JPS60254174A - ポログラムの複製方法 - Google Patents
ポログラムの複製方法Info
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- JPS60254174A JPS60254174A JP11166384A JP11166384A JPS60254174A JP S60254174 A JPS60254174 A JP S60254174A JP 11166384 A JP11166384 A JP 11166384A JP 11166384 A JP11166384 A JP 11166384A JP S60254174 A JPS60254174 A JP S60254174A
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- B29C35/00—Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
- B29C35/02—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould
- B29C35/08—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- G03H1/028—Replicating a master hologram without interference recording by embossing
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- B29L2031/7224—Holograms
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- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/04—Processes or apparatus for producing holograms
- G03H1/18—Particular processing of hologram record carriers, e.g. for obtaining blazed holograms
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
本発明は、ホログラムの複製方法に関し、さらに詳しく
は、複製工程を著しく簡素化でき、したかって大量生産
が可能なホログラムの複製方法に関する。
は、複製工程を著しく簡素化でき、したかって大量生産
が可能なホログラムの複製方法に関する。
ホログラフィ−とは、物体からの光の波面を記録する新
しい技術であって、この技術によって作られたホログラ
ムによれば、立体像を再生することができしかも多重記
録も可能となる。またホログラムの記録の一方法として
、物体からの光の波面に相当する干渉縞を材料表面の凹
凸模様で記録することができ、このホログラムは大量複
製が容易である。
しい技術であって、この技術によって作られたホログラ
ムによれば、立体像を再生することができしかも多重記
録も可能となる。またホログラムの記録の一方法として
、物体からの光の波面に相当する干渉縞を材料表面の凹
凸模様で記録することができ、このホログラムは大量複
製が容易である。
このようなホログラムを、たとえばクレジットカード、
バンクカードなどのカード類に設ければ、美しさおよび
目新らしさを備え、しかもカード自体の偽造ならびに変
造が困難なカード類が得られる。また、本の表紙、レコ
ードジャケット、あるいは衣類などに設ければ、美しさ
および目新らしさを備えた製品が得られる。
バンクカードなどのカード類に設ければ、美しさおよび
目新らしさを備え、しかもカード自体の偽造ならびに変
造が困難なカード類が得られる。また、本の表紙、レコ
ードジャケット、あるいは衣類などに設ければ、美しさ
および目新らしさを備えた製品が得られる。
ホログラムをカード類あるいは本の表紙、レコードジャ
ケットなどに設けるためには、物体からする必要がある
。
ケットなどに設けるためには、物体からする必要がある
。
従来、ホログラムの複製は、熱可塑性樹脂と、物体から
の光の波面に相当する干渉縞を凹凸模様で表面に形成さ
nたホログラム原版とを、加熱条件下で圧接させて熱可
塑性樹脂の表面に凹凸を形成することによって行なわれ
ていた。ところがこの方法によれば、熱可塑性樹脂とホ
ログラム原版とを圧接させながら、冷却する必要があっ
た。なぜなら、加熱条件下で熱可塑性樹脂とホログラム
原版とを圧接させて熱可塑性樹脂の表面に凹凸を形成し
た後直ちに圧接状態全解除すると、一旦熱可塑性樹脂表
面に形成された凹凸が消滅してしまうからである。この
ため、ホログラムの複製工程に長時間を必要とし、また
、多数回の加熱・冷却を繰シ返すためホログラム原版が
劣化するという問題点があった。さらに、ホログラムは
、熱可塑性樹脂で作るため耐熱性がなく、また一般的に
耐−溶剤性にも劣る問題もあった。
の光の波面に相当する干渉縞を凹凸模様で表面に形成さ
nたホログラム原版とを、加熱条件下で圧接させて熱可
塑性樹脂の表面に凹凸を形成することによって行なわれ
ていた。ところがこの方法によれば、熱可塑性樹脂とホ
ログラム原版とを圧接させながら、冷却する必要があっ
た。なぜなら、加熱条件下で熱可塑性樹脂とホログラム
原版とを圧接させて熱可塑性樹脂の表面に凹凸を形成し
た後直ちに圧接状態全解除すると、一旦熱可塑性樹脂表
面に形成された凹凸が消滅してしまうからである。この
ため、ホログラムの複製工程に長時間を必要とし、また
、多数回の加熱・冷却を繰シ返すためホログラム原版が
劣化するという問題点があった。さらに、ホログラムは
、熱可塑性樹脂で作るため耐熱性がなく、また一般的に
耐−溶剤性にも劣る問題もあった。
一方、このようなホログラム複製に際しての加熱や耐熱
性、耐溶剤性に伴なう問題点を解消するため、基材フィ
ルム上に紫外線硬化樹脂が設けられてなるホログラム形
成用フィルムとホログラム原版とを圧接させ、次いで紫
外線をこのフィルム上に照射して前記樹脂を硬化させる
ことによって、ホログラムの複製をしようとする試みも
提案されている。ところが、従来用いられてきた種類の
紫外線硬化樹脂は、一般に液体状態にあるため、基材フ
ィルム上に塗布した場合に著しくべたつキ、シたがって
基材フィルム上に従来の紫外線硬化樹脂を塗布してなる
ホログラム形成用フィルムは巻取って保管することがで
きず、したがってホログラム原版と接触する直前に基材
フィルム上にいちいち紫外線硬化樹脂を塗布してホログ
ラム形成用フィルムを作成しなければならないという問
題点があった。
性、耐溶剤性に伴なう問題点を解消するため、基材フィ
ルム上に紫外線硬化樹脂が設けられてなるホログラム形
成用フィルムとホログラム原版とを圧接させ、次いで紫
外線をこのフィルム上に照射して前記樹脂を硬化させる
ことによって、ホログラムの複製をしようとする試みも
提案されている。ところが、従来用いられてきた種類の
紫外線硬化樹脂は、一般に液体状態にあるため、基材フ
ィルム上に塗布した場合に著しくべたつキ、シたがって
基材フィルム上に従来の紫外線硬化樹脂を塗布してなる
ホログラム形成用フィルムは巻取って保管することがで
きず、したがってホログラム原版と接触する直前に基材
フィルム上にいちいち紫外線硬化樹脂を塗布してホログ
ラム形成用フィルムを作成しなければならないという問
題点があった。
発明の目的
本発明は、これら従来技術に伴なう問題点を解決しよう
とするものでアシ、以下のような目的を有する。
とするものでアシ、以下のような目的を有する。
(、) ホログラム原版とホログラム形成用フィル宏鉦
加熱冷却を繰り返す必要がなく、したがってホログラム
原版を劣化させることのないホログラムの複製方法を提
供すること。
加熱冷却を繰り返す必要がなく、したがってホログラム
原版を劣化させることのないホログラムの複製方法を提
供すること。
(b) ホログラム原版とホログラム形成用フィルムと
を加熱状態に保って圧接させることによりホログラム形
成用フィルムの表面に物体からの光の波面に相当する干
渉縞を凹凸の形で形成した後、直ちに圧接状態を解除し
て冷却することができ、したがってホログラムの複製工
程を者しく簡素化できるとともに大量生産が可能なホロ
グラムの複製方法を提供すること。
を加熱状態に保って圧接させることによりホログラム形
成用フィルムの表面に物体からの光の波面に相当する干
渉縞を凹凸の形で形成した後、直ちに圧接状態を解除し
て冷却することができ、したがってホログラムの複製工
程を者しく簡素化できるとともに大量生産が可能なホロ
グラムの複製方法を提供すること。
(C) 巻取って保存することが可能なホログラム形成
用フィルムを用いることによって、ホログラムの複製工
程を簡素化でき、しかも大量生産が可能なホログラムの
複製方法を提供すること。
用フィルムを用いることによって、ホログラムの複製工
程を簡素化でき、しかも大量生産が可能なホログラムの
複製方法を提供すること。
(d) 耐熱性、耐溶剤性に優れたホログラムを提供す
ること。
ること。
発明の概要
本発明に係るホログラムの複製方法は、基材フィルム上
に熱成形性を有する紫外線硬化樹脂または電子線硬化樹
脂が設けられてなるホログラム形成用フィルムと表面に
物体からの光の波面に相当する干渉縞を凹凸の模様とし
て形成されているホログラム原版とを、加熱条件下で圧
接させて前記樹脂に凹凸を形成し、次いで直ちに紫外線
または電子線を前記ホログラム形成用フィルムに照射さ
せることを特徴としている。
に熱成形性を有する紫外線硬化樹脂または電子線硬化樹
脂が設けられてなるホログラム形成用フィルムと表面に
物体からの光の波面に相当する干渉縞を凹凸の模様とし
て形成されているホログラム原版とを、加熱条件下で圧
接させて前記樹脂に凹凸を形成し、次いで直ちに紫外線
または電子線を前記ホログラム形成用フィルムに照射さ
せることを特徴としている。
以下本発明を図面に示す具体例について説明する。
図は、本発明に係るホログラムの複製工程を示すもので
ある。ホログラム形成用フィルム1は、基材フィルム2
上に、熱成形性を有する紫外線硬化樹脂または電子線硬
化樹脂3が設けられて構成されている。必要に応じて、
基材フィルム2と前記樹脂3との間には、剥離層(図示
せず)が設けられていてもよい。
ある。ホログラム形成用フィルム1は、基材フィルム2
上に、熱成形性を有する紫外線硬化樹脂または電子線硬
化樹脂3が設けられて構成されている。必要に応じて、
基材フィルム2と前記樹脂3との間には、剥離層(図示
せず)が設けられていてもよい。
基材フィルム2としては、フィルム状のあらゆる材料が
用いられうる。具体的には、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリエチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニル、
塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン
、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、?リビニル
プチラール、ポリカーボネートなどの重合体フィルム、
紙、合成紙、鉄などの金属フィルムなどが用いられつる
。
用いられうる。具体的には、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリエチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニル、
塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン
、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、?リビニル
プチラール、ポリカーボネートなどの重合体フィルム、
紙、合成紙、鉄などの金属フィルムなどが用いられつる
。
また、これらの積1体も用いられうる。
本発明に用いられうる熱成形;生を有する紫外線硬化樹
脂または電子線硬化樹脂3は、常温では固体状であって
、基材フィルム2上に設けられた場合に、表面がべたつ
くことがなく巻取り可能である。したがって、基材フィ
ルム2上に前記樹脂を設けてなるホログラム形成用フィ
ルム1は、巻取って保存することができるため、ホログ
ラム原版と接触する直前に、基材フィルム上にいちいち
前記樹脂を設ける必要がない。
脂または電子線硬化樹脂3は、常温では固体状であって
、基材フィルム2上に設けられた場合に、表面がべたつ
くことがなく巻取り可能である。したがって、基材フィ
ルム2上に前記樹脂を設けてなるホログラム形成用フィ
ルム1は、巻取って保存することができるため、ホログ
ラム原版と接触する直前に、基材フィルム上にいちいち
前記樹脂を設ける必要がない。
本発明のホログラム層に使用可能な材料としてはう・ク
カル重合性不飽和基金有する熱成形性物質であり、次の
2種類のものがある。
カル重合性不飽和基金有する熱成形性物質であり、次の
2種類のものがある。
(1)ガラス転移温度が0〜250℃のポリマー中にう
・ジカル重合性不飽和基を有するもの。さらに具体的に
は、ホリマーとしては以下の化合物■〜■を重合、もし
くは共重合させたものに対し後述する方法(イ)〜に)
によりラジカル重合性不飽和基を導入したものを用いる
ことができる。
・ジカル重合性不飽和基を有するもの。さらに具体的に
は、ホリマーとしては以下の化合物■〜■を重合、もし
くは共重合させたものに対し後述する方法(イ)〜に)
によりラジカル重合性不飽和基を導入したものを用いる
ことができる。
■ 水酸基を有する単量体二N−メチロールアクリルア
ミド、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロ
キシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルア
クリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、
2−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシエ
チルアクリレート、2−ヒドロキシ、3−フェノキシゾ
ロビルメタクリレート、2−ヒドロキシ、3−フェノキ
シプロピルアクリレート7など。
ミド、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロ
キシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルア
クリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、
2−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシエ
チルアクリレート、2−ヒドロキシ、3−フェノキシゾ
ロビルメタクリレート、2−ヒドロキシ、3−フェノキ
シプロピルアクリレート7など。
■ カルボキシル基を有する単量体ニアクリル酸、メタ
クリル酸、アクリロイルオキシエチルモノサクシネート
など。
クリル酸、アクリロイルオキシエチルモノサクシネート
など。
■ エポキシ基を有する単量体ニゲリシジルメタクリレ
ートなど。
ートなど。
■ アジリジニル基を有する単量体=2−アジリジニル
エチルメタクリレート、2−アジリジニルゾロピオン酸
アリルなど。
エチルメタクリレート、2−アジリジニルゾロピオン酸
アリルなど。
■ アミン基を有する単量体ニアクリルアミド、メタク
リルアミド、ダイア七トンアクリルアミド、ジメチルア
ミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタ
クリレートなど。
リルアミド、ダイア七トンアクリルアミド、ジメチルア
ミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタ
クリレートなど。
■ スルフォン基含有する単量体=2−アクリルアミド
ー2−メチルプロパンスルフォン酸など。
ー2−メチルプロパンスルフォン酸など。
■ インシアネート基を有する単量体:2,4−トルエ
ン、ジイソシアネートと2−ヒドロキシエチルアクリレ
ートの1モル対1モル付加物などのジイソシアネートと
活性水素を有するラジアル重合性単量体の付加物など。
ン、ジイソシアネートと2−ヒドロキシエチルアクリレ
ートの1モル対1モル付加物などのジイソシアネートと
活性水素を有するラジアル重合性単量体の付加物など。
■ さらに、上記の共重合体のガラス転移点を調節した
り、硬化膜の物性を調節したりするために、上記の化合
物と、この化合物と共重合可能な以下のような単量体と
共重合させることもできる。
り、硬化膜の物性を調節したりするために、上記の化合
物と、この化合物と共重合可能な以下のような単量体と
共重合させることもできる。
このような共重合可能な単量体としては、たとえばメチ
ルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリ
レート、エチルメタクリレート、プロピルアクリレート
、プロピルメタクリレート、ブチルアクリレート、ブチ
ルメタクリレート、インブチルアクリレート、イソブチ
ルメタクリレート、t−ブチルアクリレート、t−ブチ
ルメタクリレート、インアミルアクリレート、インアミ
ルメタクリレート、フクロヘキシルアクリレート、シク
ロヘキシルメタクリレート、2−エチルへキシルアクリ
レート、2−エチルへキシルメタクリレート、などが挙
けられる。
ルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリ
レート、エチルメタクリレート、プロピルアクリレート
、プロピルメタクリレート、ブチルアクリレート、ブチ
ルメタクリレート、インブチルアクリレート、イソブチ
ルメタクリレート、t−ブチルアクリレート、t−ブチ
ルメタクリレート、インアミルアクリレート、インアミ
ルメタクリレート、フクロヘキシルアクリレート、シク
ロヘキシルメタクリレート、2−エチルへキシルアクリ
レート、2−エチルへキシルメタクリレート、などが挙
けられる。
次に上述のようにして得られた重合体を以下に述べる方
法(イ)〜に)により反応させ、ラジカル重合性不飽和
基を導入することによって、本発明に係はアクリル酸、
メタクリル酸などのカルボキシル基を有する単量体など
を組合反応させる。
法(イ)〜に)により反応させ、ラジカル重合性不飽和
基を導入することによって、本発明に係はアクリル酸、
メタクリル酸などのカルボキシル基を有する単量体など
を組合反応させる。
単量体を縮合反応させる。
は前述の水酸基を有する単量体もしくはカルボキシル基
を有する単量体を付加反応させる。
を有する単量体を付加反応させる。
量体あるいはアジリジニル基を有する単量体あるいはジ
イソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エステル
単量体の1対1モルの付加物を付加反応させる。
イソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エステル
単量体の1対1モルの付加物を付加反応させる。
上記反応を行うには、微量のハイドロキノンなどの重合
禁止剤を加え乾燥空気を送りながら行うことが好ましい
。
禁止剤を加え乾燥空気を送りながら行うことが好ましい
。
(2)融点が0〜250℃であυう・ジカル重合性不飽
和基を有する化合物。具・体的にはステアリルアクリレ
ート、ステアリルメタクリレート、トリアクリルイソ7
アヌレート、シクロヘキサンジオールジアクリレート、
シクロヘキサンジオールジメタクリレート、スピログリ
コ・−ルジアクリレート、スピログリコールジメタクリ
レートなどが挙げられる。
和基を有する化合物。具・体的にはステアリルアクリレ
ート、ステアリルメタクリレート、トリアクリルイソ7
アヌレート、シクロヘキサンジオールジアクリレート、
シクロヘキサンジオールジメタクリレート、スピログリ
コ・−ルジアクリレート、スピログリコールジメタクリ
レートなどが挙げられる。
また、本発明においては、前記(1) 、 (z)を混
合して用いることもでき、さらに、それらに対してラジ
カル重合性不飽和単量体を加えることもできる。
合して用いることもでき、さらに、それらに対してラジ
カル重合性不飽和単量体を加えることもできる。
このラジカル重合性不飽和単量体は、電離放射線照射の
際、架橋密度を向上させ耐熱性を向上させるものであっ
て、前述の単量体の他にエチレングリコールジアクリレ
ート、エチレングリコールジメタクリレート、ポリエチ
レングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコー
ルジアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、
ヘキサンジオールジメタクリレート、トリメチロールゾ
ロバンドリアクリレート、トリメチロールプロノセント
リメタクリレート、トリメチロールプロノぞンジアクリ
レート、トリメチロールプロノぐンジメタクリレート、
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリ
スリトールテトラアクリレ−ト、ペンタエリスリトール
トリアク1ル−ト、ペンタエリスリトールトリメタクリ
レート、ジペンタエリスリトールへキサアクリレート、
ジペンタエリスリトールへキサメタクリレート、エチレ
ングリコールジグリシジルエーテルジアクリレート、エ
チレンクリコールシ/’)シクロエーテルジメタクリレ
ート、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテルジ
アクリレート、ポリエチレングリレート、プロピレング
リコールジグリシジルエーテルジメタクリレート、ポリ
プロピレングリコールジグリジルエーテルジアクリレー
ト、ポリゾロピレングリコールジグリジルエーテルジメ
タクリレート、ソルビトールテトラグリジルエーテルテ
トラアクリレート、ソルビトールテトラグリシジルエー
テルテトラメタクリレート、などを用いることができ、
前記した共重合体混合物の固型分100重量部に対して
、0.1〜100重量部で用いることが好ましい。また
、上記のものは電子線により十分に硬化可能であるが、
紫外線照射で硬化させる場合には、増感剤として4ンゾ
キノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、など
のベンゾインエーテル類、ハロゲン化アセトフェノン類
、ビアチル類などの紫外線照射によりラジカルを発生す
るものも用いることができる。
際、架橋密度を向上させ耐熱性を向上させるものであっ
て、前述の単量体の他にエチレングリコールジアクリレ
ート、エチレングリコールジメタクリレート、ポリエチ
レングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコー
ルジアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、
ヘキサンジオールジメタクリレート、トリメチロールゾ
ロバンドリアクリレート、トリメチロールプロノセント
リメタクリレート、トリメチロールプロノぞンジアクリ
レート、トリメチロールプロノぐンジメタクリレート、
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリ
スリトールテトラアクリレ−ト、ペンタエリスリトール
トリアク1ル−ト、ペンタエリスリトールトリメタクリ
レート、ジペンタエリスリトールへキサアクリレート、
ジペンタエリスリトールへキサメタクリレート、エチレ
ングリコールジグリシジルエーテルジアクリレート、エ
チレンクリコールシ/’)シクロエーテルジメタクリレ
ート、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテルジ
アクリレート、ポリエチレングリレート、プロピレング
リコールジグリシジルエーテルジメタクリレート、ポリ
プロピレングリコールジグリジルエーテルジアクリレー
ト、ポリゾロピレングリコールジグリジルエーテルジメ
タクリレート、ソルビトールテトラグリジルエーテルテ
トラアクリレート、ソルビトールテトラグリシジルエー
テルテトラメタクリレート、などを用いることができ、
前記した共重合体混合物の固型分100重量部に対して
、0.1〜100重量部で用いることが好ましい。また
、上記のものは電子線により十分に硬化可能であるが、
紫外線照射で硬化させる場合には、増感剤として4ンゾ
キノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、など
のベンゾインエーテル類、ハロゲン化アセトフェノン類
、ビアチル類などの紫外線照射によりラジカルを発生す
るものも用いることができる。
ホログラム原版4は、その表面に物体からの光の波面に
相当する干渉縞である凹凸が形成されている。このホロ
グラム原版4は、従来既知の方法によって作成すること
ができ、また、ホログラム原版4に形成されるホログラ
ムは材料表面の凹凸によりホログラムの情報を記録でき
るタイプのもので、具体的には、リップマンホログラム
ラ除く、フレネルホログラム、フーリエ変換ホログラム
、クラウンホーファーホログラムなどの原理のものに及
び、それらの原理を利用したイメージホログラム、レイ
ンボーホログラム、ホログラフィックステレオダラム、
ホログラフィック回折格子などが用いられる。
相当する干渉縞である凹凸が形成されている。このホロ
グラム原版4は、従来既知の方法によって作成すること
ができ、また、ホログラム原版4に形成されるホログラ
ムは材料表面の凹凸によりホログラムの情報を記録でき
るタイプのもので、具体的には、リップマンホログラム
ラ除く、フレネルホログラム、フーリエ変換ホログラム
、クラウンホーファーホログラムなどの原理のものに及
び、それらの原理を利用したイメージホログラム、レイ
ンボーホログラム、ホログラフィックステレオダラム、
ホログラフィック回折格子などが用いられる。
上記のようなホログラム形成用フィルム1とホラム形成
用フィルム1の紫外線硬化樹脂または電子線硬化樹脂3
の表面に、ホログラム原版4の凹凸模様全複製する。
用フィルム1の紫外線硬化樹脂または電子線硬化樹脂3
の表面に、ホログラム原版4の凹凸模様全複製する。
この際、加熱ロールの温度は、用いられている前記樹脂
30種類によって大きく変化するが、品〜300℃望ま
しくは100〜200℃であることが好ましい。さらに
ホログラム形成用フィルム1とホログラム原版4とは、
0.1kg/em以上、望ましくは1kg/cm以上の
圧力下に圧接されることが好−ましい。
30種類によって大きく変化するが、品〜300℃望ま
しくは100〜200℃であることが好ましい。さらに
ホログラム形成用フィルム1とホログラム原版4とは、
0.1kg/em以上、望ましくは1kg/cm以上の
圧力下に圧接されることが好−ましい。
体からの光の波面に相当する干渉縞全凹凸の模様として
ホログラムに形成し、ホログラム原版との圧接状態で紫
外線硬化樹脂ならば紫外線を、また電子線硬化樹脂なら
ば電子線を、ホログラム彫成用フィルムl上に照射して
前記樹脂3を硬化させる。
ホログラムに形成し、ホログラム原版との圧接状態で紫
外線硬化樹脂ならば紫外線を、また電子線硬化樹脂なら
ば電子線を、ホログラム彫成用フィルムl上に照射して
前記樹脂3を硬化させる。
紫外線または電子線のホログラム形成用フィルム上への
照射は、照射光源6により行なえばよい。
照射は、照射光源6により行なえばよい。
この際に、紫外線または電子線の照射は、ホログラム原
版のホログラムの凹凸を成形したフィルムを版より剥離
した後に再度照射してもよく、樹脂を十分に硬化させる
ことが好ましい。紫外線または電子線の照射量は使用す
る樹脂により適宜状めることが必要である。
版のホログラムの凹凸を成形したフィルムを版より剥離
した後に再度照射してもよく、樹脂を十分に硬化させる
ことが好ましい。紫外線または電子線の照射量は使用す
る樹脂により適宜状めることが必要である。
このようにしてホログラム形成用フィルム1の紫外線硬
化樹脂または電子線硬化樹脂の表面に凹凸を形成した状
態で紫外線または電子線を照射して前記樹脂を硬化させ
ることによって、直ちにホログラム原版とホログラム形
成用フィルムとの間にかけていた圧力全解除して冷却す
ることが可能となる。なぜなら前記樹脂は、路外線また
は電子線の照射によって直ちに硬化し、したがってホロ
グラム原版とホログラム形成用フィルムとの間にかけて
いた圧力を解除しても形成された凹凸は消滅しないため
である。また、紫外線あるいは電子線の照射により樹脂
が三次元架橋硬化するため、耐熱性、耐溶剤性が付与さ
れる。
化樹脂または電子線硬化樹脂の表面に凹凸を形成した状
態で紫外線または電子線を照射して前記樹脂を硬化させ
ることによって、直ちにホログラム原版とホログラム形
成用フィルムとの間にかけていた圧力全解除して冷却す
ることが可能となる。なぜなら前記樹脂は、路外線また
は電子線の照射によって直ちに硬化し、したがってホロ
グラム原版とホログラム形成用フィルムとの間にかけて
いた圧力を解除しても形成された凹凸は消滅しないため
である。また、紫外線あるいは電子線の照射により樹脂
が三次元架橋硬化するため、耐熱性、耐溶剤性が付与さ
れる。
なお、ホログラム原版およびホログラム形成用フィルム
を、紫外線または電子線の照射前あるいは照射後に、強
制的に冷却してもよいが、通常は自然に冷却すれば充分
である。
を、紫外線または電子線の照射前あるいは照射後に、強
制的に冷却してもよいが、通常は自然に冷却すれば充分
である。
次に、ホログラム原版と、表面に凹凸模様が形成された
ホログラム形成用フィルムとを剥離すれば、複製ホログ
ラムが得られる。また、必要であれば剥離後にさらに紫
外線あるいは電子線を照射することにより、十分に樹脂
を硬化させることができ、硬度、耐熱性、耐溶剤性等を
向上させることもできる。
ホログラム形成用フィルムとを剥離すれば、複製ホログ
ラムが得られる。また、必要であれば剥離後にさらに紫
外線あるいは電子線を照射することにより、十分に樹脂
を硬化させることができ、硬度、耐熱性、耐溶剤性等を
向上させることもできる。
なお、本発明のホログラム成形用フィルムを用いて従来
の熱0T塑性樹脂を用いた場合と同様に、加熱加圧して
凸凹を成形した状態で冷却しその後、ホログラム原版と
、ホログラム成形用フィルムとを剥離する方法を用いて
も、複製ホログラムが得られるのはもちろんのことであ
り、その後さらに紫外線あるいは電子線を照射すれば、
ホログラムに耐熱性、耐溶剤性上付与することができる
。
の熱0T塑性樹脂を用いた場合と同様に、加熱加圧して
凸凹を成形した状態で冷却しその後、ホログラム原版と
、ホログラム成形用フィルムとを剥離する方法を用いて
も、複製ホログラムが得られるのはもちろんのことであ
り、その後さらに紫外線あるいは電子線を照射すれば、
ホログラムに耐熱性、耐溶剤性上付与することができる
。
発明の効果
本発明に係るホログラムの複製方法は、基材フィルム上
に、熱成形性含有する紫外線硬化樹脂または電子線硬化
樹脂が設けられてなる、ホログラム形成用フィルムと、
表面に物体からの光の波面に相当する凹凸が形成されて
いるホログラム原版と會、加熱条件下で圧接させて前記
樹脂に凹凸を形成し、次いで寺令遡紫外線または電子線
全前記ホログラム形成用フィルムに照射させることによ
って行なっているため、以下のような効果が得られる。
に、熱成形性含有する紫外線硬化樹脂または電子線硬化
樹脂が設けられてなる、ホログラム形成用フィルムと、
表面に物体からの光の波面に相当する凹凸が形成されて
いるホログラム原版と會、加熱条件下で圧接させて前記
樹脂に凹凸を形成し、次いで寺令遡紫外線または電子線
全前記ホログラム形成用フィルムに照射させることによ
って行なっているため、以下のような効果が得られる。
(&) ホログラム原版とホログラム形成用フィルムと
を長時間にわたって加熱状態に圧接する必要がなく、シ
たがってホログラム原版の凹凸が熱により消滅すること
がない。
を長時間にわたって加熱状態に圧接する必要がなく、シ
たがってホログラム原版の凹凸が熱により消滅すること
がない。
(b) ホログラム形成用フィルムとホログラム原版と
を加熱状態に保って圧接して該フィルム上に凹凸を形成
した後、直ちに圧接状態を解除することができ、したが
って冷却工程を短時間で行なうことができ、ホログラム
の複製工程を著しく簡素化できるとともに大量生産が可
能となる。
を加熱状態に保って圧接して該フィルム上に凹凸を形成
した後、直ちに圧接状態を解除することができ、したが
って冷却工程を短時間で行なうことができ、ホログラム
の複製工程を著しく簡素化できるとともに大量生産が可
能となる。
(c)ホログラム形成用フィルムを巻取って保存するこ
とがでキ、シたがってホログラムの複製工程を簡素化で
きるとともに大量生産が可能となる。
とがでキ、シたがってホログラムの複製工程を簡素化で
きるとともに大量生産が可能となる。
(d) 耐熱性、耐溶剤性に優れたホログラムを提供す
ること。
ること。
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれ
ら実施例に限定されるものではない。
ら実施例に限定されるものではない。
実施例1
下記組成物を6時間還流させ共重合を行った。
メチルメタアクリレート 300部
2−ヒドロキシエチルメタクリレート 130部酢酸エ
チル 1000部 αゲーアゾビスイソブチロニトリル 2部次いで0.1
重通部のiRシラトキシフェノールを加え反応を停止さ
せた後、得られた反応物に100重量部の2−ヒドロキ
シエチルアクリレートと2.4−トルエンジイソシアネ
ートの1モル対1モル付加物を加え、さらにジブチルチ
ンシラウリレートを5重愉部加えて乾燥空気を送りなが
ら80℃で5時間反応させた。
チル 1000部 αゲーアゾビスイソブチロニトリル 2部次いで0.1
重通部のiRシラトキシフェノールを加え反応を停止さ
せた後、得られた反応物に100重量部の2−ヒドロキ
シエチルアクリレートと2.4−トルエンジイソシアネ
ートの1モル対1モル付加物を加え、さらにジブチルチ
ンシラウリレートを5重愉部加えて乾燥空気を送りなが
ら80℃で5時間反応させた。
反応液を室温まで冷却した後、15重量部の紫外線増感
材(イルガテユア184チバガイギー社製)を加えて、
均一に溶解させてホログラム層用の樹脂液を得た。次に
、この樹脂液をポリエチレンテレフタレートフィルムδ
μm(東し製ルミラー)に固型分が3 g / mにな
る様に塗布し、溶剤を乾燥させ、ホログラム形成用フィ
ルムを得た。次にこのホログラム形成用フィルムの上記
の樹脂の塗布面とホログラム原版としてホログラムが凹
凸形状で記録されている金型の凹凸面とt重ね合せ、1
60℃20 kg / cmのニップロール間を通し、
密着させ、この状態でフィルム面より80W/am水銀
灯下10cmの位置で10 m 7m l ’nの速度
で紫外線を照射し、樹脂を硬化させた後、ホログラム形
成用フィルムをホログラム原版より剥離したところ上記
樹脂表面に凹凸形状が形成されホログラムが複製できた
。この複製ホログラムは、耐熱性、耐溶剤性にも優れた
ものであった。
材(イルガテユア184チバガイギー社製)を加えて、
均一に溶解させてホログラム層用の樹脂液を得た。次に
、この樹脂液をポリエチレンテレフタレートフィルムδ
μm(東し製ルミラー)に固型分が3 g / mにな
る様に塗布し、溶剤を乾燥させ、ホログラム形成用フィ
ルムを得た。次にこのホログラム形成用フィルムの上記
の樹脂の塗布面とホログラム原版としてホログラムが凹
凸形状で記録されている金型の凹凸面とt重ね合せ、1
60℃20 kg / cmのニップロール間を通し、
密着させ、この状態でフィルム面より80W/am水銀
灯下10cmの位置で10 m 7m l ’nの速度
で紫外線を照射し、樹脂を硬化させた後、ホログラム形
成用フィルムをホログラム原版より剥離したところ上記
樹脂表面に凹凸形状が形成されホログラムが複製できた
。この複製ホログラムは、耐熱性、耐溶剤性にも優れた
ものであった。
実施例2
下記組成物を6時間還流させ共重合を行った。
メチルメタクリレート 320重量部
ブチルメタクリレート 130重量部
グリシジルメタクリレート 284重量部トルエン 1
290重量部 メチルエチルケトン 1290重量部 α、α′−アゾビスイソブチロニトリル 25重量部次
いで得られた反応物に0.2重量部のハイドロキノンを
加え反応を停止させた後、アクリル酸158重量部、ピ
リジン10重量部を加え、乾燥空気を送り込みながら9
0°〜100℃で8時間反応させた。
290重量部 メチルエチルケトン 1290重量部 α、α′−アゾビスイソブチロニトリル 25重量部次
いで得られた反応物に0.2重量部のハイドロキノンを
加え反応を停止させた後、アクリル酸158重量部、ピ
リジン10重量部を加え、乾燥空気を送り込みながら9
0°〜100℃で8時間反応させた。
得られた材料を5μmの厚みのポリエチレンテレフタレ
ートフィルムに乾燥後に2..5g/m2になる様に均
一に塗布し、溶剤を乾燥させてホログラム成形用フィル
ムとした。得られたフィルムは常温ではペタつかず、巻
取状態で保管できる。
ートフィルムに乾燥後に2..5g/m2になる様に均
一に塗布し、溶剤を乾燥させてホログラム成形用フィル
ムとした。得られたフィルムは常温ではペタつかず、巻
取状態で保管できる。
次にこの塗工フィルムの樹脂面と、ホログラムが凹凸の
形状で記録されているホログラム原版である金型の凹凸
面とを重ね合せ、実施例1と同様に上下より加熱加圧し
、金型と塗工フィルムとを密着させた。さらにその状態
でフィルム側より175KVに加速された電子線を5M
rad照射し、塗布した樹脂を架橋硬化して金型と、塗
工フィルムとを剥離すると、塗布フィルムの樹脂面に金
型の凹凸形状が形成されたホログラムが複製された。
形状で記録されているホログラム原版である金型の凹凸
面とを重ね合せ、実施例1と同様に上下より加熱加圧し
、金型と塗工フィルムとを密着させた。さらにその状態
でフィルム側より175KVに加速された電子線を5M
rad照射し、塗布した樹脂を架橋硬化して金型と、塗
工フィルムとを剥離すると、塗布フィルムの樹脂面に金
型の凹凸形状が形成されたホログラムが複製された。
この複製ホログラムは耐熱性、耐溶剤性に優れていた。
図は、本発明に係るホログラムの複製方法の製造工程を
示す断面図である。 1・・・ホログラム形成用フィルム 2・・・基材フィルム 3・・・紫外線硬化樹脂または電子線硬化樹脂4・・・
ホログラム原版 5・・・加熱圧接ロール 6・・・照射光源
示す断面図である。 1・・・ホログラム形成用フィルム 2・・・基材フィルム 3・・・紫外線硬化樹脂または電子線硬化樹脂4・・・
ホログラム原版 5・・・加熱圧接ロール 6・・・照射光源
Claims (1)
- 基材フィルム上に熱成形性を有する紫外線硬化樹脂また
は電子線硬化樹脂が設けられてなるホログラム形成用フ
ィルムと、表面に物体からの光の波面に相当する干渉縞
が凹凸の形でホログラムに形成されているホログラム原
版とを、前記フィルムの紫外線硬化樹脂または電子線硬
化樹脂がホログラム原版に接するようにして加熱条件下
で圧接させて前記樹脂に凹凸を形成した後紫外線または
電子線をホログラム形成用フィルムに照射することを特
徴とするホログラムの複製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59111663A JPH0685103B2 (ja) | 1984-05-31 | 1984-05-31 | ホログラムの複製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59111663A JPH0685103B2 (ja) | 1984-05-31 | 1984-05-31 | ホログラムの複製方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60254174A true JPS60254174A (ja) | 1985-12-14 |
| JPH0685103B2 JPH0685103B2 (ja) | 1994-10-26 |
Family
ID=14567030
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59111663A Expired - Lifetime JPH0685103B2 (ja) | 1984-05-31 | 1984-05-31 | ホログラムの複製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0685103B2 (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63168397A (ja) * | 1986-12-29 | 1988-07-12 | 大日本印刷株式会社 | 偽造防止が図られた物品及びその製造方法 |
| JPH01214498A (ja) * | 1988-02-22 | 1989-08-28 | Dainippon Printing Co Ltd | 凹凸模様形成物及びその形成方法及びその方法に使用する凹凸模様形成用シート |
| EP0328298A3 (en) * | 1988-02-12 | 1990-11-22 | Markem Systems Limited | Manufacture of relief holograms |
| JPH05232853A (ja) * | 1992-02-25 | 1993-09-10 | Tootsuya:Kk | ホログラムの製造方法 |
| JPH05323856A (ja) * | 1992-05-20 | 1993-12-07 | Tootsuya:Kk | 透明ホログラムディスプレー及びディスプレー装置 |
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| US7420005B2 (en) | 2001-06-28 | 2008-09-02 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Photocurable resin composition, finely embossed pattern-forming sheet, finely embossed transfer sheet, optical article, stamper and method of forming finely embossed pattern |
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-
1984
- 1984-05-31 JP JP59111663A patent/JPH0685103B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (6)
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| US7420005B2 (en) | 2001-06-28 | 2008-09-02 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Photocurable resin composition, finely embossed pattern-forming sheet, finely embossed transfer sheet, optical article, stamper and method of forming finely embossed pattern |
| EP1519249A3 (en) * | 2003-09-17 | 2006-06-28 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Method for forming fine relief patterns and methods for producing and copying optical diffraction structures |
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| EP1806635A3 (en) * | 2003-09-17 | 2011-03-09 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Method for forming fine relief patterns and methods for producing and copying optical diffraction structures |
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| CN102375162A (zh) * | 2010-08-18 | 2012-03-14 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 薄膜生产装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0685103B2 (ja) | 1994-10-26 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |