JPH032829B2 - - Google Patents
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- JPH032829B2 JPH032829B2 JP17918586A JP17918586A JPH032829B2 JP H032829 B2 JPH032829 B2 JP H032829B2 JP 17918586 A JP17918586 A JP 17918586A JP 17918586 A JP17918586 A JP 17918586A JP H032829 B2 JPH032829 B2 JP H032829B2
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Landscapes
- Aftertreatments Of Artificial And Natural Stones (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
<発明の技術分野>
本発明は、セメント製品の表面に釉薬が融着し
た施釉セメント製品の製造法に関する。
た施釉セメント製品の製造法に関する。
<従来の技術>
この種の製造法においては、セメント製品、特
に、気泡セメント製品の表面に塗布した釉薬がセ
メント製品内に吸収されるのを防止するために、
又は、セメント製品の表面に融着した釉薬にひび
割れないし貫入、ピンホール等が発生するのを防
止するために、釉薬を塗布する前に、セメント製
品の表面に下地処理を施す。
に、気泡セメント製品の表面に塗布した釉薬がセ
メント製品内に吸収されるのを防止するために、
又は、セメント製品の表面に融着した釉薬にひび
割れないし貫入、ピンホール等が発生するのを防
止するために、釉薬を塗布する前に、セメント製
品の表面に下地処理を施す。
例えば、特開昭61−6188号公報に開示されてい
るように、セメント製品の表面にセメントペース
トをすり込んで目止めを施す。
るように、セメント製品の表面にセメントペース
トをすり込んで目止めを施す。
また、特開昭59−92981号公報に開示されてい
るように、セメント製品の表面を、200〜800℃の
温度で焼成して、その表面に存在していた付着水
又は結晶水を取り除き、セラミツクス層に改質す
る。
るように、セメント製品の表面を、200〜800℃の
温度で焼成して、その表面に存在していた付着水
又は結晶水を取り除き、セラミツクス層に改質す
る。
<発明が解決しようとする問題点>
ところが、前者の従来技術においては、セメン
ト製品の表面にセメントペーストをすり込んで目
止めを施すので、セメントペーストのすり込みに
多くの手間が掛り、下地処理の能率が高くない。
ト製品の表面にセメントペーストをすり込んで目
止めを施すので、セメントペーストのすり込みに
多くの手間が掛り、下地処理の能率が高くない。
また、後者の従来技術においては、釉薬を融着
させるために焼成する外に、下地処理のために焼
成し、2度焼成するので、焼成エネルギを多く要
し、焼成費が高い。
させるために焼成する外に、下地処理のために焼
成し、2度焼成するので、焼成エネルギを多く要
し、焼成費が高い。
本発明の目的は、上記のような従来の問題点を
解決することである。
解決することである。
<問題点を解決するための手段>
本発明は、セメント製品の表面に釉薬を融着さ
せるための下地処理に釉薬を用いるものである。
せるための下地処理に釉薬を用いるものである。
即ち、セメント製品の表面に釉薬を施して乾燥
させ、その上に前記釉薬より低温で熔融する釉薬
を施し、下層の釉薬が軟化するが熔融しない温度
で焼成して、上層の釉薬を下層の軟化した釉薬を
介してセメント製品の表面に融着し、セメント製
品を養生することを特徴とする施釉セメント製品
の製造法である。
させ、その上に前記釉薬より低温で熔融する釉薬
を施し、下層の釉薬が軟化するが熔融しない温度
で焼成して、上層の釉薬を下層の軟化した釉薬を
介してセメント製品の表面に融着し、セメント製
品を養生することを特徴とする施釉セメント製品
の製造法である。
<作用>
本発明の製造法においては、下層の釉薬は、軟
化するが、熔融しないので、セメント製品内に吸
収されることがなく、また、熔融しないが、軟化
して流動性を帯びるので、セメント製品表面の凹
凸に馴染み、セメント製品の表面を目止めする役
割を果たすことになる。
化するが、熔融しないので、セメント製品内に吸
収されることがなく、また、熔融しないが、軟化
して流動性を帯びるので、セメント製品表面の凹
凸に馴染み、セメント製品の表面を目止めする役
割を果たすことになる。
また、上層の釉薬は、熔融して融着するので、
ガラス質の光沢を発して美観を呈し、また、下層
の釉薬によつてセメント製品の表面が目止めされ
ているので、上層の釉薬の表面は、滑らかな釉面
になり、貫入やピンホール等が発生しない。
ガラス質の光沢を発して美観を呈し、また、下層
の釉薬によつてセメント製品の表面が目止めされ
ているので、上層の釉薬の表面は、滑らかな釉面
になり、貫入やピンホール等が発生しない。
セメント製品が気泡セメント製品の場合、下層
の釉薬が流動性を帯びてセメント製品表面の気泡
に侵入するので、下層の釉薬とセメント製品の密
着性がよい。下層の釉薬と上層の釉薬の密着性が
よいのは明らかである。
の釉薬が流動性を帯びてセメント製品表面の気泡
に侵入するので、下層の釉薬とセメント製品の密
着性がよい。下層の釉薬と上層の釉薬の密着性が
よいのは明らかである。
<具体的手段>
本発明において用いるセメント製品には、無気
泡セメント製品と気泡セメント製品が含まれる。
気泡セメント製品には、セメント、生石灰、ケイ
砂と発泡剤のアルミニウム粉末を主原料として、
発泡させ、オートクレーブ養生して硬化させた、
ALCと略称される軽量気泡コンクリート製品が
含まれ、また、セメント、ケイ砂、人工軽量骨材
と起泡剤を主原料として、起泡させ、オートクレ
ーブ養生して硬化させた、ALCの1種であるPM
ライトが含まれる。
泡セメント製品と気泡セメント製品が含まれる。
気泡セメント製品には、セメント、生石灰、ケイ
砂と発泡剤のアルミニウム粉末を主原料として、
発泡させ、オートクレーブ養生して硬化させた、
ALCと略称される軽量気泡コンクリート製品が
含まれ、また、セメント、ケイ砂、人工軽量骨材
と起泡剤を主原料として、起泡させ、オートクレ
ーブ養生して硬化させた、ALCの1種であるPM
ライトが含まれる。
本発明において用いる釉薬は、一般的には、ケ
イ酸塩ガラス釉薬を指す。この釉薬には、鉛釉、
アルカリ釉、アルカリ−石灰釉、石灰釉、長石釉
や硼酸釉等がある。また、これらの釉薬を加熱し
て熔融し、急冷してガラス状にしたフリツト釉を
そのまま用いてもよいし、また、このフリツト釉
に長石、粘土、シリカ質粉末やアルミナ質粉末等
を混合したものを用いてもよい。
イ酸塩ガラス釉薬を指す。この釉薬には、鉛釉、
アルカリ釉、アルカリ−石灰釉、石灰釉、長石釉
や硼酸釉等がある。また、これらの釉薬を加熱し
て熔融し、急冷してガラス状にしたフリツト釉を
そのまま用いてもよいし、また、このフリツト釉
に長石、粘土、シリカ質粉末やアルミナ質粉末等
を混合したものを用いてもよい。
上層の釉薬は、下層の釉薬より、20〜300℃、
好ましくは50〜150℃低い温度で熔融するものを
用いる。
好ましくは50〜150℃低い温度で熔融するものを
用いる。
下層の釉薬には、熱膨張が上層の釉薬より少な
く、セメント製品より多いものを用いると、融着
した上層の釉薬の表面に貫入が生じ難い。一般的
に、熱膨張係数は、上層の釉薬に用いられる低温
釉の方がセメント製品より大きく、焼成後の冷却
による収縮は、低温釉の方がセメント製品より大
きく、両者の収縮量の差が貫入の発生原因になつ
ている。熱膨張係数の大きい釉薬と熱膨張係数の
小さいセメント製品の間に両者の中間の熱膨張係
数を有する釉薬の層を設けると、上層の釉薬と下
層の釉薬の収縮量の差が少なくなつて、上層の釉
薬の表面に貫入が生じ難くなる。
く、セメント製品より多いものを用いると、融着
した上層の釉薬の表面に貫入が生じ難い。一般的
に、熱膨張係数は、上層の釉薬に用いられる低温
釉の方がセメント製品より大きく、焼成後の冷却
による収縮は、低温釉の方がセメント製品より大
きく、両者の収縮量の差が貫入の発生原因になつ
ている。熱膨張係数の大きい釉薬と熱膨張係数の
小さいセメント製品の間に両者の中間の熱膨張係
数を有する釉薬の層を設けると、上層の釉薬と下
層の釉薬の収縮量の差が少なくなつて、上層の釉
薬の表面に貫入が生じ難くなる。
下層の釉薬又は上層の釉薬を施す方法には、は
け塗り、吹付け、ローラ塗布やどぶ漬け等が用い
られる。
け塗り、吹付け、ローラ塗布やどぶ漬け等が用い
られる。
下層の釉薬の乾燥は、常温〜150℃の温度で行
うことができる。
うことができる。
焼成温度は、下層の釉薬が軟化するが熔融しな
い温度であつて、上層の釉薬が熔融する温度であ
る。
い温度であつて、上層の釉薬が熔融する温度であ
る。
焼成時間は、5〜120分が適当である。
上層の釉薬が融着したセメント製品を養生する
方法には、オートクレーブ養生法、蒸気養生法又
は水中養生法が用いられる。オートクレーブ養生
法は、強度の発現に最も好ましい。また、水中養
生法は、数分間で強度が発現する。
方法には、オートクレーブ養生法、蒸気養生法又
は水中養生法が用いられる。オートクレーブ養生
法は、強度の発現に最も好ましい。また、水中養
生法は、数分間で強度が発現する。
実施例 1
本例の製造法は、先ず、気泡セメント製品の一
種である前記のPMライト1の表面に、鉛フリツ
ト100重量部とベントナイト1重量部を混合した
釉薬2をスプレーによつて吹付け、110℃で1時
間乾燥させた。この釉薬2は、軟化温度が570℃
位であり、熔融温度が700〜750℃である。
種である前記のPMライト1の表面に、鉛フリツ
ト100重量部とベントナイト1重量部を混合した
釉薬2をスプレーによつて吹付け、110℃で1時
間乾燥させた。この釉薬2は、軟化温度が570℃
位であり、熔融温度が700〜750℃である。
次に、上記の釉薬2の上に、鉛−硼酸系フリツ
ト100重量部とベントナイト1重量部を混合した
釉薬3をスプレーによつて吹付けた。この釉薬3
は、熔融温度が550〜600℃である。
ト100重量部とベントナイト1重量部を混合した
釉薬3をスプレーによつて吹付けた。この釉薬3
は、熔融温度が550〜600℃である。
2種類の釉薬2,3を上下2層に吹付けた気泡
セメント製品1は、700℃の温度に加熱した電気
炉内で15分間焼成した。次に、オートクレーブ養
生した。
セメント製品1は、700℃の温度に加熱した電気
炉内で15分間焼成した。次に、オートクレーブ養
生した。
本例の製造法によつて得られた施釉セメント製
品は、図面に示すように、その表面に、上層の釉
薬3が下層の軟化した釉薬2を介して融着してい
た。
品は、図面に示すように、その表面に、上層の釉
薬3が下層の軟化した釉薬2を介して融着してい
た。
上層の釉薬3の表面には、貫入やピンホールは
認められなかつた。
認められなかつた。
実施例 2
本例の製造法は、先ず、気泡セメント製品の一
種である前記のALCの表面に前例における下層
の釉薬2と同じ釉薬をスプレーによつて吹付け、
常温で約24時間乾燥させた。
種である前記のALCの表面に前例における下層
の釉薬2と同じ釉薬をスプレーによつて吹付け、
常温で約24時間乾燥させた。
次に、上記の釉薬の上に前例における上層の釉
薬3と同じ釉薬をスプレーによつて吹付けた。
薬3と同じ釉薬をスプレーによつて吹付けた。
2種類の釉薬を上下2層に吹付けた気泡セメン
ト製品は、700℃の温度に加熱した電気炉内で15
分間焼成した。次に、オートクレーブ養生した。
ト製品は、700℃の温度に加熱した電気炉内で15
分間焼成した。次に、オートクレーブ養生した。
本例の製造法によつて得られた施釉セメント製
品は、前例におけるそれと同様に、その表面に、
上層の釉薬が下層の軟化した釉薬を介して融着し
ていた。
品は、前例におけるそれと同様に、その表面に、
上層の釉薬が下層の軟化した釉薬を介して融着し
ていた。
上層の釉薬の表面には、貫入やピンホールは認
められなかつた。
められなかつた。
<発明の効果>
本発明の製造法においては、下層の釉薬がセメ
ント製品の表面を目止めすることになり、釉薬を
施して乾燥するには多くの手間が掛らないので、
下地処理の能率が高い。
ント製品の表面を目止めすることになり、釉薬を
施して乾燥するには多くの手間が掛らないので、
下地処理の能率が高い。
また、下地処理のためのみの焼成は行わず、1
度しか焼成しないので、多くの焼成エネルギを要
せず、焼成費が高くならない。
度しか焼成しないので、多くの焼成エネルギを要
せず、焼成費が高くならない。
本発明の製造法によつて得られた施釉セメント
製品は、上層の釉薬の表面にピンホール、ぶく、
貫入や釉ちぢれがなく美観を呈し、建材として使
用される。
製品は、上層の釉薬の表面にピンホール、ぶく、
貫入や釉ちぢれがなく美観を呈し、建材として使
用される。
図面は、本発明の実施例1の製造法によつて得
られた施釉セメント製品の略示斜視図である。 1:気泡セメント製品、PMライト、2:下層
の釉薬、3:上層の釉薬。
られた施釉セメント製品の略示斜視図である。 1:気泡セメント製品、PMライト、2:下層
の釉薬、3:上層の釉薬。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 セメント製品の表面に釉薬を施して乾燥さ
せ、その上に前記釉薬より低温で熔融する釉薬を
施し、下層の釉薬が軟化するが熔融しない温度で
焼成して、上層の釉薬を下層の軟化した釉薬を介
してセメント製品の表面に融着し、セメント製品
を養生することを特徴とする施釉セメント製品の
製造法。 2 下層の釉薬は、熱膨張が上層の釉薬より少な
く、セメント製品より多いものであることを特徴
とする特許請求の範囲第1項に記載の施釉セメン
ト製品の製造法。 3 セメント製品は、気泡セメント製品であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項又は第2項
に記載の施釉セメント製品の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17918586A JPS6335475A (ja) | 1986-07-30 | 1986-07-30 | 施釉セメント製品の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17918586A JPS6335475A (ja) | 1986-07-30 | 1986-07-30 | 施釉セメント製品の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6335475A JPS6335475A (ja) | 1988-02-16 |
| JPH032829B2 true JPH032829B2 (ja) | 1991-01-17 |
Family
ID=16061421
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17918586A Granted JPS6335475A (ja) | 1986-07-30 | 1986-07-30 | 施釉セメント製品の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6335475A (ja) |
-
1986
- 1986-07-30 JP JP17918586A patent/JPS6335475A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6335475A (ja) | 1988-02-16 |
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