JPH0329115A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は磁気記録媒体の製造方法に係り、さらに詳しく
は緻密で摺動強度に優れたボロン（Ｂ）を主成分とする
保護膜を有する耐久性の良好な金属薄膜型の磁気記録媒
体の製造方法に関する。

〔従来の技術〕

従来の磁気記録媒体としては、非磁性基体上に強磁性粉
末を結合剤成分および有機溶剤などと共に、基体上に塗
布し乾燥して作製した塗布型の磁気記録媒体が広く使用
されてきている。しかし、近年、高密度記録への要求が
高まるにつれ、真空蒸着、スパッタリングなどのベーパ
デポジション法あるいは各種のメッキ法などにより形成
した強磁性金属薄膜を磁気記録層とする金属薄膜型の磁
気記録媒体が注目を浴び、活発な研究開発が推進され、
実用化に至っている。

金属薄膜型の磁気記録媒体は、飽和磁化の太きな強磁性
金属を、バインダなどの非磁性物質を介在させない状態
で，極めて薄い磁性層として形成させることができるの
で、電磁変換特性に優れ、高密度磁気記録に適している
．しかし、金属薄膜型の磁気記録媒体は、高密度記録に
適した優れた磁気特性を有する反面、従来の塗布型磁気
記録媒体のように、媒体中に潤滑剤や防錆剤などを含有
させることが困難であり、かつ金属磁性層が露出した構
造であるために腐食され易く、また磁気ヘッドとの摩擦
係数が大きく走行不良を生じたり、磁気ヘッドとの摺接
によって磁気記録層が摩耗や損傷を被り磁気特性が劣化
するなど、耐久性に劣るという欠点があった．この欠点
を解決するために、従来技術においては金属磁性層の上
に、種々の非磁性物質からなる硬質の保護膜を設けるこ
とによって，金属薄膜型磁気記録媒体の耐久性の向上が
はかられてきた．これらの硬質の保護膜の中で、特にＢ
を主体とする保護膜は、金属薄膜型磁気記録媒体の耐久
性の向上に顕著な効果があることが認められている（特
開昭６２−１２８０１６号公報）．シかし、このＢ保護
膜の形成は、スパツタ法あるいは基体フイルムを蒸着槽
の中空に保持した状態で、バッチ式の真空蒸着法で或膜
した場合には、非常に良好な摺動強度を有するＢ保護膜
が得られるが、回転ドラムに基体フィルムを巻付け移動
させながら蒸着を行う量産性に適した連続巻取式の真空
蒸着法によってＢ保護膜を形成させると、前者の成膜法
に比べＢ保護膜の摺動強度が著しく低下するという問題
があった。

〔発明が解決しようとする課題〕

上述したごとく、従来の連続巻取式真空蒸着法によって
、Ｂ保護膜を形成させた金属薄膜型の磁気記録媒体は、
Ｂ保護膜の摺動強度が低く、磁気記録媒体としての耐久
性に劣るという問題があった． 本発明の目的は、上記従来技術の問題点を解消し、耐久
性に優れたＢを主成分とする保護膜を有する金属薄膜型
の磁気記録媒体を量産性よく製造する方法を提供するこ
とにある． 〔課題を解決するための手段〕 一般に、スバッタ法により基体上に成膜する場合には、
スパッタ粒子のエネルギーが高く、スバッタ粒子が基体
表面に衝突して膜が形成される時の実質的な基体温度は
瞬間的に上昇するものと思われる．また、バッチ式真空
蒸着法で基体フィルムを真空槽の中空に保持した状態で
蒸着を行うときにも、蒸着時に蒸発源から受ける熱エネ
ルギーが逃げにくいので、膜形成時における実質的な基
体フィルム温度は瞬間的に上昇するものと思われる．こ
の基体温度の瞬間的な上昇によって、基体表面に蒸着さ
れる粒子間の結合力が強くなり、緻密な蒸着膜が形成さ
れるものと考えられる．そこで、連続巻取式の真空蒸着
法において，基体温度を上げてＢの蒸着を行えば耐久性
に優れた緻密なＢ保護膜の形成が可能と考えられる一が
，実際に．基体フィルムの耐熱性の許される範囲内で温
度を上げて蒸着を行ってもＢ保護膜の耐久性の向上はみ
られなかった． 本発明者は鋭意検討を重ねた結果、蒸着時のＢ蒸気中に
、イオン化したＢ、または不活性ガスであるＡｒ，Ｈｅ
，Ｋｒなどのイオンを含有させると、連続巻取式真空蒸
着法であっても極めて耐久性に優れた緻密なＢ保護膜を
形成できることを見い出した．これは、イオン粒子のエ
ネルギーが通常の蒸着粒子のエネルギーよりも高いため
、蒸着時に瞬間的に基体温度を上昇させ、基体フィルム
に熱ダメージを与えることなく、極めて蒸着粒子間の結
合力の強いａ密なＢ保護膜を形成させることができ、磁
気記録媒体の耐久性の向上をはかることができるのであ
る． 本発明の目的は、非磁性の基板上に、直接もしくは下地
層を介して、Ｃｏ，ＮｉまたはＦｅの単体金属，もしく
はそれらの元素を主成分とする合金からなる磁気記録層
を形成し、該磁気記録層上に、Ｂを主成分とする保護膜
を、連続式真空蒸着手段により成膜して金属薄膜型の磁
気記録媒体を製造する方法において、上記Ｂを主成分と
する保護膜を形成させる蒸着蒸気中に高周波電極を配置
し、これに高周波電力を印加して、Ｂの蒸着蒸気中にＢ
イオンを形成させるか、もしくはイオン銃によってＡｒ
，Ｈｅ，Ｋｒなどの不活性ガスのイオンを上記Ｂの蒸着
蒸気流に照射して、上記蒸着蒸気中にイオン化したＢ、
もしくは不活性ガスのイオンを含有させながら蒸着して
、上記Ｂを主成分とする保護膜を形成させることにより
、達成される。

本発明の磁気記録媒体の製造方法において、強磁性金属
薄膜からなる磁気記録層上に形成させるＢを主成分とす
る保護膜に、Ｂ保護膜の緻密性を損なわない範囲の若干
量の炭素、酸素または窒素などの元素が含有されていて
も構わない。

本発明のＢを主或分とする保護膜を設けた金属薄膜型の
磁気記録媒体は、Ｃｏ，ＮｉまたはＦｅの単体金属もし
くはそれらの元素を主成分とする合金、例えばＣｏ　−
　Ｎｕ，　Ｃｏ　−　Ｃｒ，　Ｃｏ　−　Ｐ　，　Ｇｏ
　−Ｎｉ−Ｐ合金などの強磁性金属や合金を，真空蒸着
、イオンプレーティング、スパッタリングまたは各種の
メッキ法などの手段によって形成された磁気記録層を有
するものである。

そして，磁気記録媒体としては、ポリエステルフィルム
、ポリイミドフィルムなどの合或樹脂フィルムを基体と
する磁気テープや磁気ディスクなど、連続式真空蒸着装
置に装填可能で、かつ磁気ヘッドと摺接する構造の種々
の形態を包含するものである。

〔実施例〕

以下に本発明の一実施例を挙げ、図面を参照しながらさ
らに詳細に説明する。

（実施例１） 第１図に示す構造の連続巻取式真空蒸着装置を用い、第
２図に示す断面構造の金属′ａＵＡ型磁気記録媒体を、
以下に示す手順によって作製した．厚さ３０μｍのポリ
イミド樹脂からなる基体フィルム１上に、Ｃｏ−２０ａ
ｔ％Ｃｒ合金よりなる強磁性金属薄膜（磁気記録層）１
５を０．２μｍの膜厚に成膜し、引き続き上記強磁性金
属薄膜１５上に、高周波電極１２によって高周波電力を
印加し、Ｂ蒸発源１０から蒸発されるＢ蒸気の一部をイ
オン化しながら、膜厚が０．０２μｍのＢを主威分とす
る保護膜ｌ６を形成させた．なお、蒸着時の真空度は２
，６Ｘ１０””Ｐａとなし、Ｃｏ−Ｃｒ合金の蒸着速度
は５０ｎｍ／ｓで、Ｂの蒸着速度は５ｎｍ／ｓであった
．このようにして作製した磁気記録媒体のＢ保護膜上に
通常用いられている潤滑剤を塗布し、５インチ径のフロ
ッピーデスクに打ち抜き、市販の５インチフロッピーデ
ィスク装置により耐久性（摺動強度）を評価した。

その結果を、第３図に示す。図において、縦軸は、５イ
ンチフロッピーディスクの再生電力が２ｄＢ減少するま
での摺動回数（回）を示し，横軸は、高周波電極に印加
した高周波電力（Ｗ）を示す。

図から明らかなごとく、印加する高周波電力の増加と共
にＢ蒸気中のイオン数が急激に増加し、形成されるＢの
保護膜が緻密になりフロッピーディスクの摺動強度（摺
動回数）が上昇することを示している． （実施例２） 実施例１に示す連続巻取式真空蒸着装置を用い４高周波
電極１２でＢの蒸気をイオン化する代わりに、イオン銃
１１によってＡｒイオンを照射して、Ｂの蒸気中にＡｒ
イオンを含有させた以外は、実施例ｌと同様にして５イ
ンチ径のフロッピーディスクを作製し、その耐久性（摺
動強度）を評価した。その結果を第４図に示す。縦軸は
、５インチフロッピーディスクの再生電力が２ｄＢ減少
するまでの摺動回数（回）を示し、横軸には回路中を流
れた電流（ｍＡ）値を示す。この回路電流はＡｒイオン
密度に比例するので、Ｂの蒸気中のＡｒイオンが増加す
ると急激にフロッピーディスクの摺動強度（摺動回数）
が上昇することを示している。

〔発明の効果〕

以上詳細に説明したごとく，本発明の８を主成分とする
保護膜を設けた磁気記録媒体は、Ｂの蒸着蒸気中に、Ｂ
または不活性ガスのイオンを含有させてＢ保護膜を形成
させるため、Ｂ蒸着粒子同志の結合力が極めて強く、緻
密な摺動強度が大きいＢ保護膜を形戊させることができ
るので、耐久性ならびに信頼性の高い金属薄膜型の磁気
記録媒体が得られる．

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例において用いたＢ保護膜を有す
る磁気記録媒体の製造装置の構造を示す模式図、第２図
は本発明の実施例において作製した磁気記録媒体の断面
構造を示す模式図、第３図は実施例１において作製した
磁気記録媒体の耐久性を示すグラフ、第４図は実施例２
において作製した磁気記録媒体の耐久性を示すグラフで
ある。 １・・・基体フィルム　　２・・・供給ロール３，４・
・・回転ドラム　５・・・巻取りロール６・・・中間口
ール　　　７，８・・・電子銃９・・・Ｇｏ−Ｃｒ蒸発
源 １０・・・Ｂ蒸発源　　　１１・・・イオン銃１２・・
・高周波電極　　１４・・・下地層１５・・・強磁性金
属薄膜 １６・・・Ｂを主成分とする保護膜 １７・・・潤滑剤層

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. １．非磁性基体上に、直接もしくは下地層を介して強磁
   性金属薄膜からなる磁気記録層を形成し、該磁気記録層
   上に、ボロン（Ｂ）を主成分とする保護膜を連続式真空
   蒸着手段により成膜して金属薄膜型の磁気記録媒体を製
   造する方法において、上記Ｂを主成分とする保護膜を形
   成させる蒸着蒸気中に、Ｂのイオンもしくは不活性ガス
   のイオンを含有させて上記保護膜を形成させることを特
   徴とする磁気記録媒体の製造方法。
2. ２．特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体の製造方
   法において、Ｂの蒸着蒸気中にＢのイオンもしくは不活
   性ガスのイオンを含有させる手段が、上記蒸着蒸気中に
   配置した電極に高周波電力を印加するか、もしくはイオ
   ン銃によって、上記蒸着蒸気中に不活性ガスのイオンを
   照射する方法によることを特徴とする磁気記録媒体の製
   造方法。