JPH03261760A - ベンジリデンアミノオキシアルカン酸チオアミド誘導体、その製造法及び除草剤 - Google Patents
ベンジリデンアミノオキシアルカン酸チオアミド誘導体、その製造法及び除草剤Info
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- JPH03261760A JPH03261760A JP5666290A JP5666290A JPH03261760A JP H03261760 A JPH03261760 A JP H03261760A JP 5666290 A JP5666290 A JP 5666290A JP 5666290 A JP5666290 A JP 5666290A JP H03261760 A JPH03261760 A JP H03261760A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、新規なペンジリデンア旦ノオキシアルカン酸
チオアミド誘導体、その製造法及びそれを有効成分とす
る除草剤に関するものである。
チオアミド誘導体、その製造法及びそれを有効成分とす
る除草剤に関するものである。
〔従来の技術]
従来、フェノキシアルカン酸アミド誘導体が除草活性を
示すことは知られているが、本発明のベンジリデンアミ
ノオキシアルカン酸チオアミド誘導体が除草活性を示す
ことは知られていない。
示すことは知られているが、本発明のベンジリデンアミ
ノオキシアルカン酸チオアミド誘導体が除草活性を示す
ことは知られていない。
本発明の目的は、新規なベンジリデンアミノオキシアル
カン酸チオアミド誘導体、その製造法及びそれを有効成
分とする除草剤を提供することである。
カン酸チオアミド誘導体、その製造法及びそれを有効成
分とする除草剤を提供することである。
本発明者らは、前記の問題点を解決するために鋭意研究
した結果、新規なベンジリデンアミノオキシアルカン酸
チオアミド誘導体が、イネ科雑草及び広葉雑草に対して
幅広い除草効果を示し、従来の除草剤では除草が困難で
ある雑草に高い除草効果を示し、かつ、稚苗水稲、小麦
、大豆、トウモロコシなどに薬害がないという選択性の
高い除草効果をも示すことを見出し、本発明を完成させ
るに至った。
した結果、新規なベンジリデンアミノオキシアルカン酸
チオアミド誘導体が、イネ科雑草及び広葉雑草に対して
幅広い除草効果を示し、従来の除草剤では除草が困難で
ある雑草に高い除草効果を示し、かつ、稚苗水稲、小麦
、大豆、トウモロコシなどに薬害がないという選択性の
高い除草効果をも示すことを見出し、本発明を完成させ
るに至った。
即ち、本発明は、
(1)次式:
(式中、R1はハロゲン原子、ハロ低級アルキル基、ハ
ロ低級アルコキシ基、シアノ基又はニトロ基で置換され
ていてもよいフェニル基を表し;R2は低級アルキル基
を表し;R1はハロゲン原子で置換されていてもよいフ
ェニル基を表すか、或いは置換されていてもよいチエニ
ル基を表し;nはO又は1を表す、) で示されるベンジリデンアミノオキシアルカン酸チオア
よド誘導体 (2)次式: (式中、R,、R,、R,及びnは前記の記載と同義で
ある。) で示される化合物とチオカルボニル化反応剤とを反応さ
せることを特徴とする前記の式(I)で示されるベンジ
リデンアミノオキシアルカン酸チオアミド誘導体の製造
法 (3)前記の式(I)で示されるベンジリデンアミノオ
キシアルカン酸チオアミド誘導体を有効成分とする除草
剤 に関するものである。
ロ低級アルコキシ基、シアノ基又はニトロ基で置換され
ていてもよいフェニル基を表し;R2は低級アルキル基
を表し;R1はハロゲン原子で置換されていてもよいフ
ェニル基を表すか、或いは置換されていてもよいチエニ
ル基を表し;nはO又は1を表す、) で示されるベンジリデンアミノオキシアルカン酸チオア
よド誘導体 (2)次式: (式中、R,、R,、R,及びnは前記の記載と同義で
ある。) で示される化合物とチオカルボニル化反応剤とを反応さ
せることを特徴とする前記の式(I)で示されるベンジ
リデンアミノオキシアルカン酸チオアミド誘導体の製造
法 (3)前記の式(I)で示されるベンジリデンアミノオ
キシアルカン酸チオアミド誘導体を有効成分とする除草
剤 に関するものである。
以下、本発明の詳細な説明する。
前記の目的化合物である新規なベンジリデンアミノオキ
シアルカン酸チオアミド誘導体(1)、その製造原料で
ある(n)の化合物において、R,としては、置換され
ていてもよいフェニル基、置換されていてもよいチエニ
ル基、置換されていてもよいフリル基などを挙げること
ができるが、好ましくは置換されていてもよいフェニル
基がよく:そのフェニル基における置換基としてはハロ
ゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子、
ヨウ素原子など)、ハロ低級アルキル基(例えば、トリ
フルオロメチル、ジフルオロメチル、1,1−ジフルオ
ロエチル、1,1,2゜2−テトラフルオロエチル、ペ
ンタフルオロメチルなど)、ハロ低級アルコキシ基(例
えば、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、1
,1゜2−トリフルオロ−2−クロロエトキシなど)、
シアノ基、ニトロ基、低級アルキル基、低級アルコキシ
基、ハロ低級アルキルチオ基、ハロ低級アルキルスルホ
ニル基などを挙げることができるが、好ましくはハロゲ
ン原子、ハロ低級アルキル基、ハロ低級アルコキシ基、
シアノ基、ニトロ基などがよい(さらに好ましくはハロ
ゲン原子としてはフッ素原子がよく、ハロ低級アルキル
基としてはトリフルオロメチル基がよく、ハロ低級アル
コキシ基としてはジフルオロメチル基、トリフルオロメ
チル基などがよい。そして、さらに好ましくはいずれの
置換基の位置も3位がよい)。
シアルカン酸チオアミド誘導体(1)、その製造原料で
ある(n)の化合物において、R,としては、置換され
ていてもよいフェニル基、置換されていてもよいチエニ
ル基、置換されていてもよいフリル基などを挙げること
ができるが、好ましくは置換されていてもよいフェニル
基がよく:そのフェニル基における置換基としてはハロ
ゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子、
ヨウ素原子など)、ハロ低級アルキル基(例えば、トリ
フルオロメチル、ジフルオロメチル、1,1−ジフルオ
ロエチル、1,1,2゜2−テトラフルオロエチル、ペ
ンタフルオロメチルなど)、ハロ低級アルコキシ基(例
えば、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、1
,1゜2−トリフルオロ−2−クロロエトキシなど)、
シアノ基、ニトロ基、低級アルキル基、低級アルコキシ
基、ハロ低級アルキルチオ基、ハロ低級アルキルスルホ
ニル基などを挙げることができるが、好ましくはハロゲ
ン原子、ハロ低級アルキル基、ハロ低級アルコキシ基、
シアノ基、ニトロ基などがよい(さらに好ましくはハロ
ゲン原子としてはフッ素原子がよく、ハロ低級アルキル
基としてはトリフルオロメチル基がよく、ハロ低級アル
コキシ基としてはジフルオロメチル基、トリフルオロメ
チル基などがよい。そして、さらに好ましくはいずれの
置換基の位置も3位がよい)。
R2としては、直鎖状又は分岐状の炭素原子数1〜6の
アルキル基を挙げることができるが、好ましくは炭素原
子数l〜4のアルキル基がよい(さらに好ましくはエチ
ル基がよい)。
アルキル基を挙げることができるが、好ましくは炭素原
子数l〜4のアルキル基がよい(さらに好ましくはエチ
ル基がよい)。
R3としては、置換されていてもよいフェニル基、置換
されていてもよいチエニル基、置換されていてもよいフ
リル基、置換されていてもよいシクロアルキル基などを
挙げることができるが、弁ましくは置換されていてもよ
いフェニル基、置換されていてもよいチエニル基などが
よく:そのフェニル基における置換基としては、ハロゲ
ン原子(例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子、ヨ
ウ素原子など)、低級アルキル基、ノ\ロ低級アルキル
基、低級アルコキシ基などを挙げることができるが、好
ましくはハロゲン原子がよい(さらに好ましくは塩素原
子、フッ素原子がよい。そして、さらに好ましくはいず
れの置換基の位置も2位及び/又は4位がよい)。
されていてもよいチエニル基、置換されていてもよいフ
リル基、置換されていてもよいシクロアルキル基などを
挙げることができるが、弁ましくは置換されていてもよ
いフェニル基、置換されていてもよいチエニル基などが
よく:そのフェニル基における置換基としては、ハロゲ
ン原子(例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子、ヨ
ウ素原子など)、低級アルキル基、ノ\ロ低級アルキル
基、低級アルコキシ基などを挙げることができるが、好
ましくはハロゲン原子がよい(さらに好ましくは塩素原
子、フッ素原子がよい。そして、さらに好ましくはいず
れの置換基の位置も2位及び/又は4位がよい)。
nはO又は1を表す。
チオカルボニル化剤としては、五硫化リン、ローソン試
薬(LaWesson’s reagent )など
の硫化リンなどを挙げることができるが、好ましくは五
硫化リンとがよい。
薬(LaWesson’s reagent )など
の硫化リンなどを挙げることができるが、好ましくは五
硫化リンとがよい。
目的化合物である新規なペンジリデンアξノオキシアル
カン酸チオア5ド誘導体(I)としては、不斉炭素原子
に基づく光学異性体も挙げることができる。
カン酸チオア5ド誘導体(I)としては、不斉炭素原子
に基づく光学異性体も挙げることができる。
本発明の目的化合物H)は、例えば、以下に示す方法に
よって、製造することができる。
よって、製造することができる。
Rt (n)
(式中、R+ 、Rz 、Rs及びnは前記と同義であ
る。) 目的化合物(1)は、通常、原料化合物(II)とチオ
カルボニル化剤とを溶媒中で反応させることによって製
造することができる。
る。) 目的化合物(1)は、通常、原料化合物(II)とチオ
カルボニル化剤とを溶媒中で反応させることによって製
造することができる。
本発明で用いる原料化合物(II)は、例えば、次式に
示すような方法で容易に製造することができる。
示すような方法で容易に製造することができる。
(式中、RIsR=及びR5は前記と同義であり;Xは
ハロゲン原子を表す。) 溶媒としては、本反応に直接関与しないものであれば特
に限定されず、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン
、メチルナフタリン、クロルベンゼン、ジクロルベンゼ
ン、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロルエタンのよ
うな塩素化された又はされていない芳香族、脂肪族の炭
化水素類ニジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサンなどのようなエーテル類:前記溶媒の混合物な
どを挙げることができる。
ハロゲン原子を表す。) 溶媒としては、本反応に直接関与しないものであれば特
に限定されず、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン
、メチルナフタリン、クロルベンゼン、ジクロルベンゼ
ン、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロルエタンのよ
うな塩素化された又はされていない芳香族、脂肪族の炭
化水素類ニジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサンなどのようなエーテル類:前記溶媒の混合物な
どを挙げることができる。
目的化合物(1)の製造法は、反応濃度が5〜60%で
行うことができる。
行うことができる。
その製造法において、原料化合物(n)とチオカルボニ
ル化剤とを用いる割合は、原料化合物(■)1モルに対
して、チオカルボニル化剤1〜3モルの割合で加えるこ
とがでるが、好ましくは1.2〜2.0モルがよい。
ル化剤とを用いる割合は、原料化合物(■)1モルに対
して、チオカルボニル化剤1〜3モルの割合で加えるこ
とがでるが、好ましくは1.2〜2.0モルがよい。
その反応温度は、使用する溶媒の沸点以下で行う限り特
に限定されないが、通常、室温以上(好ましくは20〜
140℃がよい。)で行うことができ、加温して反応時
間を短縮することが好ましい。
に限定されないが、通常、室温以上(好ましくは20〜
140℃がよい。)で行うことができ、加温して反応時
間を短縮することが好ましい。
その反応時間は、前記の濃度、温度によって変化するが
、通常0.5〜12時間で行うことができる。
、通常0.5〜12時間で行うことができる。
本発明の目的化合物(I)は、イネ科雑草(例えば、ノ
ビエ、ススメツカタピラ、メヒシバなど)、一般広葉雑
草(例えば、シロザ、スベリヒュ、ギシギシ、イヌビエ
、ハコベなど)だけでなく、難防除広葉雑草(例えば、
エビスグサ、イチビ、ヤエムグラ、オオイヌノフグリ、
オナモミなど)に対しても優れた除草効果を示し、また
さらに、稚苗水稲、小麦、大豆、トウモロコシなどには
薬害がないという選択性の高い除草効果をも示すもので
ある。
ビエ、ススメツカタピラ、メヒシバなど)、一般広葉雑
草(例えば、シロザ、スベリヒュ、ギシギシ、イヌビエ
、ハコベなど)だけでなく、難防除広葉雑草(例えば、
エビスグサ、イチビ、ヤエムグラ、オオイヌノフグリ、
オナモミなど)に対しても優れた除草効果を示し、また
さらに、稚苗水稲、小麦、大豆、トウモロコシなどには
薬害がないという選択性の高い除草効果をも示すもので
ある。
本発明の除草剤は、化合物(1)の1種以上を有効成分
として含有するものである。
として含有するものである。
化合物(1)は、単独で使用することもできるが、通常
は常法によって、担体、界面活性剤、分散剤、補助剤な
どを配合(例えば、粉剤、乳剤、微粒剤、粒剤、水和剤
、油性の懸濁液、エアゾールなどの組成物として調製す
る。)して使用することが好ましい。
は常法によって、担体、界面活性剤、分散剤、補助剤な
どを配合(例えば、粉剤、乳剤、微粒剤、粒剤、水和剤
、油性の懸濁液、エアゾールなどの組成物として調製す
る。)して使用することが好ましい。
担体としては、例えば、タルク、ベントナイト、クレー
、カオリン、ケイソウ土、ホワイトカーボン、バーミキ
ュライト、ドロマイト、ゼオライト、消石灰、ケイ砂、
無水ケイ酸、硫安、尿素、木粉、澱粉、セルロースなど
の固体担体;炭化水素(ケロシン、鉱油など)、芳香族
炭化水素(ベンゼン、トルエン、キシレンなど)、塩素
化炭化水素(クロロホルム、四塩化炭素など)、エーテ
ル類(ジオキサン、テトラヒドロフランなど)、ケトン
類(アセトン、シクロヘキサノン、イソホロンなど)、
エステル類(酢酸エチル、エチレングリコールアセテー
ト、マレイン酸ジブチルなど)、アルコール類(メタノ
ール、n−ヘキサノール、エチレングリコールなと)、
極性溶媒(ジメチルホルムア【ド、ジメチルスルホキシ
ドなど)、水などの液体担体;空気、窒素、炭酸ガス、
フレオンなどの気体担体(この場合には、混合噴射する
ことができる)などを挙げることがでる。
、カオリン、ケイソウ土、ホワイトカーボン、バーミキ
ュライト、ドロマイト、ゼオライト、消石灰、ケイ砂、
無水ケイ酸、硫安、尿素、木粉、澱粉、セルロースなど
の固体担体;炭化水素(ケロシン、鉱油など)、芳香族
炭化水素(ベンゼン、トルエン、キシレンなど)、塩素
化炭化水素(クロロホルム、四塩化炭素など)、エーテ
ル類(ジオキサン、テトラヒドロフランなど)、ケトン
類(アセトン、シクロヘキサノン、イソホロンなど)、
エステル類(酢酸エチル、エチレングリコールアセテー
ト、マレイン酸ジブチルなど)、アルコール類(メタノ
ール、n−ヘキサノール、エチレングリコールなと)、
極性溶媒(ジメチルホルムア【ド、ジメチルスルホキシ
ドなど)、水などの液体担体;空気、窒素、炭酸ガス、
フレオンなどの気体担体(この場合には、混合噴射する
ことができる)などを挙げることがでる。
本則の植物への付着、吸収の向上、薬剤の分散、乳化、
展着などの性能を向上させるために使用できる界面活性
剤としては、非イオン系、陰イオン系、陽イオン系、両
性イオン系などの界面活性剤、例えば、アルコール硫酸
エステル類、アルキルスルホン酸塩、リグニンスルホン
酸塩、ポリオキシエチレングリコールエーテルなどを挙
げることができる。そして、その製剤の性状を改善する
ためには、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレン
グリコール、アラビアゴムなどを補助剤として用いるこ
とができる。
展着などの性能を向上させるために使用できる界面活性
剤としては、非イオン系、陰イオン系、陽イオン系、両
性イオン系などの界面活性剤、例えば、アルコール硫酸
エステル類、アルキルスルホン酸塩、リグニンスルホン
酸塩、ポリオキシエチレングリコールエーテルなどを挙
げることができる。そして、その製剤の性状を改善する
ためには、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレン
グリコール、アラビアゴムなどを補助剤として用いるこ
とができる。
本則の製造では、前記の担体、界面活性剤、分散剤、補
助剤などの他に、その他の農薬(殺菌剤、殺虫剤など)
、肥料、土壌改良剤などをそれぞれの目的に応じて、各
々単独で又は適当に組み合わせて使用することができる
。
助剤などの他に、その他の農薬(殺菌剤、殺虫剤など)
、肥料、土壌改良剤などをそれぞれの目的に応じて、各
々単独で又は適当に組み合わせて使用することができる
。
本発明の化合物(1)を製剤化した場合の有効成分濃度
は、乳剤では通常1〜50重量%、粉剤では通常0.3
〜25重量%、水和剤では通常1〜90重量%、粒剤で
は通常0.5〜5重量%、油剤では通常0.5〜5重量
%、エアゾールでは通常0゜1〜5重量%である。
は、乳剤では通常1〜50重量%、粉剤では通常0.3
〜25重量%、水和剤では通常1〜90重量%、粒剤で
は通常0.5〜5重量%、油剤では通常0.5〜5重量
%、エアゾールでは通常0゜1〜5重量%である。
これらの製剤を適当な濃度に希釈して、それぞれの目的
に応じて、植物茎葉、土壌、水田の水面に散布するか、
又は直接施用することによって各種の用途に供すること
ができる。
に応じて、植物茎葉、土壌、水田の水面に散布するか、
又は直接施用することによって各種の用途に供すること
ができる。
以下、本発明を実施例によって示す。なお、これらの実
施例は、本発明の範囲を限定するものではない。
施例は、本発明の範囲を限定するものではない。
実施例1
(1)(N−(2−フルオロベンジル)−2−(3−ト
リフルオロメチルへンジリデンアミノオキシ)ブタン酸
チオアミド(化合物3)の台底〕N−(2−フルオロベ
ンジル)−2−(3−)リフルオロメチルベンジリデン
アミノオキシ)ブタン酸アえド(10,0g、26.1
mmof) をキシレン(250adりに溶解し、五
硫化リン(13,4g、30.1mmojりを加え、7
0〜80°Cに保って約6時間加熱攪拌した。
リフルオロメチルへンジリデンアミノオキシ)ブタン酸
チオアミド(化合物3)の台底〕N−(2−フルオロベ
ンジル)−2−(3−)リフルオロメチルベンジリデン
アミノオキシ)ブタン酸アえド(10,0g、26.1
mmof) をキシレン(250adりに溶解し、五
硫化リン(13,4g、30.1mmojりを加え、7
0〜80°Cに保って約6時間加熱攪拌した。
反応終了後、不溶物を除去した後に溶媒を減圧下で留去
し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー〔ワコーゲルC−200、ヘキサン:酢酸エチル=(
19:1)〜(7:3)溶出。〕によって単離し、目的
化合物(I)(第1表中に化合物3として示した。)を
6.55 g得た。
し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー〔ワコーゲルC−200、ヘキサン:酢酸エチル=(
19:1)〜(7:3)溶出。〕によって単離し、目的
化合物(I)(第1表中に化合物3として示した。)を
6.55 g得た。
(2)(N−(2−クロロベンジル)−2−(3−)リ
フルオロメトキシベンジリデンアミノオキシ)ブタン酸
チオアミド(化合物8)の台底〕N−(2−クロロベン
ジル)−2−(3−)リフルオロメチルベンジリデンア
ごノオキシ)ブタン酸アごド(4,2g、10.1mm
of)をTHF(200m)に溶解し、ローソン試薬(
5,0g、12.3mmof)を加え、40℃に保って
約1時間加熱攪拌した。
フルオロメトキシベンジリデンアミノオキシ)ブタン酸
チオアミド(化合物8)の台底〕N−(2−クロロベン
ジル)−2−(3−)リフルオロメチルベンジリデンア
ごノオキシ)ブタン酸アごド(4,2g、10.1mm
of)をTHF(200m)に溶解し、ローソン試薬(
5,0g、12.3mmof)を加え、40℃に保って
約1時間加熱攪拌した。
反応終了後、不溶物を除去した後に溶媒を減圧下で留去
し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー〔ワコーゲルC−200、ヘキサン:酢酸エチル−(
19:1)〜(7:3)溶出。)によって単離し、目的
化合物(I)(第1表中に化合物8として示した。)を
3.9g得た。
し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー〔ワコーゲルC−200、ヘキサン:酢酸エチル−(
19:1)〜(7:3)溶出。)によって単離し、目的
化合物(I)(第1表中に化合物8として示した。)を
3.9g得た。
(3)(N−(2−クロロベンジル)−2−(3−シア
ノベンジリデンアミノオキシ)ブタン酸チオアミド(化
合物11)の台底〕 N−(2−クロロベンジル) −2−(3−シアノベン
ジリデンアミノオキシ)ブタン酸アミド(4,98g、
14.0mmo1)を1,2−ジクロロエタン(100
m)に溶解し、五硫化リン(8゜10g、18.2mm
of)を加え、50〜60℃に保って約1時間加熱攪拌
した。
ノベンジリデンアミノオキシ)ブタン酸チオアミド(化
合物11)の台底〕 N−(2−クロロベンジル) −2−(3−シアノベン
ジリデンアミノオキシ)ブタン酸アミド(4,98g、
14.0mmo1)を1,2−ジクロロエタン(100
m)に溶解し、五硫化リン(8゜10g、18.2mm
of)を加え、50〜60℃に保って約1時間加熱攪拌
した。
反応終了後、不溶物を除去した後に溶媒を減圧下で留去
し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー〔ワコーゲルC−200、ヘキサン:酢酸エチル=(
19:1)〜(7:3)溶出。〕によって単離し、目的
化合物(I)(第1表中に化合物11として示した。)
を4.85 g得た。
し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー〔ワコーゲルC−200、ヘキサン:酢酸エチル=(
19:1)〜(7:3)溶出。〕によって単離し、目的
化合物(I)(第1表中に化合物11として示した。)
を4.85 g得た。
(4)’(第1表中の化合物1.2.4.5〜7.9.
10.12の台底〕 (1)〜(3)と同様の合成方法で、第1表中に示した
ような置換基など(R1、R2、R3及びn)を有する
原料化合物(II)とチオカルボニル化剤とを用いて、
目的化合物(■)(第1表中に、化合物1.2.4.5
〜7.9.10.12として示した。)を得ることがで
きた。
10.12の台底〕 (1)〜(3)と同様の合成方法で、第1表中に示した
ような置換基など(R1、R2、R3及びn)を有する
原料化合物(II)とチオカルボニル化剤とを用いて、
目的化合物(■)(第1表中に、化合物1.2.4.5
〜7.9.10.12として示した。)を得ることがで
きた。
以上のようにして得られた目的化合物(1)を第1表に
示す。
示す。
実施例2
(1)〔粒剤の調製〕
化合物2を8重量部、ベントナイ)30重量部、タルク
59重量部、ネオペレックスパウダー(商品名:花王ア
トラス製)1重量部及びリグニンスルホン酸ソーダ2重
量部を均一に混合し、次いで少量の水を添加して混練し
た後、造粒、乾燥して粒剤を得た。
59重量部、ネオペレックスパウダー(商品名:花王ア
トラス製)1重量部及びリグニンスルホン酸ソーダ2重
量部を均一に混合し、次いで少量の水を添加して混練し
た後、造粒、乾燥して粒剤を得た。
C2)〔水和剤の調製〕
化合物3を50重量部、カオリン48重量部及びネオペ
レックスパウダー(商品名;花王アトラス製)2重量部
を均一に混合し、次いで粉砕して水和剤を得た。
レックスパウダー(商品名;花王アトラス製)2重量部
を均一に混合し、次いで粉砕して水和剤を得た。
(3)〔乳剤の調製〕
化合物12を30重量部、キシレン60重量部、ジメチ
ルホルムアミ15重量部及びトキサノン(商品名;三洋
化威工業製)5重量部を加えて均一に混合し、溶解して
乳剤を得た。
ルホルムアミ15重量部及びトキサノン(商品名;三洋
化威工業製)5重量部を加えて均一に混合し、溶解して
乳剤を得た。
(4)〔粉剤の調製〕
化合物7を5重量部、タルク50重量部及びカオリン4
5重量部を均一に混合して粉剤を得た。
5重量部を均一に混合して粉剤を得た。
実施例3
(1)〔水田除草試験〕
115000アールのワグネルポットに宇部土壌(沖積
埴壌土)を充填し、ノビエ、コナギ、マツバイ、ホタル
イ、イネなどの種子又は塊茎を植え、水を加えて水深3
cmの状態にした。
埴壌土)を充填し、ノビエ、コナギ、マツバイ、ホタル
イ、イネなどの種子又は塊茎を植え、水を加えて水深3
cmの状態にした。
実施例2に準じて調製した第1表に示す目的化合物(1
)の水和剤を、界面活性剤(0,05%)を含む水で希
釈し、ノビエ1葉期に、これらの各薬液中における化合
物(1)の有効濃度が20g/aとなるようにピペット
を用いて滴下処理した。
)の水和剤を、界面活性剤(0,05%)を含む水で希
釈し、ノビエ1葉期に、これらの各薬液中における化合
物(1)の有効濃度が20g/aとなるようにピペット
を用いて滴下処理した。
そして、平均気温25℃のガラス室で3週間管理した後
に、それらの除草効果を調査した。
に、それらの除草効果を調査した。
なお、薬剤効果の評価は、無処理区の状態と比較して、
6段階〔O:無害(正常発育)、1:僅少害、2:小書
、3:生害、4:大吉、5:完全枯死)で示した。
6段階〔O:無害(正常発育)、1:僅少害、2:小書
、3:生害、4:大吉、5:完全枯死)で示した。
第2表
シ、ダイス、トウモロコシ、コムギなどの種子又は塊茎
を植えて覆土した。
を植えて覆土した。
実施例2に準じて調製した第1表に示す目的化合物(I
)の水和剤を、界面活性剤(0,05%)を含む水で希
釈し、これらの各薬液中における化合物(1)の有効濃
度が20 g / aとなるように各土壌表層に均一に
噴霧した。そして、平均気温25℃のガラス室で3週間
管理した後に、それらの除草効果を調査した。
)の水和剤を、界面活性剤(0,05%)を含む水で希
釈し、これらの各薬液中における化合物(1)の有効濃
度が20 g / aとなるように各土壌表層に均一に
噴霧した。そして、平均気温25℃のガラス室で3週間
管理した後に、それらの除草効果を調査した。
その結果を第3表に示す。なお、除草効果の評価は、(
1)と同様行った。
1)と同様行った。
(以下、余白)
(2)〔畑作土壌処理試験〕
115000アールのワグネルポットに宇部土壌(沖積
埴壌土)を充填し、メヒシバ、ノビエ、シロザ、イヌビ
エ、シロザ、スベリヒュ、ギシギ第 3 表 オイヌノフグリ、ハコベ、コムギの種子又は塊茎を植え
て覆土し、2週間育成した。
埴壌土)を充填し、メヒシバ、ノビエ、シロザ、イヌビ
エ、シロザ、スベリヒュ、ギシギ第 3 表 オイヌノフグリ、ハコベ、コムギの種子又は塊茎を植え
て覆土し、2週間育成した。
実施例2に準して調製した第1表に示す目的化合物(I
)の水和剤を、界面活性剤(0,05%)を含む水で2
000ppmに希釈し、前記の各植物体に均一に噴霧し
た。そして、平均気温25℃のガラス室で3週間管理し
た後に、それらの除草効果を調査した。
)の水和剤を、界面活性剤(0,05%)を含む水で2
000ppmに希釈し、前記の各植物体に均一に噴霧し
た。そして、平均気温25℃のガラス室で3週間管理し
た後に、それらの除草効果を調査した。
その結果を第4表に示す。なお、なお、除草効果の評価
は、(1)と同様行った。
は、(1)と同様行った。
(以下、余白)
(3)〔畑作茎葉処理試験〕
115000アールのワグネルポットに火山灰土壌を充
填し、メヒシバ、ノビエ、オナモミ、オ第 表 〔発明の効果〕 本発明の新規なベンジリデンアミノオキシアルカン酸チ
オアくド誘導体は、イネ科雑草、一般広葉雑草、難防除
広葉雑草に対して優れた除草効果を示し、またさらに、
稚苗水稲、小麦、大豆、トウモロコシなどには薬害がな
いという選択性の高い除草効果をも示すものである。
填し、メヒシバ、ノビエ、オナモミ、オ第 表 〔発明の効果〕 本発明の新規なベンジリデンアミノオキシアルカン酸チ
オアくド誘導体は、イネ科雑草、一般広葉雑草、難防除
広葉雑草に対して優れた除草効果を示し、またさらに、
稚苗水稲、小麦、大豆、トウモロコシなどには薬害がな
いという選択性の高い除草効果をも示すものである。
Claims (3)
- (1)次式: ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R_1はハロゲン原子、ハロ低級アルキル基、
ハロ低級アルコキシ基、シアノ基又はニトロ基で置換さ
れていてもよいフェニル基を表し;R_2は低級アルキ
ル基を表し;R_3はハロゲン原子で置換されていても
よいフェニル基を表すか、或いは置換されていてもよい
チエニル基を表し;nは0又は1を表す。) で示されるベンジリデンアミノオキシアルカン酸チオア
ミド誘導体。 - (2)次式: ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、R_1、R_2、R_3及びnは請求項1の記
載と同義である。) で示される化合物とチオカルボニル化反応剤とを反応さ
せることを特徴とする請求項1記載の式( I )で示さ
れるベンジリデンアミノオキシアルカン酸チオアミド誘
導体の製造法。 - (3)請求項1記載の式( I )で示されるベンジリデ
ンアミノオキシアルカン酸チオアミド誘導体を有効成分
とする除草剤。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5666290A JP2597212B2 (ja) | 1990-03-09 | 1990-03-09 | ベンジリデンアミノオキシアルカン酸チオアミド誘導体、その製造法及び除草剤 |
| DE69009679T DE69009679T2 (de) | 1989-11-09 | 1990-10-30 | Benzylidenaminooxyalkan(thio)carbonsäureamidderivate, Verfahren zu deren Herstellung und Herbizide. |
| EP90311904A EP0427445B1 (en) | 1989-11-09 | 1990-10-30 | Benzylideneaminoxyalkanoic acid (thio) amide derivative, process for preparing the same and herbicide |
| ES90311904T ES2055342T3 (es) | 1989-11-09 | 1990-10-30 | Derivado (tio)amida del acido bencilidenaminooxialcanoico, procedimiento para preparar el mismo y herbicida. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5666290A JP2597212B2 (ja) | 1990-03-09 | 1990-03-09 | ベンジリデンアミノオキシアルカン酸チオアミド誘導体、その製造法及び除草剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03261760A true JPH03261760A (ja) | 1991-11-21 |
| JP2597212B2 JP2597212B2 (ja) | 1997-04-02 |
Family
ID=13033606
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5666290A Expired - Lifetime JP2597212B2 (ja) | 1989-11-09 | 1990-03-09 | ベンジリデンアミノオキシアルカン酸チオアミド誘導体、その製造法及び除草剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2597212B2 (ja) |
-
1990
- 1990-03-09 JP JP5666290A patent/JP2597212B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2597212B2 (ja) | 1997-04-02 |
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