JPH03276737A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JPH03276737A
JPH03276737A JP2077443A JP7744390A JPH03276737A JP H03276737 A JPH03276737 A JP H03276737A JP 2077443 A JP2077443 A JP 2077443A JP 7744390 A JP7744390 A JP 7744390A JP H03276737 A JPH03276737 A JP H03276737A
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JP
Japan
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lead
leads
semiconductor chip
insulating tape
bonded
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Application number
JP2077443A
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English (en)
Inventor
Masahiko Sakurai
櫻井　正彦
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Publication of JPH03276737A publication Critical patent/JPH03276737A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 （産業上の利用分野） 本発明は半導体装置に係わり、特に高密度表面実装に好
適なものに関する。
（従来の技術） 近年、高密度実装化の要求が高まるなかで、Ｔ　Ａ　Ｂ
　（Ｔａｐｅ　Ａｕｔｏｍａｉｅｄ　Ｂｏｎｄｉｎｇ）
フィルムが広く用いられるに至っている。
このＴＡＢフィルムを用いた従来の半導体装置の断面構
造を、第３図に示す。ポリイミド等の高耐熱性を有する
絶縁テープ１１の片面に、銅（Ｃｕ）等から成る金属箔
が接着積層された後、所定の形状にエツチング成形され
て、リード２が形成されている。搭載する半導体チップ
４には、金（Ａｕ）あるいは銅（Ｃｕ）から成る突起電
極３が形成されている。絶縁テープ１１に形成された開
孔部６に、この半導体チップ４が設置され、突起電極３
とリード２とが熱圧着法等により接合されている。そし
てエポキシ樹脂等を用いて、ポツティング成形あるいは
トランスファモールド成形等により成形された封止体５
によって封止されている。
（発明が解決しようとする課題） しかし、このような従来の半導体装置は、絶縁テープ１
１の片面にのみリード２が形成されているため、実装を
平面的にしか行えず、実装面積において非効率的である
という問題があった。
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、実装効率を
向上させ、高密度実装化への要求に対応することができ
る半導体装置を提供することを目的とする。
〔発明の構成〕
（課題を解決するための手段） 本発明の半導体装置は、絶縁性テープと、絶縁性テープ
の表面に形成されたリードと、リードにそれぞれ電気的
に接続されるための突起電極を有した半導体チップと、
突起電極がリードに電気的に接続された半導体チップを
封止する封止体とを備えた装置であって、リードが絶縁
性テープの両面に形成されていることを特徴としている
。
ここでリードが、絶縁性テープの半導体チップ搭載側の
表面に形成された第］のリードと、半導体チップ搭載側
と反対側の表面に形成された第２のリードとから成り、
第１のリードは突起電極に圧着接合されており、第２の
リードは突起電極にワイヤで接合されているものであっ
てもよい。
（作　用） 絶縁性テープの両面にリードが形成されていることによ
り、片側の面にのみ形成されている場合と比較し、同一
の面積で二倍の外部電極を設けることが可能となり、実
装密度が大幅に向上する。
ここで、半導体チップ搭載側の第１のリードが突起電極
に直接圧着接合され、反対側の第２のリードがワイヤを
介して突起電極に接合されている場合には、半導体チッ
プとリードとの間で接続に必要な面積が最小限で足り、
実装密度が向上する。
（実施例） 以下、本発明の一実施例について、図面を参照して説明
する。
第１図に本実施例による半導体装置の構造を示し、さら
に第２図にその縦断面構造を示す。従来の装置と異なる
のは、絶縁テープ１１の両面に銅箔が接着積層され、エ
ツチング、すず鍍金等によって、リード２ａ及び２ｂが
形成されている点である。これに対応するため、半導体
チップ４には各リード２ａ及び２ｂとの間で接続できる
ように、二列の突起電極３ａ及び３ｂが配置されている
。
リードのうち、半導体チップ４側の面に形成されている
リード２ａと突起電極３ａとの間の接続は、従来の装置
と同様に、熱圧着等により直接接合（Ｉｎｎｅｒ　Ｌｅ
ａｄ　Ｂｏｎｄｉｎｇ）されている。そして、反対面の
り一ド２ｂと突起電極３ｂとは、ワイヤボンディングに
より、金（Ａｕ）あるいは銅（Ｃｕ）等から成るワイヤ
６で接合されている。
しかる後に、従来の装置と同様にポツティングあるいは
トランスファモールド成形が行われて、封止体５で封止
されている。
このように本実施例によれば、絶縁テープの両面にリー
ドが形成されているため、外部電極が従来と比較し、同
一の実装面積で約二倍の高密度で実装することが可能で
ある。
上述した実施例は一例であって、本発明を限定するもの
ではない。例えば、本実施例では第１図に示されたよう
に、絶縁テープ１の両面に形成すべきリード２ａ及び２
ｂが、絶縁テープ１をはさんで対向するように配置され
ているが、ピッチをずらして配置されていてもよい。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明の半導体装置によれば、絶縁
性テープの両面にリードが形成されているため、片面に
のみ形成されている場合と比較して、同一の面積で二倍
の外部電極を設けることができ、実装密度の大幅な向上
が達成される。
半導体チップとリードとの接続が、半導体チップ搭載側
の第１のリードは突起電極に直接圧着接合されており、
反対側の第２のリードはワイヤを介して突起電極に接合
されている場合には、接続に必要な面積を最小限にする
ことができ、実装密度の向上がもたらされる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の一実施例による半導体装置の構造を示
す平面図、第２図は同装置の縦断面構造を示す縦断面図
、第３図は従来の半導体装置の縦断面構造を示す縦断面
図である。 １・・・絶縁テープ、２ａ、２ｂ−リード、３ａ。 ３ｂ・・・突起電極、４・・・半導体チップ、５・・・
封止体、６・・・開孔部。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、絶縁性テープと、 前記絶縁性テープの表面に形成されたリードと、前記リ
    ードにそれぞれ電気的に接続されるための突起電極を有
    した半導体チップと、 前記突起電極が前記リードに電気的に接続された前記半
    導体チップを封止する封止体とを備えた半導体装置にお
    いて、 前記リードは前記絶縁性テープの両面に形成されている
    ことを特徴とする半導体装置。 ２、前記リードは、前記絶縁性テープの前記半導体チッ
    プ搭載側の表面に形成された第１のリードと、前記半導
    体チップ搭載側と反対側の表面に形成された第２のリー
    ドから成り、 前記第１のリードは前記突起電極に圧着接合されており
    、前記第２のリードは前記突起電極にワイヤで接合され
    ていることを特徴とする請求項１記載の半導体装置。
JP2077443A 1990-03-27 1990-03-27 半導体装置 Pending JPH03276737A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007081093A (ja) * 2005-09-14 2007-03-29 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体装置
US7569917B2 (en) 2006-06-07 2009-08-04 Oki Semiconductor Co., Ltd. Semiconductor device

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007081093A (ja) * 2005-09-14 2007-03-29 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体装置
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