、
感光性中間層を用いないで得られた印刷ローラー
の表面の一部を示す。第7b図は、感光性中間層
を用いて形成された同じ表面を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 フオトポリマー層に適用されてそれに密着し
ている、該フオトポリマー層よりもある波長領域
の光に対してより感光性である除去可能な継ぎ目
のない中間層を、第1段階において露光し任意に
現像し、本質的に前記中間層に所望のパターンを
施した不透明画像を形成し、続いて中間層に形成
された画像を介してフオトポリマー層を露光し、
この露光の後中間層の不透明部分及びフオトポリ
マー層の可溶性部分を除去することから成る、パ
ターンを施したフオトポリマーコーテイングを印
刷ローラー上に形成する方法であつて、前記フオ
トポリマー層を比較的厚さのある可撓性フオトポ
リマー層で構成し、前記第1段階に於いて中間層
のまわりに適用されたパターンフイルムを介して
露光を行い、第1段階の後パターンフイルムを除
去し、フオトポリマー層の窪み部分が最初の状態
に戻るまで前記フオトポリマーの露光を延期する
ことを特徴とする前記方法。 2 第1段階及び第2段階の露光のために異なつ
た波長領域の光を用いることを特徴とする特許請
求の範囲第1項に記載の方法。 3 第1段階及び第2段階の露光のために同じ波
長領域の光を用いることを特徴とする特許請求の
範囲第1項に記載の方法。 4 光フイルター層好ましくは継ぎ目のないもの
を感光性中間層とフオトポリマーコーテイングの
表面との間に適用することを特徴とする特許請求
の範囲第1項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL8500992A NL8500992A (nl) | 1985-04-03 | 1985-04-03 | Werkwijze voor het vormen van een gedessineerde fotopolymeerbekleding op een drukwals alsmede drukwals met gedessineerde fotopolymeerbekleding. |
| NL8500992 | 1985-04-03 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61230152A JPS61230152A (ja) | 1986-10-14 |
| JPH0325770B2 true JPH0325770B2 (ja) | 1991-04-08 |
Family
ID=19845787
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61077500A Granted JPS61230152A (ja) | 1985-04-03 | 1986-04-03 | パターンを施したフオトポリマーコーテイングを印刷ローラー上に形成する方法 |
Country Status (12)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5041359A (ja) |
| EP (1) | EP0197601B1 (ja) |
| JP (1) | JPS61230152A (ja) |
| AU (1) | AU590876B2 (ja) |
| CA (1) | CA1296561C (ja) |
| DE (1) | DE3664825D1 (ja) |
| DK (1) | DK162182C (ja) |
| ES (1) | ES8708067A1 (ja) |
| FI (1) | FI82779C (ja) |
| NL (1) | NL8500992A (ja) |
| NZ (1) | NZ215656A (ja) |
| ZA (1) | ZA862477B (ja) |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5278027A (en) * | 1989-03-08 | 1994-01-11 | R. R. Donnelley | Method and apparatus for making print imaging media |
| DE3925455A1 (de) * | 1989-08-01 | 1991-02-14 | Robert Hanus | Belichtungsvorrichtung zum belichten eines metallkaschierten basismaterials |
| JP3553929B2 (ja) * | 1990-05-21 | 2004-08-11 | ナシュア コーポレイション | 光拡散性材料を製造する方法 |
| GB9016488D0 (en) * | 1990-07-27 | 1990-09-12 | Zed Instr Ltd | Printing cylinder |
| US6756181B2 (en) | 1993-06-25 | 2004-06-29 | Polyfibron Technologies, Inc. | Laser imaged printing plates |
| US6916596B2 (en) | 1993-06-25 | 2005-07-12 | Michael Wen-Chein Yang | Laser imaged printing plates |
| DE4339010C2 (de) * | 1993-06-25 | 2000-05-18 | Pt Sub Inc | Photohärtbares Erzeugnis für Druckplatten |
| DE4341567C2 (de) * | 1993-12-07 | 2000-11-02 | Heidelberger Druckmasch Ag | Verfahren und Vorrichtung zum reversiblen Beschreiben eines Druckformträgers innerhalb einer Offsetdruckmaschine |
| NL9402239A (nl) * | 1994-12-29 | 1996-08-01 | Raytech Sprl | Werkwijze voor het aanbrengen van een patroon aan een oppervlak van een niet-vlak, in het bijzonder cilindrisch, substraat. |
| US5798019A (en) * | 1995-09-29 | 1998-08-25 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Methods and apparatus for forming cylindrical photosensitive elements |
| US6801723B2 (en) * | 2002-12-02 | 2004-10-05 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Image-forming device having a patterned roller and a method for providing traceability of printed documents |
| EP1694731B1 (en) * | 2003-09-23 | 2012-03-28 | University Of North Carolina At Chapel Hill | Photocurable perfluoropolyethers for use as novel materials in microfluidic devices |
| MXPA06006738A (es) * | 2003-12-19 | 2006-08-31 | Univ North Carolina | Metodos para fabricar micro- y nano-estructuras aisladas utilizando litografia suave o de impresion. |
| US9040090B2 (en) | 2003-12-19 | 2015-05-26 | The University Of North Carolina At Chapel Hill | Isolated and fixed micro and nano structures and methods thereof |
| US20050170287A1 (en) * | 2004-01-30 | 2005-08-04 | Kanga Rustom S. | Photosensitive printing sleeves and method of forming the same |
| AU2005220150A1 (en) * | 2004-02-13 | 2005-09-15 | The University Of North Carolina At Chapel Hill | Functional materials and novel methods for the fabrication of microfluidic devices |
| EP1853967A4 (en) * | 2005-02-03 | 2009-11-11 | Univ North Carolina | Low surface area polymer material for use in liquid crystal displays |
| WO2007133235A2 (en) * | 2005-08-08 | 2007-11-22 | Liquidia Technologies, Inc. | Micro and nano-structure metrology |
| EP2537657A3 (en) | 2005-08-09 | 2016-05-04 | The University of North Carolina At Chapel Hill | Methods and materials for fabricating microfluidic devices |
| US20100151031A1 (en) * | 2007-03-23 | 2010-06-17 | Desimone Joseph M | Discrete size and shape specific organic nanoparticles designed to elicit an immune response |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE635636A (ja) * | 1962-08-01 | |||
| GB1187980A (en) * | 1966-10-28 | 1970-04-15 | Ilford Ltd | Presensitised Lithographic Plates. |
| GB1325875A (en) * | 1969-08-13 | 1973-08-08 | Bkt Displays Ltd | Composition of gravure printing plates |
| AT326703B (de) * | 1971-10-07 | 1975-12-29 | Zimmer Peter | Verfahren zur herstellung von druckformen |
| DE2306278A1 (de) * | 1973-02-08 | 1974-08-15 | Agfa Gevaert Ag | Kameraempfindliche photomasken |
| DE2517711A1 (de) * | 1975-04-22 | 1976-11-04 | Johannes Ruediger | Kombinationsbeschichtete druckplatten, vorzugsweise fuer flach- und hochdruckformen zum zwecke der belichtungszeitverkuerzung und der moeglichkeit, positive durchsichtsvorlagen auch auf negativdruckplatten bei positiver bildwiedergabe im druck zu belichten |
| DE2842440C2 (de) * | 1978-09-29 | 1987-01-08 | Du Pont de Nemours (Deutschland) GmbH, 4000 Düsseldorf | Verfahren zur Kantenverbindung lichthärtbarer, thermoplastischer, elastomerer Druckplatten |
| US4268609A (en) * | 1979-07-16 | 1981-05-19 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Process for preparing photosensitive lithographic printing plate precursor |
| NL7908327A (nl) * | 1979-11-14 | 1981-06-16 | Stork Screens Bv | Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een gedessineerde drukwals. |
| DE3125564C2 (de) * | 1981-06-29 | 1984-08-30 | Du Pont de Nemours (Deutschland) GmbH, 4000 Düsseldorf | Verfahren zur Verbesserung der Druckqualität von Hochdruckformen |
-
1985
- 1985-04-03 NL NL8500992A patent/NL8500992A/nl not_active Application Discontinuation
-
1986
- 1986-04-01 DE DE8686200544T patent/DE3664825D1/de not_active Expired
- 1986-04-01 EP EP86200544A patent/EP0197601B1/en not_active Expired
- 1986-04-02 ES ES554082A patent/ES8708067A1/es not_active Expired
- 1986-04-02 CA CA000505649A patent/CA1296561C/en not_active Expired - Fee Related
- 1986-04-02 NZ NZ215656A patent/NZ215656A/xx unknown
- 1986-04-02 DK DK148886A patent/DK162182C/da not_active IP Right Cessation
- 1986-04-03 FI FI861442A patent/FI82779C/fi not_active IP Right Cessation
- 1986-04-03 ZA ZA862477A patent/ZA862477B/xx unknown
- 1986-04-03 JP JP61077500A patent/JPS61230152A/ja active Granted
- 1986-04-03 AU AU55637/86A patent/AU590876B2/en not_active Ceased
-
1987
- 1987-08-03 US US07/081,606 patent/US5041359A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NZ215656A (en) | 1988-09-29 |
| US5041359A (en) | 1991-08-20 |
| DE3664825D1 (en) | 1989-09-07 |
| NL8500992A (nl) | 1986-11-03 |
| FI82779B (fi) | 1990-12-31 |
| JPS61230152A (ja) | 1986-10-14 |
| CA1296561C (en) | 1992-03-03 |
| FI861442A0 (fi) | 1986-04-03 |
| EP0197601B1 (en) | 1989-08-02 |
| ES8708067A1 (es) | 1987-09-01 |
| DK162182C (da) | 1992-03-02 |
| DK148886D0 (da) | 1986-04-02 |
| DK162182B (da) | 1991-09-23 |
| FI82779C (fi) | 1991-04-10 |
| DK148886A (da) | 1986-10-04 |
| EP0197601A1 (en) | 1986-10-15 |
| AU5563786A (en) | 1986-10-09 |
| FI861442L (fi) | 1986-10-04 |
| ES554082A0 (es) | 1987-09-01 |
| ZA862477B (en) | 1986-12-30 |
| AU590876B2 (en) | 1989-11-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0325770B2 (ja) | ||
| JPH0580530A (ja) | 薄膜パターン製造方法 | |
| KR900017127A (ko) | 마스크, 마스크 제조방법 및 마스크를 사용하는 패턴형성방법 | |
| JPH1124234A (ja) | 位相シフトマスクの製造方法 | |
| US5798203A (en) | Method of making a negative photoresist image | |
| JP4834235B2 (ja) | グレートーン露光用フォトマスク | |
| KR19980015360A (ko) | 위상 반전 마스크 제조방법 | |
| KR900015229A (ko) | 새도우마스크의 패턴 프린터 및 그 제조방법 | |
| CN111724816B (zh) | 在衬底上形成图案的方法 | |
| JPS5914888B2 (ja) | パタ−ン形成方法 | |
| JP2603935B2 (ja) | レジストパターン形成方法 | |
| EP0462698A2 (en) | Masks for high quality images from total internal reflection holograms | |
| JPS6319861B2 (ja) | ||
| JPS62161148A (ja) | パタ−ン形成方法 | |
| KR920003811B1 (ko) | 레지스트의 이중 도포에 의한 이중 노광방법 | |
| JPH0547623A (ja) | 光露光によるレジストマスクパターン形成方法 | |
| JP3108986B2 (ja) | 位相シフトマスクの製造方法 | |
| JP2656836B2 (ja) | フォトマスクの製造方法 | |
| JPH03191083A (ja) | 粗し加工面への黒色めつき方法 | |
| JPH02139561A (ja) | パターン形成方法 | |
| JPS58132926A (ja) | パタ−ン形成方法 | |
| JPS6319860B2 (ja) | ||
| JPH03172848A (ja) | ホトマスクの製造方法 | |
| JPH01239928A (ja) | パターン形成方法 | |
| JPH05222504A (ja) | エンボッシング用型の製造方法 |