JPH03284786A - Hologram reproducing mold and production thereof and production of hologram - Google Patents

Hologram reproducing mold and production thereof and production of hologram

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JPH03284786A
JPH03284786A JP8621390A JP8621390A JPH03284786A JP H03284786 A JPH03284786 A JP H03284786A JP 8621390 A JP8621390 A JP 8621390A JP 8621390 A JP8621390 A JP 8621390A JP H03284786 A JPH03284786 A JP H03284786A
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JP
Japan
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hologram
acrylate
resin layer
mold
methacrylate
Prior art date
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Application number
JP8621390A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshimi Inaba
喜己 稲葉
Shigeru Okano
岡野 滋
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Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
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Publication date
Application filed by Toppan Printing Co Ltd filed Critical Toppan Printing Co Ltd
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Publication of JPH03284786A publication Critical patent/JPH03284786A/en
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  • Holo Graphy (AREA)

Abstract

PURPOSE:To shorten the process for production and to obtain holograms having stable quality in large quantity by forming relief patterns on the surface of a resin layer consisting of a specified mixture to produce the reproducing mold, pressing the reproducing mold onto the thermoplastic resin of a base material in pressure contact therewith, then detaching the mold. CONSTITUTION:The rein layer 2 consisting of an acrylate resin which can be cured by electron rays or UV rays or a mixture composed of a monomer and acrylate or methacrylate contg. an isocyanurate ring structure in the molecules is formed on a film or sheet-like base 1 having the transmittability of the electron rays or UV rays and thereafter, the resin layer 2 is brought into tight contact with the surface of a hologram original plate A having fine relief patterns on the surface and is irradiated with the electron rays or UV rays by which the resin layer is cured; thereafter, the resin layer is peeled and the hologram reproducing mold B is obtd. The hologram reproducing mold B is heated and is brought into pressurized contact with the surface of the thermoplastic resin layer 5 on the base material 6 and thereafter, the hologram reproducing mold B is detached, by which the hologram reproducing product C is obtd.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、ホログラムの製造に関するものであり、さら
に詳しくは、レリーフ型ホログラム作製用複製型および
その製造方法並びにホログラムの効果的な製造方法に関
するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Industrial Application Field) The present invention relates to the production of holograms, and more particularly to a replication mold for producing relief-type holograms, a method for producing the same, and an effective method for producing holograms. It is something.

ホログラムは三次元立体像を再生することから、その優
れた意匠性が好まれ、書籍、雑誌等の表紙、POPデイ
スプレィ、ギフト等に利用されている。
Since holograms reproduce three-dimensional images, they are preferred for their excellent design and are used for covers of books, magazines, etc., POP displays, gifts, and the like.

また、ホログラムはサブミクロンオーダーの情報を記録
していることと等価である為、有価証券、クレジ・トカ
ード等へ造防止にも利用されてし・る。
In addition, since holograms are equivalent to recording information on the submicron order, they are also used to prevent the creation of securities, credit cards, etc.

(従来の技術) 従来、レリーフ型のホログラムを量産する場合、母板と
して凹凸形状のレリーフパターンが形成されたホトレジ
ストから、金属メツキ等により型取りし、この金型を用
いて基材上に塗布された熱可塑性樹脂を熱圧成形するこ
とにより、ホログラムの大量複製を行う方法が知られて
いるが、この方法では、金型を作製する為の工程数が多
く、品質管理が困難な上、多量の時間と労力が必要であ
ることから、製品の高価格化につながるという問題があ
る。
(Prior art) Conventionally, when mass-producing relief-type holograms, a mold is made from a photoresist on which an uneven relief pattern is formed as a base plate by metal plating, etc., and the mold is used to coat the base material. There is a known method for mass-replicating holograms by thermo-pressing molded thermoplastic resin, but this method requires a large number of steps to create the mold, and quality control is difficult. Since this method requires a large amount of time and labor, there is a problem in that it leads to high product prices.

そこで、上記の問題を解決する方法として、金型の代わ
りに電子線あるいは紫外線硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、
熱硬化性樹脂を利用する方法が特開昭58−18498
6号公報に提塞されているが、前記公報に記載された方
法では樹脂型を使用して複製ホログラムを作製する際に
、樹脂型上に電子線若しくは紫外線硬化性樹脂を密着さ
せ、電子線若しくは紫外線照射によって硬化、賦型する
ため、樹脂型自体が層重なる高エネルギー線の照射によ
って劣化し、安定な品質確保に支障を来す可能性がある
。また熱硬化性樹脂単独で樹脂型を作製する場合、熱硬
化性樹脂の加熱と同時にホログラムであるホトポリマー
にも熱が加わるので、熱硬化性樹脂とホトポリマーとの
接着力の増加によって剥離が困難となる可能性があり、
さらに熱硬化性樹脂の硬化収縮によって、ホログラム原
版のレリーフパターンに損傷を与え、ホログラム原版の
°再使用が不可能になる等の問題点がある。さらに前記
公報に開示された樹脂型は十分な耐熱性を存しないため
、大量生産に適している加熱加圧により、ホログラムを
製造することができなかった。
Therefore, as a method to solve the above problem, instead of using a mold, we use electron beam, ultraviolet curable resin, thermoplastic resin, etc.
A method using thermosetting resin is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-18498.
However, in the method described in the above publication, when producing a duplicate hologram using a resin mold, an electron beam or ultraviolet curable resin is brought into close contact with the resin mold. Alternatively, since the resin mold is cured and shaped by ultraviolet irradiation, the resin mold itself may be deteriorated by the irradiation of high-energy rays in layers, which may impede ensuring stable quality. In addition, when making a resin mold using thermosetting resin alone, heat is applied to the photopolymer that is the hologram at the same time as heating the thermosetting resin, so the increased adhesive strength between the thermosetting resin and photopolymer may make it difficult to separate. There is a possibility that
Furthermore, there are other problems such as curing shrinkage of the thermosetting resin, which damages the relief pattern of the hologram master, making it impossible to reuse the hologram master. Furthermore, since the resin mold disclosed in the above-mentioned publication does not have sufficient heat resistance, holograms could not be manufactured by heating and pressing, which is suitable for mass production.

(発明が解決しようとする諜lり 本発明が解決しようとするtJi8は、上述のごと〈従
来の金型を作製するための複雑な複製プロセスに対して
、電子線若しくは紫外線硬化性のアクリレート樹脂又は
単量体と分子中にイソシアヌレート環構造を有するアク
リレート若しくはメタクリレートの混合物を使用し、こ
れを複製型とすることによって複製型の製造工程の短縮
、及び製造品質の安定化を実現するものである。
(Intelligence to be Solved by the Invention) The tJi8 to be solved by the present invention is as described above. Alternatively, by using a mixture of monomers and acrylate or methacrylate having an isocyanurate ring structure in the molecule and making this into a replica mold, the manufacturing process of the replica mold can be shortened and the manufacturing quality can be stabilized. be.

また、後工程の熱可塑性樹脂に対する加熱、加圧エンボ
ス成形に耐える耐熱性、機械的強度を付与せしめ、原理
的に単純な熱圧による複製装置によって、品質の安定し
たホログラムの大量複製を可能とした複製型を提供する
ことを目的とするものである。
In addition, it provides heat resistance and mechanical strength that can withstand heating and pressure embossing to the thermoplastic resin in the subsequent process, making it possible to mass-produce holograms with stable quality using a replication device that uses heat and pressure, which is simple in principle. The purpose of this is to provide a copy type that can be reproduced.

(課題を解決するための手段) すなわち本発明は、電子線若しくは紫外線透過性のフィ
ルム又はシート状の支持体上に、電子線若しくは紫外線
硬化可能なアクリレート樹脂又は単量体と、分子中にイ
ソシアヌレート環構造を有するアクリレート若しくはメ
タクリレートの混合物からなる樹脂層を設け、次いで表
面に微細なレリーフパターンを有するホログラム原版上
に前記樹脂層を密着させ、電子線若しくは紫外線を照射
し、前記樹脂層を硬化せしめた後、ホログラム原版から
剥離する事により得られるホログラム複製型である。
(Means for Solving the Problems) That is, the present invention provides an electron beam- or ultraviolet-curable acrylate resin or monomer and isocyanate resin in the molecule on an electron-beam or ultraviolet-transparent film or sheet-like support. A resin layer made of a mixture of acrylate or methacrylate having a nurate ring structure is provided, and then the resin layer is brought into close contact with a hologram master having a fine relief pattern on the surface, and the resin layer is cured by irradiation with an electron beam or ultraviolet rays. This is a hologram replica type obtained by peeling it from the hologram original plate after applying it.

さらに前記ホログラム複製型を熱可塑性樹脂層上に加熱
圧着させた後、離脱する事によるホログラムの製造方法
である。
Furthermore, the hologram is manufactured by bonding the hologram replica mold onto a thermoplastic resin layer under heat and pressure, and then separating the mold from the thermoplastic resin layer.

ここで、本発明に於いて用いる電子線若しくは紫外線硬
化性のアクリレート樹脂は、一分子中に少なくとも2個
以上のアクリロイル基を含有するエステルアクリレート
、エステルメタクリレート、エポキシアクリレート、エ
ポキシメタクリレート、ウレタンアクリレート、ウレタ
ンメタクリレートである。
Here, the electron beam or ultraviolet curable acrylate resin used in the present invention includes ester acrylate, ester methacrylate, epoxy acrylate, epoxy methacrylate, urethane acrylate, and urethane acrylate containing at least two or more acryloyl groups in one molecule. It is methacrylate.

また、分子中にイソシアヌレート環構造を有するアクリ
レート若しくはメタクリレートは、一分子中に少なくと
も3個以上のアクリロイル基を含有するエステルアクリ
レート、若しくはエステルメタクリレートである。そし
て、樹脂層を硬化させる際は、電子線を支持体側から照
射することにより、ホログラム複製型を製造するもので
ある。
Further, the acrylate or methacrylate having an isocyanurate ring structure in the molecule is an ester acrylate or an ester methacrylate containing at least three or more acryloyl groups in one molecule. When the resin layer is cured, an electron beam is irradiated from the support side to produce a hologram replica mold.

(発明の詳述) 以下、本発明を図面を用いて詳細に説明する。(Detailed description of the invention) Hereinafter, the present invention will be explained in detail using the drawings.

まず、第1図から第3図は、本発明に述べるホログラム
複製型の製造方法を示し、第4図から第5図はホログラ
ムの大量複製方法に関するもので、それぞれについての
断面説明図である。
First, FIGS. 1 to 3 show a method for manufacturing a hologram replication type according to the present invention, and FIGS. 4 to 5 relate to a method for mass-reproducing holograms, and are explanatory cross-sectional views of each.

まず構成材料について説明し、次に製造工程を説明する
First, the constituent materials will be explained, and then the manufacturing process will be explained.

第1図に於いて、(1)はフィルム又はシート状の支持
体、(2)は電子線若しくは紫外線硬化性のアクリレー
ト樹脂又は単量体と分子中にイソシアヌレート環構造を
有するアクリレート若しくはメタクリレートの混合物か
らなる樹脂層、(3〕はホログラム原版であるレリーフ
パターンが形成されたホトレジスト層、(4)はホトレ
ジストの基材であり、通常ガラス板が使用される。
In Figure 1, (1) is a film or sheet-like support, and (2) is an electron beam or ultraviolet curable acrylate resin or a monomer and an acrylate or methacrylate having an isocyanurate ring structure in the molecule. A resin layer made of a mixture, (3) a photoresist layer on which a relief pattern, which is a hologram original, is formed, and (4) a base material for the photoresist, which is usually a glass plate.

本発明に述べる電子線若しくは紫外線透過性を有するフ
ィルム又はシート状の支持体(1)としては、後工程の
熱可塑性樹脂に対する加熱、加圧エンボス成形時の加熱
に耐える適度な耐熱性と力学強度、表面平滑性が必要で
あり、具体的にはポリエステル、ポリカーボネート等が
使用可能で、厚さ20〜200μm程度が好ましい。さ
らにポリイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエ
ーテルイミド、ポリフェニレンサルファイド、ボリアリ
レート等のエンジニアリングプラスチソクフィルムも使
用することができる。
The film or sheet support (1) that is transparent to electron beams or ultraviolet rays according to the present invention has appropriate heat resistance and mechanical strength that can withstand the heating of the thermoplastic resin in the subsequent process and the heating during pressure embossing molding. , surface smoothness is required, and specifically polyester, polycarbonate, etc. can be used, and the thickness is preferably about 20 to 200 μm. Furthermore, engineering plastic films made of polyimide, polyetheretherketone, polyetherimide, polyphenylene sulfide, polyarylate, etc. can also be used.

また樹脂層(2)に用いる電子線若しくは紫外線硬化性
のアクリレートとしては、一般的なエステルアクリレー
ト、エステルメタクリレート、エポキシアクリレート、
エポキシメタクリレート、ウレタンアクリレート、ウレ
タンメタクリレートが使用できるが、少なくとも2官能
以上で架橋密度の高い硬化皮膜を与えるものが好ましい
。そして混合するイソシアヌレート環構造を有するアク
リレート若しくはメタクリレートはホログラム複製型に
良好な耐熱性を付与せしめるために、少なくとも3官能
以上のものが好ましい。
Further, as the electron beam or ultraviolet curable acrylate used for the resin layer (2), general ester acrylate, ester methacrylate, epoxy acrylate,
Epoxy methacrylate, urethane acrylate, and urethane methacrylate can be used, but those that have at least two functionalities and provide a cured film with a high crosslinking density are preferred. The acrylate or methacrylate having an isocyanurate ring structure to be mixed is preferably at least trifunctional or higher in order to impart good heat resistance to the hologram replicating mold.

前記、電子線若しくは紫外線硬化性のアクリレート樹脂
又は単量体と、イソシアヌレート環構造を有するアクリ
レート若しくはメタクリレートの混合比は重量比にして
I:0.05〜l:1の範囲が好ましいが、材料の種類
、電子線若しくは紫外線硬化条件等が変われば最適混合
比も変化するので、この範囲に限定するものではない。
The mixing ratio of the electron beam or ultraviolet curable acrylate resin or monomer to the acrylate or methacrylate having an isocyanurate ring structure is preferably in the range of I:0.05 to l:1 in terms of weight ratio, but the material Since the optimum mixing ratio will change if the type of curing agent, electron beam or ultraviolet curing conditions, etc. change, it is not limited to this range.

ホログラム原版Aのレリーフパターンが形成されたホト
レジスト層(3)としては、一般的に広く使用されてい
る半導体用レジストが利用できるが、特に解像力が優れ
ているポジ型レジストが好ましく、商品名MICROP
O5IT1400(シブレイ社製)、0FPR800(
東京応化社製)、Way  Coat  HPR(ハン
ト社製)が市販されている。ホトレジストの基材(4)
としては、平滑性が要求されるため、通常ガラス板が使
用される。
As the photoresist layer (3) on which the relief pattern of the hologram original plate A is formed, generally widely used resists for semiconductors can be used, but a positive resist with particularly excellent resolution is preferable, and the product name is MICROP.
O5IT1400 (manufactured by Sibley), 0FPR800 (
(manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd.) and Way Coat HPR (manufactured by Hunt Co., Ltd.) are commercially available. Photoresist base material (4)
Since smoothness is required, a glass plate is usually used.

第4図において、(5)は熱可塑性樹脂層、(6)は熱
可塑性樹脂の基材である。
In FIG. 4, (5) is a thermoplastic resin layer, and (6) is a thermoplastic resin base material.

熱可塑性樹脂層(5)は、ポリエステル樹脂、ポリスチ
レン、スチレン−アクリル共重合体、ポリ塩化ビニル、
ポリ酢酸ビニル、塩ビー酢ビ共重合体、ポリビニルアセ
クール、アルキッド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリロ
ニトリル、ポリカーボネート、ポリケトン等が利用でき
る。
The thermoplastic resin layer (5) is made of polyester resin, polystyrene, styrene-acrylic copolymer, polyvinyl chloride,
Polyvinyl acetate, vinyl chloride/vinyl acetate copolymer, polyvinyl acecool, alkyd resin, acrylic resin, polyacrylonitrile, polycarbonate, polyketone, etc. can be used.

熱可塑性樹脂の基材(6)としては、ポリエステル、ポ
リプロピレン、ポリカーボネート、セロファン等が利用
可能で、さらに前記電子線若しくは紫外線透過性のフィ
ルムも使用することができる。厚さは10μm以上のフ
ィルム又はシートが好ましい。
As the thermoplastic resin base material (6), polyester, polypropylene, polycarbonate, cellophane, etc. can be used, and the above-mentioned electron beam or ultraviolet transparent film can also be used. A film or sheet with a thickness of 10 μm or more is preferable.

次に製造工程について説明する。Next, the manufacturing process will be explained.

まず、第1図において、フィルム又はシート状の支持体
(1)上に、電子線若しくは紫外線硬化性のアクリレー
ト樹脂又は単量体とイソシアヌレート環構造を有するア
クリレート若しくはメタクリレートとの混合物を、ナイ
フコート、スピンコード、ロールコート、バーコード等
、公知の方法によって塗布し、樹脂層(2)を形成した
後、ホログラム原版Aの凹凸形状を存するホトレジスト
表面に密着させる。ホトレジストは厚さ2〜3mmのガ
ラス板にスピンコードによって、膜厚が1〜3μm程度
となるように塗布し、アルゴンレーザーによって露光し
た後、所定の現像液で現像することにより、レリーフ像
を作製したものである。
First, in FIG. 1, a mixture of an electron beam or ultraviolet curable acrylate resin or monomer and an acrylate or methacrylate having an isocyanurate ring structure is coated on a film or sheet-like support (1) with a knife coating. After the resin layer (2) is formed by coating by a known method such as , spin code, roll coating, bar code, etc., it is brought into close contact with the photoresist surface of the hologram master A having an uneven shape. The photoresist is applied to a glass plate with a thickness of 2 to 3 mm using a spin cord so that the film thickness is approximately 1 to 3 μm, exposed to an argon laser, and then developed with a specified developer to create a relief image. This is what I did.

次に、第2図に示すように、支持体(1)側から電子線
若しくは紫外線を照射することによって樹脂層を硬化さ
せる。次いでホログラム原版Aの表面から剥離すること
によって、第3図に示すごとく、支持体と硬化樹脂層か
ら成るホログラム複製型Bを得る。この場合、十分な硬
化反応を行わせるには、電子線照射量は1.0Mrad
以上、紫外線であればICIOmJ/cm”以上である
ことが好ましい。
Next, as shown in FIG. 2, the resin layer is cured by irradiating electron beams or ultraviolet rays from the support (1) side. Then, by peeling off the surface of the hologram master A, a hologram replica mold B consisting of a support and a cured resin layer is obtained as shown in FIG. In this case, in order to perform a sufficient curing reaction, the electron beam irradiation amount is 1.0 Mrad.
As mentioned above, in the case of ultraviolet rays, it is preferable that the intensity is ICIOmJ/cm'' or more.

次に、第4図に示すように、上述の方法で得られるホロ
グラム複製型Bを熱可塑性樹脂層(5)に密着させ、同
時に加熱加圧エンボス成形を行い、その後剥離すること
により、第5図に示すごとく、最終的なホログラム複製
品Cを得る。
Next, as shown in FIG. 4, the hologram replica mold B obtained by the above-mentioned method is brought into close contact with the thermoplastic resin layer (5), simultaneously subjected to heat and pressure embossing molding, and then peeled off. As shown in the figure, a final hologram replica C is obtained.

(実施例) 以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明する。(Example) Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.

(実施例−1) ホトレジストとしてMICROPO3IT1400(シ
ブレイ社製)を使用し、厚さ3mmのガラス板からなる
基材上に、膜厚的1.5μmのホトレジスト層を作製し
、立体物の干渉縞の代わりに、アルゴンレーザー(波長
457.9nm、強度50mJ/cm”)の三光束干渉
法によって13001ine/mmの干渉縞を約1分間
露光した後、アルカリ現像によってグレーティングを作
製し、これをホログラム原版の代替とした。
(Example-1) Using MICROPO3IT1400 (manufactured by Sibley) as a photoresist, a photoresist layer with a film thickness of 1.5 μm was prepared on a base material consisting of a glass plate with a thickness of 3 mm, and interference fringes of a three-dimensional object were formed. Instead, after exposing interference fringes of 13001 ine/mm for about 1 minute using three-beam interferometry using an argon laser (wavelength 457.9 nm, intensity 50 mJ/cm), a grating was created by alkaline development, and this was applied to the hologram original plate. It was used as an alternative.

次に厚さが75μmのポリイミドフィルム(ニービレツ
クスフ5Sコロナ処理グレード、宇部興産社製)からな
る支持体上に、下記組成の電子線硬化性のアクリレート
樹脂とイソシアヌレート環構造を有するアクリレートと
の混合液を、約5μmの膜厚となるようにワイヤーバー
コーティングし、樹脂液層を形成した0次に該樹脂液層
を前記ホログラム原版の代替であるグレーティングレリ
ーフ面に密着させた後、前記支持体側より、200Ke
Vの電子線を吸収線量6Mr a dの条件で照射し、
その後ホログラム原版から剥離することによって、支持
体と硬化した樹脂層から成るホログラム複製型を作製し
た。硬化樹脂層とホトレジスト間の剥離は良好であった
Next, a mixture of an electron beam curable acrylate resin with the following composition and an acrylate having an isocyanurate ring structure was placed on a support made of a polyimide film with a thickness of 75 μm (Nibirexfu 5S corona treatment grade, manufactured by Ube Industries, Ltd.). was coated with a wire bar to a thickness of about 5 μm to form a resin liquid layer. Next, the resin liquid layer was brought into close contact with the grating relief surface, which is a substitute for the hologram original plate, and then from the support side. , 200Ke
Irradiate with an electron beam of V at an absorbed dose of 6 Mr ad,
Thereafter, by peeling it off from the hologram master, a hologram replica mold consisting of a support and a hardened resin layer was produced. Peeling between the cured resin layer and the photoresist was good.

次に厚さ50μmのポリエステルフィルムからなる基材
上に、下記組成の熱可塑樹脂層をワイヤーバーにて、厚
さ約10μmに塗工し、複製ホログラム用フィルムを作
製した。
Next, a thermoplastic resin layer having the following composition was coated to a thickness of about 10 μm on a base material made of a polyester film having a thickness of 50 μm using a wire bar, thereby producing a film for a replicated hologram.

次に前記複製ホログラム用フィルムの熱可塑性樹脂層面
に前記ホログラム複製型のレリーフ面を約30Kg/c
m”の圧力で密着させ、前記ホログラム複製型の支持体
面から150℃、3秒の条件にて加熱を行ない、その後
、熱可塑性樹脂層面とホログラム複製型を剥離すること
によって複製ホログラム製品を得た。さらに同様の熱圧
エンボス複製工程を200回繰り返した後も明るく、鮮
明でキレの良い回折光を与える複製品を得た。
Next, the relief surface of the hologram duplication mold was applied to the thermoplastic resin layer surface of the duplication hologram film at a weight of about 30 kg/cm.
A replicated hologram product was obtained by applying heat to the support surface of the hologram replication mold at 150° C. for 3 seconds and then peeling off the thermoplastic resin layer surface and the hologram replication mold. Furthermore, even after repeating the same heat-pressure embossing duplication process 200 times, a duplication product was obtained that gave bright, clear, and sharp diffracted light.

(実施例−2) 下記組成の紫外線硬化性アクリレートとイソシアヌレー
ト環構造を有するアクリレートの混合液を厚さが100
μmのポリエステルフィルムからなる支持体上に、ワイ
ヤーバーにて約5μmの膜厚となるように塗工し、樹脂
液層を形成した。その後、実施例−1と同様の条件にて
ホログラム複製型を作製した。
(Example-2) A mixed solution of an ultraviolet curable acrylate having the following composition and an acrylate having an isocyanurate ring structure was prepared to a thickness of 100 mm.
The resin liquid layer was coated onto a support made of a .mu.m polyester film using a wire bar to a thickness of about 5 .mu.m. Thereafter, a hologram replica mold was produced under the same conditions as in Example-1.

次に、実施例−1と同様の方法、条件にて、400mJ
/cm”の紫外線を前記ポリエステルフィルム側から照
射した後、剥離し、実施例−1と同じ熱可塑性樹脂層上
にレリーフパターンを作製し、複製品を得た。200枚
複製後も明るく、鮮明な回折光を与える複製品を得た。
Next, under the same method and conditions as Example-1, 400 mJ
After irradiating the polyester film with ultraviolet rays of "/cm" from the polyester film side, it was peeled off and a relief pattern was created on the same thermoplastic resin layer as in Example 1 to obtain a replicated product. Even after 200 copies, it remained bright and clear. We obtained a replica that gives a unique diffracted light.

(発明の効果) 本発明によるホログラムの製造方法によれば、前記の如
く、ホログラム複製型作製時の工程の大幅な短縮及びそ
れに伴う時間の節約ができる。
(Effects of the Invention) As described above, according to the method for manufacturing a hologram according to the present invention, it is possible to significantly shorten the steps in manufacturing a hologram replica mold and save time accordingly.

また、ホログラム複製型作製時において、電子線若しく
は紫外線を利用することにより、硬化性樹脂層に熱を加
えることな(硬化を行う為、母型に損傷を与えることな
くレリーフパターンを剥離複製することが可能である、
さらに硬化樹脂の一成分をイソシアヌレート環構造を有
するアクリレート若しくはメタクリレートとすることに
より、大量の熱圧複製に耐える良好な物理的及び化学的
耐熱性と機械的強度を付与することができる。
In addition, when creating a hologram replication mold, by using electron beams or ultraviolet rays, the curable resin layer is not heated (because it is cured, the relief pattern can be peeled off and replicated without damaging the mother mold). is possible,
Furthermore, by using acrylate or methacrylate having an isocyanurate ring structure as one component of the cured resin, it is possible to impart good physical and chemical heat resistance and mechanical strength that can withstand a large amount of heat-pressure duplication.

従って、上記の方法で得られたホログラム複製型を使用
することで、原理的に単純な加熱、加圧エンボス成形に
よる方法で、熱可塑性樹脂上に画像が鮮明で、品質の安
定したホログラムの大量複製が短時間で可能となる大き
な効果が得られる。
Therefore, by using the hologram duplication mold obtained by the above method, a large amount of holograms with clear images and stable quality can be produced on thermoplastic resin using a method using heating and pressure embossing, which is simple in principle. This has the great effect of making replication possible in a short time.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図、第2図、第3図はホログラム複製用樹脂型の製
造方法、第4図、第5図はホログラムの大量複製方法を
示す工程の断面説明図である。 (1)・・・・・・支持体 (2)・・・・・・樹脂層 (3)・・・・・・ホトレジスト (4)、(6)・・・・・・基材 (5)・・・・・・熱可塑性樹脂上 A・・・・・・ホログラム原版 B・・・・・・複製型 C・・・・・・ホログラムの複製品 第1図 第2図 第3図 特  許  出  願  人 凸版印刷株式会社 代表者 鈴木和夫 第4図 第5図
FIGS. 1, 2, and 3 are cross-sectional explanatory views of a method for manufacturing a resin mold for hologram replication, and FIGS. 4 and 5 are cross-sectional views showing a method for mass-reproducing holograms. (1)...Support (2)...Resin layer (3)...Photoresist (4), (6)...Base material (5)・・・・・・Thermoplastic resin top A・・・・・・Hologram original plate B・・・・・・Replication type C・・・・・・Hologram replica Figure 1 Figure 2 Figure 3 Patent Applicant Toppan Printing Co., Ltd. Representative Kazuo Suzuki Figure 4 Figure 5

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)電子線若しくは紫外線透過性のフィルム又はシー
ト状の支持体上に、電子線若しくは紫外線硬化可能なア
クリレート樹脂又は単量体と、分子中にイソシアヌレー
ト環構造を含有するアクリレート若しくはメタクリレー
トの混合物からなる樹脂層を設け、前記樹脂層表面に微
細なレリーフパターンを形成してなるホログラム複製型
(1) A mixture of an electron beam- or ultraviolet-curable acrylate resin or monomer and an acrylate or methacrylate containing an isocyanurate ring structure in the molecule on an electron-beam or ultraviolet-transparent film or sheet-like support. A hologram duplication type that is provided with a resin layer consisting of a resin layer, and a fine relief pattern is formed on the surface of the resin layer.
(2)電子線若しくは紫外線透過性のフィルム又はシー
ト状の支持体上に、電子線若しくは紫外線硬化可能なア
クリレート樹脂又は単量体と、分子中にイソシアヌレー
ト環構造を含有するアクリレート若しくはメタクリレー
トの混合物からなる樹脂層を設け、次いで表面に微細な
レリーフパターンを有するホログラム原版上に前記樹脂
層を密着させ、電子線若しくは紫外線を照射し、前記樹
脂層を硬化せしめた後、ホログラム原版から剥離するホ
ログラム複製型の製造方法。
(2) A mixture of an electron beam- or ultraviolet-curable acrylate resin or monomer and an acrylate or methacrylate containing an isocyanurate ring structure in the molecule on an electron-beam or ultraviolet-transparent film or sheet-like support. A hologram in which a resin layer is provided, the resin layer is closely attached to a hologram master having a fine relief pattern on the surface, the resin layer is cured by irradiation with electron beams or ultraviolet rays, and then peeled off from the hologram master. Manufacturing method for replica molds.
(3)電子線を支持体側から照射する請求項(2)記載
のホログラム複製型の製造方法。
(3) The method for manufacturing a hologram duplication type according to (2), wherein the electron beam is irradiated from the support side.
(4)アクリレート樹脂又は単量体が、一分子中に少な
くとも2個以上のアクリロイル基を含有するエステルア
クリレート、エステルメタクリレート、エポキシアクリ
レート、エポキシメタクリレート、ウレタンアクリレー
ト、ウレタンメタクリレートのいずれかからなる請求項
(1)記載のホログラム複製型。
(4) A claim in which the acrylate resin or monomer consists of any one of ester acrylate, ester methacrylate, epoxy acrylate, epoxy methacrylate, urethane acrylate, and urethane methacrylate containing at least two or more acryloyl groups in one molecule ( 1) The hologram reproduction type described.
(5)アクリレート樹脂又は単量体が、一分子中に少な
くとも2個以上のアクリロイル基を含有するエステルア
クリレート、エステルメタクリレート、エポキシアクリ
レート、エポキシメタクリレート、ウレタンアクリレー
ト、ウレタンメタクリレートのいずれかからなる請求項
(2)または(3)記載のホログラム複製型の製造方法
(5) A claim in which the acrylate resin or monomer consists of any one of ester acrylate, ester methacrylate, epoxy acrylate, epoxy methacrylate, urethane acrylate, and urethane methacrylate containing at least two or more acryloyl groups in one molecule ( 2) or (3) the method for manufacturing a hologram replication type;
(6)分子中にイソシアヌレート環構造を含有するアク
リレート若しくはメタクリレートが、一分子中に少なく
とも3個以上のアクリロイル基を含有するエステルアク
リレート、若しくはエステルメタクリレートであること
を特徴とする請求項(1)記載のホログラム複製型。
(6) Claim (1) characterized in that the acrylate or methacrylate containing an isocyanurate ring structure in the molecule is an ester acrylate or ester methacrylate containing at least three or more acryloyl groups in one molecule. The hologram reproduction type described.
(7)請求項(1)の記載の複製型を、熱可塑性樹脂層
を有する基材の熱可塑性樹脂層上に加熱圧着後、複製型
を離脱する事によるホログラムの製造方法。
(7) A method for producing a hologram, by heat-pressing the duplication mold according to claim (1) onto a thermoplastic resin layer of a base material having a thermoplastic resin layer, and then removing the duplication mold.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US5838468A (en) * 1996-04-12 1998-11-17 Nec Corporation Method and system for forming fine patterns using hologram

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58184986A (en) * 1982-04-23 1983-10-28 Dainippon Printing Co Ltd How to duplicate a hologram

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58184986A (en) * 1982-04-23 1983-10-28 Dainippon Printing Co Ltd How to duplicate a hologram

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5838468A (en) * 1996-04-12 1998-11-17 Nec Corporation Method and system for forming fine patterns using hologram

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