JPH03284786A - ホログラム複製型およびその製造方法並びにホログラムの製造方法 - Google Patents
ホログラム複製型およびその製造方法並びにホログラムの製造方法Info
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- JPH03284786A JPH03284786A JP8621390A JP8621390A JPH03284786A JP H03284786 A JPH03284786 A JP H03284786A JP 8621390 A JP8621390 A JP 8621390A JP 8621390 A JP8621390 A JP 8621390A JP H03284786 A JPH03284786 A JP H03284786A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、ホログラムの製造に関するものであり、さら
に詳しくは、レリーフ型ホログラム作製用複製型および
その製造方法並びにホログラムの効果的な製造方法に関
するものである。
に詳しくは、レリーフ型ホログラム作製用複製型および
その製造方法並びにホログラムの効果的な製造方法に関
するものである。
ホログラムは三次元立体像を再生することから、その優
れた意匠性が好まれ、書籍、雑誌等の表紙、ＰＯＰデイ
スプレィ、ギフト等に利用されている。
れた意匠性が好まれ、書籍、雑誌等の表紙、ＰＯＰデイ
スプレィ、ギフト等に利用されている。
また、ホログラムはサブミクロンオーダーの情報を記録
していることと等価である為、有価証券、クレジ・トカ
ード等へ造防止にも利用されてし・る。
していることと等価である為、有価証券、クレジ・トカ
ード等へ造防止にも利用されてし・る。
（従来の技術）
従来、レリーフ型のホログラムを量産する場合、母板と
して凹凸形状のレリーフパターンが形成されたホトレジ
ストから、金属メツキ等により型取りし、この金型を用
いて基材上に塗布された熱可塑性樹脂を熱圧成形するこ
とにより、ホログラムの大量複製を行う方法が知られて
いるが、この方法では、金型を作製する為の工程数が多
く、品質管理が困難な上、多量の時間と労力が必要であ
ることから、製品の高価格化につながるという問題があ
る。
して凹凸形状のレリーフパターンが形成されたホトレジ
ストから、金属メツキ等により型取りし、この金型を用
いて基材上に塗布された熱可塑性樹脂を熱圧成形するこ
とにより、ホログラムの大量複製を行う方法が知られて
いるが、この方法では、金型を作製する為の工程数が多
く、品質管理が困難な上、多量の時間と労力が必要であ
ることから、製品の高価格化につながるという問題があ
る。
そこで、上記の問題を解決する方法として、金型の代わ
りに電子線あるいは紫外線硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、
熱硬化性樹脂を利用する方法が特開昭５８−１８４９８
６号公報に提塞されているが、前記公報に記載された方
法では樹脂型を使用して複製ホログラムを作製する際に
、樹脂型上に電子線若しくは紫外線硬化性樹脂を密着さ
せ、電子線若しくは紫外線照射によって硬化、賦型する
ため、樹脂型自体が層重なる高エネルギー線の照射によ
って劣化し、安定な品質確保に支障を来す可能性がある
。また熱硬化性樹脂単独で樹脂型を作製する場合、熱硬
化性樹脂の加熱と同時にホログラムであるホトポリマー
にも熱が加わるので、熱硬化性樹脂とホトポリマーとの
接着力の増加によって剥離が困難となる可能性があり、
さらに熱硬化性樹脂の硬化収縮によって、ホログラム原
版のレリーフパターンに損傷を与え、ホログラム原版の
°再使用が不可能になる等の問題点がある。さらに前記
公報に開示された樹脂型は十分な耐熱性を存しないため
、大量生産に適している加熱加圧により、ホログラムを
製造することができなかった。
りに電子線あるいは紫外線硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、
熱硬化性樹脂を利用する方法が特開昭５８−１８４９８
６号公報に提塞されているが、前記公報に記載された方
法では樹脂型を使用して複製ホログラムを作製する際に
、樹脂型上に電子線若しくは紫外線硬化性樹脂を密着さ
せ、電子線若しくは紫外線照射によって硬化、賦型する
ため、樹脂型自体が層重なる高エネルギー線の照射によ
って劣化し、安定な品質確保に支障を来す可能性がある
。また熱硬化性樹脂単独で樹脂型を作製する場合、熱硬
化性樹脂の加熱と同時にホログラムであるホトポリマー
にも熱が加わるので、熱硬化性樹脂とホトポリマーとの
接着力の増加によって剥離が困難となる可能性があり、
さらに熱硬化性樹脂の硬化収縮によって、ホログラム原
版のレリーフパターンに損傷を与え、ホログラム原版の
°再使用が不可能になる等の問題点がある。さらに前記
公報に開示された樹脂型は十分な耐熱性を存しないため
、大量生産に適している加熱加圧により、ホログラムを
製造することができなかった。
（発明が解決しようとする諜ｌり
本発明が解決しようとするｔＪｉ８は、上述のごと〈従
来の金型を作製するための複雑な複製プロセスに対して
、電子線若しくは紫外線硬化性のアクリレート樹脂又は
単量体と分子中にイソシアヌレート環構造を有するアク
リレート若しくはメタクリレートの混合物を使用し、こ
れを複製型とすることによって複製型の製造工程の短縮
、及び製造品質の安定化を実現するものである。
来の金型を作製するための複雑な複製プロセスに対して
、電子線若しくは紫外線硬化性のアクリレート樹脂又は
単量体と分子中にイソシアヌレート環構造を有するアク
リレート若しくはメタクリレートの混合物を使用し、こ
れを複製型とすることによって複製型の製造工程の短縮
、及び製造品質の安定化を実現するものである。
また、後工程の熱可塑性樹脂に対する加熱、加圧エンボ
ス成形に耐える耐熱性、機械的強度を付与せしめ、原理
的に単純な熱圧による複製装置によって、品質の安定し
たホログラムの大量複製を可能とした複製型を提供する
ことを目的とするものである。
ス成形に耐える耐熱性、機械的強度を付与せしめ、原理
的に単純な熱圧による複製装置によって、品質の安定し
たホログラムの大量複製を可能とした複製型を提供する
ことを目的とするものである。
（課題を解決するための手段）
すなわち本発明は、電子線若しくは紫外線透過性のフィ
ルム又はシート状の支持体上に、電子線若しくは紫外線
硬化可能なアクリレート樹脂又は単量体と、分子中にイ
ソシアヌレート環構造を有するアクリレート若しくはメ
タクリレートの混合物からなる樹脂層を設け、次いで表
面に微細なレリーフパターンを有するホログラム原版上
に前記樹脂層を密着させ、電子線若しくは紫外線を照射
し、前記樹脂層を硬化せしめた後、ホログラム原版から
剥離する事により得られるホログラム複製型である。
ルム又はシート状の支持体上に、電子線若しくは紫外線
硬化可能なアクリレート樹脂又は単量体と、分子中にイ
ソシアヌレート環構造を有するアクリレート若しくはメ
タクリレートの混合物からなる樹脂層を設け、次いで表
面に微細なレリーフパターンを有するホログラム原版上
に前記樹脂層を密着させ、電子線若しくは紫外線を照射
し、前記樹脂層を硬化せしめた後、ホログラム原版から
剥離する事により得られるホログラム複製型である。
さらに前記ホログラム複製型を熱可塑性樹脂層上に加熱
圧着させた後、離脱する事によるホログラムの製造方法
である。
圧着させた後、離脱する事によるホログラムの製造方法
である。
ここで、本発明に於いて用いる電子線若しくは紫外線硬
化性のアクリレート樹脂は、一分子中に少なくとも２個
以上のアクリロイル基を含有するエステルアクリレート
、エステルメタクリレート、エポキシアクリレート、エ
ポキシメタクリレート、ウレタンアクリレート、ウレタ
ンメタクリレートである。
化性のアクリレート樹脂は、一分子中に少なくとも２個
以上のアクリロイル基を含有するエステルアクリレート
、エステルメタクリレート、エポキシアクリレート、エ
ポキシメタクリレート、ウレタンアクリレート、ウレタ
ンメタクリレートである。
また、分子中にイソシアヌレート環構造を有するアクリ
レート若しくはメタクリレートは、一分子中に少なくと
も３個以上のアクリロイル基を含有するエステルアクリ
レート、若しくはエステルメタクリレートである。そし
て、樹脂層を硬化させる際は、電子線を支持体側から照
射することにより、ホログラム複製型を製造するもので
ある。
レート若しくはメタクリレートは、一分子中に少なくと
も３個以上のアクリロイル基を含有するエステルアクリ
レート、若しくはエステルメタクリレートである。そし
て、樹脂層を硬化させる際は、電子線を支持体側から照
射することにより、ホログラム複製型を製造するもので
ある。
（発明の詳述）
以下、本発明を図面を用いて詳細に説明する。
まず、第１図から第３図は、本発明に述べるホログラム
複製型の製造方法を示し、第４図から第５図はホログラ
ムの大量複製方法に関するもので、それぞれについての
断面説明図である。
複製型の製造方法を示し、第４図から第５図はホログラ
ムの大量複製方法に関するもので、それぞれについての
断面説明図である。
まず構成材料について説明し、次に製造工程を説明する
。
。
第１図に於いて、（１）はフィルム又はシート状の支持
体、（２）は電子線若しくは紫外線硬化性のアクリレー
ト樹脂又は単量体と分子中にイソシアヌレート環構造を
有するアクリレート若しくはメタクリレートの混合物か
らなる樹脂層、（３〕はホログラム原版であるレリーフ
パターンが形成されたホトレジスト層、（４）はホトレ
ジストの基材であり、通常ガラス板が使用される。
体、（２）は電子線若しくは紫外線硬化性のアクリレー
ト樹脂又は単量体と分子中にイソシアヌレート環構造を
有するアクリレート若しくはメタクリレートの混合物か
らなる樹脂層、（３〕はホログラム原版であるレリーフ
パターンが形成されたホトレジスト層、（４）はホトレ
ジストの基材であり、通常ガラス板が使用される。
本発明に述べる電子線若しくは紫外線透過性を有するフ
ィルム又はシート状の支持体（１）としては、後工程の
熱可塑性樹脂に対する加熱、加圧エンボス成形時の加熱
に耐える適度な耐熱性と力学強度、表面平滑性が必要で
あり、具体的にはポリエステル、ポリカーボネート等が
使用可能で、厚さ２０〜２００μｍ程度が好ましい。さ
らにポリイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエ
ーテルイミド、ポリフェニレンサルファイド、ボリアリ
レート等のエンジニアリングプラスチソクフィルムも使
用することができる。
ィルム又はシート状の支持体（１）としては、後工程の
熱可塑性樹脂に対する加熱、加圧エンボス成形時の加熱
に耐える適度な耐熱性と力学強度、表面平滑性が必要で
あり、具体的にはポリエステル、ポリカーボネート等が
使用可能で、厚さ２０〜２００μｍ程度が好ましい。さ
らにポリイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエ
ーテルイミド、ポリフェニレンサルファイド、ボリアリ
レート等のエンジニアリングプラスチソクフィルムも使
用することができる。
また樹脂層（２）に用いる電子線若しくは紫外線硬化性
のアクリレートとしては、一般的なエステルアクリレー
ト、エステルメタクリレート、エポキシアクリレート、
エポキシメタクリレート、ウレタンアクリレート、ウレ
タンメタクリレートが使用できるが、少なくとも２官能
以上で架橋密度の高い硬化皮膜を与えるものが好ましい
。そして混合するイソシアヌレート環構造を有するアク
リレート若しくはメタクリレートはホログラム複製型に
良好な耐熱性を付与せしめるために、少なくとも３官能
以上のものが好ましい。
のアクリレートとしては、一般的なエステルアクリレー
ト、エステルメタクリレート、エポキシアクリレート、
エポキシメタクリレート、ウレタンアクリレート、ウレ
タンメタクリレートが使用できるが、少なくとも２官能
以上で架橋密度の高い硬化皮膜を与えるものが好ましい
。そして混合するイソシアヌレート環構造を有するアク
リレート若しくはメタクリレートはホログラム複製型に
良好な耐熱性を付与せしめるために、少なくとも３官能
以上のものが好ましい。
前記、電子線若しくは紫外線硬化性のアクリレート樹脂
又は単量体と、イソシアヌレート環構造を有するアクリ
レート若しくはメタクリレートの混合比は重量比にして
Ｉ：０．０５〜ｌ：１の範囲が好ましいが、材料の種類
、電子線若しくは紫外線硬化条件等が変われば最適混合
比も変化するので、この範囲に限定するものではない。
又は単量体と、イソシアヌレート環構造を有するアクリ
レート若しくはメタクリレートの混合比は重量比にして
Ｉ：０．０５〜ｌ：１の範囲が好ましいが、材料の種類
、電子線若しくは紫外線硬化条件等が変われば最適混合
比も変化するので、この範囲に限定するものではない。
ホログラム原版Ａのレリーフパターンが形成されたホト
レジスト層（３）としては、一般的に広く使用されてい
る半導体用レジストが利用できるが、特に解像力が優れ
ているポジ型レジストが好ましく、商品名ＭＩＣＲＯＰ
Ｏ５ＩＴ１４００（シブレイ社製）、０ＦＰＲ８００（
東京応化社製）、Ｗａｙ Ｃｏａｔ ＨＰＲ（ハン
ト社製）が市販されている。ホトレジストの基材（４）
としては、平滑性が要求されるため、通常ガラス板が使
用される。
レジスト層（３）としては、一般的に広く使用されてい
る半導体用レジストが利用できるが、特に解像力が優れ
ているポジ型レジストが好ましく、商品名ＭＩＣＲＯＰ
Ｏ５ＩＴ１４００（シブレイ社製）、０ＦＰＲ８００（
東京応化社製）、Ｗａｙ Ｃｏａｔ ＨＰＲ（ハン
ト社製）が市販されている。ホトレジストの基材（４）
としては、平滑性が要求されるため、通常ガラス板が使
用される。
第４図において、（５）は熱可塑性樹脂層、（６）は熱
可塑性樹脂の基材である。
可塑性樹脂の基材である。
熱可塑性樹脂層（５）は、ポリエステル樹脂、ポリスチ
レン、スチレン−アクリル共重合体、ポリ塩化ビニル、
ポリ酢酸ビニル、塩ビー酢ビ共重合体、ポリビニルアセ
クール、アルキッド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリロ
ニトリル、ポリカーボネート、ポリケトン等が利用でき
る。
レン、スチレン−アクリル共重合体、ポリ塩化ビニル、
ポリ酢酸ビニル、塩ビー酢ビ共重合体、ポリビニルアセ
クール、アルキッド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリロ
ニトリル、ポリカーボネート、ポリケトン等が利用でき
る。
熱可塑性樹脂の基材（６）としては、ポリエステル、ポ
リプロピレン、ポリカーボネート、セロファン等が利用
可能で、さらに前記電子線若しくは紫外線透過性のフィ
ルムも使用することができる。厚さは１０μｍ以上のフ
ィルム又はシートが好ましい。
リプロピレン、ポリカーボネート、セロファン等が利用
可能で、さらに前記電子線若しくは紫外線透過性のフィ
ルムも使用することができる。厚さは１０μｍ以上のフ
ィルム又はシートが好ましい。
次に製造工程について説明する。
まず、第１図において、フィルム又はシート状の支持体
（１）上に、電子線若しくは紫外線硬化性のアクリレー
ト樹脂又は単量体とイソシアヌレート環構造を有するア
クリレート若しくはメタクリレートとの混合物を、ナイ
フコート、スピンコード、ロールコート、バーコード等
、公知の方法によって塗布し、樹脂層（２）を形成した
後、ホログラム原版Ａの凹凸形状を存するホトレジスト
表面に密着させる。ホトレジストは厚さ２〜３ｍｍのガ
ラス板にスピンコードによって、膜厚が１〜３μｍ程度
となるように塗布し、アルゴンレーザーによって露光し
た後、所定の現像液で現像することにより、レリーフ像
を作製したものである。
（１）上に、電子線若しくは紫外線硬化性のアクリレー
ト樹脂又は単量体とイソシアヌレート環構造を有するア
クリレート若しくはメタクリレートとの混合物を、ナイ
フコート、スピンコード、ロールコート、バーコード等
、公知の方法によって塗布し、樹脂層（２）を形成した
後、ホログラム原版Ａの凹凸形状を存するホトレジスト
表面に密着させる。ホトレジストは厚さ２〜３ｍｍのガ
ラス板にスピンコードによって、膜厚が１〜３μｍ程度
となるように塗布し、アルゴンレーザーによって露光し
た後、所定の現像液で現像することにより、レリーフ像
を作製したものである。
次に、第２図に示すように、支持体（１）側から電子線
若しくは紫外線を照射することによって樹脂層を硬化さ
せる。次いでホログラム原版Ａの表面から剥離すること
によって、第３図に示すごとく、支持体と硬化樹脂層か
ら成るホログラム複製型Ｂを得る。この場合、十分な硬
化反応を行わせるには、電子線照射量は１．０Ｍｒａｄ
以上、紫外線であればＩＣＩＯｍＪ／ｃｍ”以上である
ことが好ましい。
若しくは紫外線を照射することによって樹脂層を硬化さ
せる。次いでホログラム原版Ａの表面から剥離すること
によって、第３図に示すごとく、支持体と硬化樹脂層か
ら成るホログラム複製型Ｂを得る。この場合、十分な硬
化反応を行わせるには、電子線照射量は１．０Ｍｒａｄ
以上、紫外線であればＩＣＩＯｍＪ／ｃｍ”以上である
ことが好ましい。
次に、第４図に示すように、上述の方法で得られるホロ
グラム複製型Ｂを熱可塑性樹脂層（５）に密着させ、同
時に加熱加圧エンボス成形を行い、その後剥離すること
により、第５図に示すごとく、最終的なホログラム複製
品Ｃを得る。
グラム複製型Ｂを熱可塑性樹脂層（５）に密着させ、同
時に加熱加圧エンボス成形を行い、その後剥離すること
により、第５図に示すごとく、最終的なホログラム複製
品Ｃを得る。
（実施例）
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明する。
（実施例−１）
ホトレジストとしてＭＩＣＲＯＰＯ３ＩＴ１４００（シ
ブレイ社製）を使用し、厚さ３ｍｍのガラス板からなる
基材上に、膜厚的１．５μｍのホトレジスト層を作製し
、立体物の干渉縞の代わりに、アルゴンレーザー（波長
４５７．９ｎｍ、強度５０ｍＪ／ｃｍ”）の三光束干渉
法によって１３００１ｉｎｅ／ｍｍの干渉縞を約１分間
露光した後、アルカリ現像によってグレーティングを作
製し、これをホログラム原版の代替とした。
ブレイ社製）を使用し、厚さ３ｍｍのガラス板からなる
基材上に、膜厚的１．５μｍのホトレジスト層を作製し
、立体物の干渉縞の代わりに、アルゴンレーザー（波長
４５７．９ｎｍ、強度５０ｍＪ／ｃｍ”）の三光束干渉
法によって１３００１ｉｎｅ／ｍｍの干渉縞を約１分間
露光した後、アルカリ現像によってグレーティングを作
製し、これをホログラム原版の代替とした。
次に厚さが７５μｍのポリイミドフィルム（ニービレツ
クスフ５Ｓコロナ処理グレード、宇部興産社製）からな
る支持体上に、下記組成の電子線硬化性のアクリレート
樹脂とイソシアヌレート環構造を有するアクリレートと
の混合液を、約５μｍの膜厚となるようにワイヤーバー
コーティングし、樹脂液層を形成した０次に該樹脂液層
を前記ホログラム原版の代替であるグレーティングレリ
ーフ面に密着させた後、前記支持体側より、２００Ｋｅ
Ｖの電子線を吸収線量６Ｍｒ ａ ｄの条件で照射し、
その後ホログラム原版から剥離することによって、支持
体と硬化した樹脂層から成るホログラム複製型を作製し
た。硬化樹脂層とホトレジスト間の剥離は良好であった
。
クスフ５Ｓコロナ処理グレード、宇部興産社製）からな
る支持体上に、下記組成の電子線硬化性のアクリレート
樹脂とイソシアヌレート環構造を有するアクリレートと
の混合液を、約５μｍの膜厚となるようにワイヤーバー
コーティングし、樹脂液層を形成した０次に該樹脂液層
を前記ホログラム原版の代替であるグレーティングレリ
ーフ面に密着させた後、前記支持体側より、２００Ｋｅ
Ｖの電子線を吸収線量６Ｍｒ ａ ｄの条件で照射し、
その後ホログラム原版から剥離することによって、支持
体と硬化した樹脂層から成るホログラム複製型を作製し
た。硬化樹脂層とホトレジスト間の剥離は良好であった
。
次に厚さ５０μｍのポリエステルフィルムからなる基材
上に、下記組成の熱可塑樹脂層をワイヤーバーにて、厚
さ約１０μｍに塗工し、複製ホログラム用フィルムを作
製した。
上に、下記組成の熱可塑樹脂層をワイヤーバーにて、厚
さ約１０μｍに塗工し、複製ホログラム用フィルムを作
製した。
次に前記複製ホログラム用フィルムの熱可塑性樹脂層面
に前記ホログラム複製型のレリーフ面を約３０Ｋｇ／ｃ
ｍ”の圧力で密着させ、前記ホログラム複製型の支持体
面から１５０℃、３秒の条件にて加熱を行ない、その後
、熱可塑性樹脂層面とホログラム複製型を剥離すること
によって複製ホログラム製品を得た。さらに同様の熱圧
エンボス複製工程を２００回繰り返した後も明るく、鮮
明でキレの良い回折光を与える複製品を得た。
に前記ホログラム複製型のレリーフ面を約３０Ｋｇ／ｃ
ｍ”の圧力で密着させ、前記ホログラム複製型の支持体
面から１５０℃、３秒の条件にて加熱を行ない、その後
、熱可塑性樹脂層面とホログラム複製型を剥離すること
によって複製ホログラム製品を得た。さらに同様の熱圧
エンボス複製工程を２００回繰り返した後も明るく、鮮
明でキレの良い回折光を与える複製品を得た。
（実施例−２）
下記組成の紫外線硬化性アクリレートとイソシアヌレー
ト環構造を有するアクリレートの混合液を厚さが１００
μｍのポリエステルフィルムからなる支持体上に、ワイ
ヤーバーにて約５μｍの膜厚となるように塗工し、樹脂
液層を形成した。その後、実施例−１と同様の条件にて
ホログラム複製型を作製した。
ト環構造を有するアクリレートの混合液を厚さが１００
μｍのポリエステルフィルムからなる支持体上に、ワイ
ヤーバーにて約５μｍの膜厚となるように塗工し、樹脂
液層を形成した。その後、実施例−１と同様の条件にて
ホログラム複製型を作製した。
次に、実施例−１と同様の方法、条件にて、４００ｍＪ
／ｃｍ”の紫外線を前記ポリエステルフィルム側から照
射した後、剥離し、実施例−１と同じ熱可塑性樹脂層上
にレリーフパターンを作製し、複製品を得た。２００枚
複製後も明るく、鮮明な回折光を与える複製品を得た。
／ｃｍ”の紫外線を前記ポリエステルフィルム側から照
射した後、剥離し、実施例−１と同じ熱可塑性樹脂層上
にレリーフパターンを作製し、複製品を得た。２００枚
複製後も明るく、鮮明な回折光を与える複製品を得た。
（発明の効果）
本発明によるホログラムの製造方法によれば、前記の如
く、ホログラム複製型作製時の工程の大幅な短縮及びそ
れに伴う時間の節約ができる。
く、ホログラム複製型作製時の工程の大幅な短縮及びそ
れに伴う時間の節約ができる。
また、ホログラム複製型作製時において、電子線若しく
は紫外線を利用することにより、硬化性樹脂層に熱を加
えることな（硬化を行う為、母型に損傷を与えることな
くレリーフパターンを剥離複製することが可能である、
さらに硬化樹脂の一成分をイソシアヌレート環構造を有
するアクリレート若しくはメタクリレートとすることに
より、大量の熱圧複製に耐える良好な物理的及び化学的
耐熱性と機械的強度を付与することができる。
は紫外線を利用することにより、硬化性樹脂層に熱を加
えることな（硬化を行う為、母型に損傷を与えることな
くレリーフパターンを剥離複製することが可能である、
さらに硬化樹脂の一成分をイソシアヌレート環構造を有
するアクリレート若しくはメタクリレートとすることに
より、大量の熱圧複製に耐える良好な物理的及び化学的
耐熱性と機械的強度を付与することができる。
従って、上記の方法で得られたホログラム複製型を使用
することで、原理的に単純な加熱、加圧エンボス成形に
よる方法で、熱可塑性樹脂上に画像が鮮明で、品質の安
定したホログラムの大量複製が短時間で可能となる大き
な効果が得られる。
することで、原理的に単純な加熱、加圧エンボス成形に
よる方法で、熱可塑性樹脂上に画像が鮮明で、品質の安
定したホログラムの大量複製が短時間で可能となる大き
な効果が得られる。
第１図、第２図、第３図はホログラム複製用樹脂型の製
造方法、第４図、第５図はホログラムの大量複製方法を
示す工程の断面説明図である。 （１）・・・・・・支持体 （２）・・・・・・樹脂層 （３）・・・・・・ホトレジスト （４）、（６）・・・・・・基材 （５）・・・・・・熱可塑性樹脂上 Ａ・・・・・・ホログラム原版 Ｂ・・・・・・複製型 Ｃ・・・・・・ホログラムの複製品 第１図 第２図 第３図 特 許 出 願 人 凸版印刷株式会社 代表者 鈴木和夫 第４図 第５図
造方法、第４図、第５図はホログラムの大量複製方法を
示す工程の断面説明図である。 （１）・・・・・・支持体 （２）・・・・・・樹脂層 （３）・・・・・・ホトレジスト （４）、（６）・・・・・・基材 （５）・・・・・・熱可塑性樹脂上 Ａ・・・・・・ホログラム原版 Ｂ・・・・・・複製型 Ｃ・・・・・・ホログラムの複製品 第１図 第２図 第３図 特 許 出 願 人 凸版印刷株式会社 代表者 鈴木和夫 第４図 第５図
Claims (7)
- （１）電子線若しくは紫外線透過性のフィルム又はシー
ト状の支持体上に、電子線若しくは紫外線硬化可能なア
クリレート樹脂又は単量体と、分子中にイソシアヌレー
ト環構造を含有するアクリレート若しくはメタクリレー
トの混合物からなる樹脂層を設け、前記樹脂層表面に微
細なレリーフパターンを形成してなるホログラム複製型
。 - （２）電子線若しくは紫外線透過性のフィルム又はシー
ト状の支持体上に、電子線若しくは紫外線硬化可能なア
クリレート樹脂又は単量体と、分子中にイソシアヌレー
ト環構造を含有するアクリレート若しくはメタクリレー
トの混合物からなる樹脂層を設け、次いで表面に微細な
レリーフパターンを有するホログラム原版上に前記樹脂
層を密着させ、電子線若しくは紫外線を照射し、前記樹
脂層を硬化せしめた後、ホログラム原版から剥離するホ
ログラム複製型の製造方法。 - （３）電子線を支持体側から照射する請求項（２）記載
のホログラム複製型の製造方法。 - （４）アクリレート樹脂又は単量体が、一分子中に少な
くとも２個以上のアクリロイル基を含有するエステルア
クリレート、エステルメタクリレート、エポキシアクリ
レート、エポキシメタクリレート、ウレタンアクリレー
ト、ウレタンメタクリレートのいずれかからなる請求項
（１）記載のホログラム複製型。 - （５）アクリレート樹脂又は単量体が、一分子中に少な
くとも２個以上のアクリロイル基を含有するエステルア
クリレート、エステルメタクリレート、エポキシアクリ
レート、エポキシメタクリレート、ウレタンアクリレー
ト、ウレタンメタクリレートのいずれかからなる請求項
（２）または（３）記載のホログラム複製型の製造方法
。 - （６）分子中にイソシアヌレート環構造を含有するアク
リレート若しくはメタクリレートが、一分子中に少なく
とも３個以上のアクリロイル基を含有するエステルアク
リレート、若しくはエステルメタクリレートであること
を特徴とする請求項（１）記載のホログラム複製型。 - （７）請求項（１）の記載の複製型を、熱可塑性樹脂層
を有する基材の熱可塑性樹脂層上に加熱圧着後、複製型
を離脱する事によるホログラムの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8621390A JPH03284786A (ja) | 1990-03-31 | 1990-03-31 | ホログラム複製型およびその製造方法並びにホログラムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8621390A JPH03284786A (ja) | 1990-03-31 | 1990-03-31 | ホログラム複製型およびその製造方法並びにホログラムの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03284786A true JPH03284786A (ja) | 1991-12-16 |
Family
ID=13880503
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8621390A Pending JPH03284786A (ja) | 1990-03-31 | 1990-03-31 | ホログラム複製型およびその製造方法並びにホログラムの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03284786A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5838468A (en) * | 1996-04-12 | 1998-11-17 | Nec Corporation | Method and system for forming fine patterns using hologram |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58184986A (ja) * | 1982-04-23 | 1983-10-28 | Dainippon Printing Co Ltd | ホログラムの複製方法 |
-
1990
- 1990-03-31 JP JP8621390A patent/JPH03284786A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58184986A (ja) * | 1982-04-23 | 1983-10-28 | Dainippon Printing Co Ltd | ホログラムの複製方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5838468A (en) * | 1996-04-12 | 1998-11-17 | Nec Corporation | Method and system for forming fine patterns using hologram |
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