JPH03279233A - 加熱されたガラス塊の保持装置 - Google Patents
加熱されたガラス塊の保持装置Info
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- JPH03279233A JPH03279233A JP8284290A JP8284290A JPH03279233A JP H03279233 A JPH03279233 A JP H03279233A JP 8284290 A JP8284290 A JP 8284290A JP 8284290 A JP8284290 A JP 8284290A JP H03279233 A JPH03279233 A JP H03279233A
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- retainer
- heated
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- glass
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B35/00—Transporting of glass products during their manufacture, e.g. hot glass lenses, prisms
- C03B35/005—Transporting hot solid glass products other than sheets or rods, e.g. lenses, prisms, by suction or floatation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野〕
本発明は、溶融したガラスを成形することにより光学素
子を得る製造方法において、加熱されたガラス塊を保持
する装置に関する。
子を得る製造方法において、加熱されたガラス塊を保持
する装置に関する。
（従来の技術〕
従来、加熱、軟化されたガラスを保持するには、例えば
特開平１−１８３４２６号公報に開示されるように、ガ
ラスと接触する保持装置の先端部にガラスが融着しない
ように、ＴｉＮなどを被覆していた。
特開平１−１８３４２６号公報に開示されるように、ガ
ラスと接触する保持装置の先端部にガラスが融着しない
ように、ＴｉＮなどを被覆していた。
しかし、上記従来技術の保持装置では、加熱されたガラ
スが、保持装置と接触することにより急冷されて、部分
的に大きな歪みを生しるという問題があった。この歪み
は、光学特性上有害となるばかりか、カンと呼ばれる割
れを惹起してしまう。
スが、保持装置と接触することにより急冷されて、部分
的に大きな歪みを生しるという問題があった。この歪み
は、光学特性上有害となるばかりか、カンと呼ばれる割
れを惹起してしまう。
急冷を防くためには、保持装置を予備加熱しておくこと
が考えられるが、保持装置表面の酸化が急激に進行して
、被膜の剥離や再結晶による表面の荒れが生し、ガラス
の融着が生じてしまう。そのため、保持装置の寿命が短
くなり、長時間連続して光学素子を製造することができ
ない。
が考えられるが、保持装置表面の酸化が急激に進行して
、被膜の剥離や再結晶による表面の荒れが生し、ガラス
の融着が生じてしまう。そのため、保持装置の寿命が短
くなり、長時間連続して光学素子を製造することができ
ない。
本発明は、かかる従来の問題点に鑑みてなされたもので
、長時間連続して使用可能で、かつ加熱れた。力゛ラス
塊内部に大きな歪みを生じさせない保持装置を提供する
ことを目的とする。
、長時間連続して使用可能で、かつ加熱れた。力゛ラス
塊内部に大きな歪みを生じさせない保持装置を提供する
ことを目的とする。
上記目的を達成するために、請求項１に係る発明は、加
熱されたガラスと接触する先端部を、ＨｆＯ！またはＺ
ｒＯ□の少なくともいずれか１つを主成分とした焼結体
により形成して、加熱されたガラス塊の保持装置を構成
した。
熱されたガラスと接触する先端部を、ＨｆＯ！またはＺ
ｒＯ□の少なくともいずれか１つを主成分とした焼結体
により形成して、加熱されたガラス塊の保持装置を構成
した。
また、請求項２に係る発明は、加熱されたガラスと接触
する先端部の表面を、Ｈｆ ＯｚまたはＺｒ０ｔの少な
くともいずれか１つを主成分とした膜により被覆して、
加熱されたガラス塊の保持装置を構成した。
する先端部の表面を、Ｈｆ ＯｚまたはＺｒ０ｔの少な
くともいずれか１つを主成分とした膜により被覆して、
加熱されたガラス塊の保持装置を構成した。
前述のように、加熱されたガラス塊を急冷すると、内部
に歪みを生しるが、本発明では、保持装置の先端部を極
めて熱伝導率の小さいＨｆＯ，またはＺｒＯ，の少なく
ともいずれか１つを主成分とした材料により形成したた
め、ガラス塊は保持装置と接触しても急冷されず、その
結果、内部歪みやカンの発生がない。
に歪みを生しるが、本発明では、保持装置の先端部を極
めて熱伝導率の小さいＨｆＯ，またはＺｒＯ，の少なく
ともいずれか１つを主成分とした材料により形成したた
め、ガラス塊は保持装置と接触しても急冷されず、その
結果、内部歪みやカンの発生がない。
また、ガラス塊の内部歪みを特に少なくするために、保
持装置を予熱する場合にも、その温度は高々３００°Ｃ
程度で十分であり、保持装置の先端部表面が再結晶化等
により劣化することはなく、結果として長時間連続して
使用できる。
持装置を予熱する場合にも、その温度は高々３００°Ｃ
程度で十分であり、保持装置の先端部表面が再結晶化等
により劣化することはなく、結果として長時間連続して
使用できる。
（第１実施例）
図は本実施例の保持装置を示すもので、保持装置の先端
部である吸着部１には、吸引口２が設けられ、吸引口２
内を減圧することで、ガラス塊３を吸着するものである
。
部である吸着部１には、吸引口２が設けられ、吸引口２
内を減圧することで、ガラス塊３を吸着するものである
。
本実施例では、吸着部１を組成比がＺｒＯ□８８重量％
およびＹ２Ｏ，１２重量％のジルコニアセラミックスに
より形成した。
およびＹ２Ｏ，１２重量％のジルコニアセラミックスに
より形成した。
この保持装置を用いて、約４５０°Ｃに加熱、軟化した
ガラス塊３を吸着させたところ、１０，０００回使用し
ても吸着部１ （先端部）の劣化はな（、ガラスの融着
もなかった。また、ガラス塊３にカンも発生しなかった
。
ガラス塊３を吸着させたところ、１０，０００回使用し
ても吸着部１ （先端部）の劣化はな（、ガラスの融着
もなかった。また、ガラス塊３にカンも発生しなかった
。
（第２実施例）
゛第１実施例と同様な吸着部を超硬合金により作成し、
その表面にＲＦスパッタリングによりＨｆ Ｏ，膜を形
成した。
その表面にＲＦスパッタリングによりＨｆ Ｏ，膜を形
成した。
この保持装置を用いで、約４５０″Ｃに加熱、軟化した
ガラス塊を吸着させたところ、１０，０００回使用して
も先端部の劣化はなく、ガラスの融着もなかった。また
、ガラス塊にカンも発生しなかった。
ガラス塊を吸着させたところ、１０，０００回使用して
も先端部の劣化はなく、ガラスの融着もなかった。また
、ガラス塊にカンも発生しなかった。
本実施例では、吸着部の母材を超硬合金で作成したため
、放電加工が可能であり、加工コストを低く抑えること
ができた。
、放電加工が可能であり、加工コストを低く抑えること
ができた。
（第３実施例）
第１実施例と同様な吸着部をステンレス鋼により作成し
、その表面にプラズマ溶射法によりＺｒ０２７５重量％
およびＭｇ０２５重量％の被膜を形成した。
、その表面にプラズマ溶射法によりＺｒ０２７５重量％
およびＭｇ０２５重量％の被膜を形成した。
この保持装置を約２００°Ｃに予熱し、約８００°Ｃに
加熱、軟化したガラス塊を吸着させたところ、１０．０
００回使用しても先端部の劣化はなく、ガラスの融着も
なかった。また、ガラス塊にカンも発生しなかった。
加熱、軟化したガラス塊を吸着させたところ、１０．０
００回使用しても先端部の劣化はなく、ガラスの融着も
なかった。また、ガラス塊にカンも発生しなかった。
本実施例では、吸着部の母材をステンレス鋼で作成した
ため、容易に加工でき、加工コストを低く抑えることが
できた。また、溶射被膜は、スパッタリング法等のＰＶ
Ｄ法と比較して、膜厚を厚くすることが可能なため、十
分な断熱効果が得られた。
ため、容易に加工でき、加工コストを低く抑えることが
できた。また、溶射被膜は、スパッタリング法等のＰＶ
Ｄ法と比較して、膜厚を厚くすることが可能なため、十
分な断熱効果が得られた。
以上の各実施例においては、図に示すような形状の保持
装置を例に説明したが、本発明はかかる実施例に限定さ
れるものではなく、加熱されたガラス塊と接触する先端
部を有する、あらゆる形状の保持装置についても適用で
きるのは勿論である。
装置を例に説明したが、本発明はかかる実施例に限定さ
れるものではなく、加熱されたガラス塊と接触する先端
部を有する、あらゆる形状の保持装置についても適用で
きるのは勿論である。
また、ＨｆＯ□とＺｒＯ２との両者を主成分としても、
上記実施例と同様の効果が得られる。
上記実施例と同様の効果が得られる。
以上のように、本発明の保持装置によれば、保持装置の
先端部を、断熱効果の大きいＨｆＯ，またはＺｒＯ２の
少なくともいずれか１つを主成分とした材料により形成
したので、加熱されたガラス塊内部に歪みを生じたり、
カンを生したりすることはなく、長時間連続して使用可
能であり、安定して光学素子の製造を行うことができる
。
先端部を、断熱効果の大きいＨｆＯ，またはＺｒＯ２の
少なくともいずれか１つを主成分とした材料により形成
したので、加熱されたガラス塊内部に歪みを生じたり、
カンを生したりすることはなく、長時間連続して使用可
能であり、安定して光学素子の製造を行うことができる
。
図は本発明の保持装置の第１実施例を示す縦断面図であ
る。 １・・・吸着部 ２・・・吸引口 ３・・・ガラス塊
る。 １・・・吸着部 ２・・・吸引口 ３・・・ガラス塊
Claims (2)
- （１）加熱されたガラスと接触する先端部を、ＨｆＯ＿
２またはＺｒＯ＿２の少なくともいずれか１つを主成分
とした焼結体により形成したことを特徴とする加熱され
たガラス塊の保持装置。 - （２）加熱されたガラスと接触する先端部の表面を、Ｈ
ｆＯ＿２またはＺｒＯ＿２の少なくともいずれか１つを
主成分とした膜により被覆したことを特徴とする加熱さ
れたガラス塊の保持装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8284290A JPH03279233A (ja) | 1990-03-29 | 1990-03-29 | 加熱されたガラス塊の保持装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8284290A JPH03279233A (ja) | 1990-03-29 | 1990-03-29 | 加熱されたガラス塊の保持装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03279233A true JPH03279233A (ja) | 1991-12-10 |
Family
ID=13785647
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8284290A Pending JPH03279233A (ja) | 1990-03-29 | 1990-03-29 | 加熱されたガラス塊の保持装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03279233A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20030090255A (ko) * | 2002-05-22 | 2003-11-28 | 주식회사 하이켐텍 | 고화성 흡착패드 |
-
1990
- 1990-03-29 JP JP8284290A patent/JPH03279233A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20030090255A (ko) * | 2002-05-22 | 2003-11-28 | 주식회사 하이켐텍 | 고화성 흡착패드 |
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