JPH03261142A - 半導体基板洗浄方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概　要〕 半導体技術で使用される基板の洗浄方法に関し、液体に
よる洗浄では除去できない微細なダストをパターン面か
ら剥離することを目的とし、パターン面に氷を付着させ
て、ダストを氷に食い込ませてパターン面から剥離した
後、氷を溶解してダストを除去するように構成する。

〔産業上の利用分野〕

本発明は、半導体技術で使用される基板の洗浄方法に関
する。半導体技術においては、デバイスが高密度化して
パターンがサブミクロンと微細化したのにともなって、
パターン面の０．１−程度のダストの除去が極めて重要
な課題となった。

〔従来の技術〕

従来、パターンを形成したレチクル、マスク、ウェハな
どの基板は、Ｈ２ＳＯ４，８２０２の酸性洗浄、純水バ
ラリング、超音波洗浄などによって、洗浄した後に使用
していた。しかし、０．１−程度の微細なダストは完全
には除去されていなかった。

〔発明が解決しようとする課題〕

本発明は、液体による洗浄では除去できない微細なダス
トをパターン面から剥離することを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

上記課題は、パターン面に氷を付着させて、ダストを氷
に食い込ませてパターン面から剥離した後、氷を溶解し
てパターン面からダストを除去することを特徴とするク
リーニング方法によって解決することができる。

〔作　用〕

半導体技術で使用されるレチクル、マスク、ウェハなど
の基板に形成したパターン面を、洗浄水で湿っている間
に冷却して、パターン面を凍結させると、洗浄水で除去
されなかったパターン面に付着していた微細なダストは
、氷のなかに取り込まれる。その後、温風ヒーターで氷
を溶解するか、または直接温水を注いで氷を溶解させダ
ストを含んだまま流下させた後、基板を乾燥させると、
基板に損傷を与えることなく、サブミクロンの微細パタ
ーンに付着した０、１−程度のダストを容易に除去する
ことができる。

〔実施例〕

例　　１ 第１図に示すように、パターンを形成した基板を、洗浄
室内に、好ましくは垂直に固定し、基板の少なくともパ
ターン面の全面に脱イオン水をかけ、液体窒素から発生
する低温の窒素ガスで洗浄室内を置換えると、パターン
面の水は直ちに凍結した。これを溶解するために、温め
た脱イオン水を注いで、パターン面を洗い流した後に、
洗浄室内に除塵した温風を送って、基板を乾燥させた。

例２ パターン面の氷を溶解するのに、除塵した温風の送風の
みとしたことの他は、例１と同様に行った。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の方法の１つの態様を示す説明図であ
る。 １・・・基板、　　　　　　２・・・洗浄室、３・・・
パターン、　　　　　４・・・ダスト。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、パターンを形成した基板面のクリーニング方法であ
   って、パターン面に氷を付着させて、ダストを氷に食い
   込ませてパターン面から剥離した後、氷を溶解してパタ
   ーン面からダストを除去することを特徴とする方法。