JPH0329249A - 集束イオンビーム装置 - Google Patents
集束イオンビーム装置Info
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- JPH0329249A JPH0329249A JP2153331A JP15333190A JPH0329249A JP H0329249 A JPH0329249 A JP H0329249A JP 2153331 A JP2153331 A JP 2153331A JP 15333190 A JP15333190 A JP 15333190A JP H0329249 A JPH0329249 A JP H0329249A
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- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims abstract description 11
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims 1
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- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
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Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体の製造装置などに用いる、イオン源と
レンズ系の軸芯合わせ機構を有する集束イオンビーム装
置に関する。
レンズ系の軸芯合わせ機構を有する集束イオンビーム装
置に関する。
本発明は、集束イオンビーム装置におけるイオン源とレ
ンズ系の軸芯合わセにおいて、イオン源の位置検出のた
めに、モニタリングアパーチャを設け、その信号を処理
して、イオン源を搭載したｘＹステージのモータを制御
することにより、イオン源とレンズ系の軸芯合わせをす
るようにした集束イオンビーム装置である。
ンズ系の軸芯合わセにおいて、イオン源の位置検出のた
めに、モニタリングアパーチャを設け、その信号を処理
して、イオン源を搭載したｘＹステージのモータを制御
することにより、イオン源とレンズ系の軸芯合わせをす
るようにした集束イオンビーム装置である。
従来のイオン源センター軸とイオンを集束させるための
レンズ系のセンター軸との位置合わせは次のように行っ
ていた。
レンズ系のセンター軸との位置合わせは次のように行っ
ていた。
第４図に示すように、真空槽２０内Φイオン源所定位置
に、マニュアルによりイオン源５をセソトし、真空槽２
０の槽内を排気して実際にイオン源５よりイオンを照射
する．発生した集束イオンは、各レンズ系２２及び走査
電極２３を通りサンプル２４に照射される．この際、途
中にイオン源位置を確認するためのモニタリングアパー
チャ２５が設置されているため、ここから検出されるイ
オン電流を、走査電極２３と同期させてＣＲＴ２６に画
像表示することにより、イオン源位置が確Ｌ２できる。
に、マニュアルによりイオン源５をセソトし、真空槽２
０の槽内を排気して実際にイオン源５よりイオンを照射
する．発生した集束イオンは、各レンズ系２２及び走査
電極２３を通りサンプル２４に照射される．この際、途
中にイオン源位置を確認するためのモニタリングアパー
チャ２５が設置されているため、ここから検出されるイ
オン電流を、走査電極２３と同期させてＣＲＴ２６に画
像表示することにより、イオン源位置が確Ｌ２できる。
これは、イオン源５が発射された集束イオンビームで、
走査電極２３により偏向されて、モニタリングアパーチ
ャ２５に照射された場合、イオン電流を検出し、モニタ
リングアパーチャ２５の穴部を通った時はイオン定流が
検出されないため、イオン２Ｉ！５とイオンレンズ等と
同軸に配置されているモニタリングアパーチャ２５との
相対位置がＣＲＴ２６に表示される。
走査電極２３により偏向されて、モニタリングアパーチ
ャ２５に照射された場合、イオン電流を検出し、モニタ
リングアパーチャ２５の穴部を通った時はイオン定流が
検出されないため、イオン２Ｉ！５とイオンレンズ等と
同軸に配置されているモニタリングアパーチャ２５との
相対位置がＣＲＴ２６に表示される。
以上のように検出されたイオンｆｊ５の位置ズレをイオ
ン源５を取付けている押ネジ２７を回し、イオン源５の
取付け位置を移動させ解消している。
ン源５を取付けている押ネジ２７を回し、イオン源５の
取付け位置を移動させ解消している。
Ｃ発明が解決しようとする課題〕
イオン源の位置精度はξクロン単位での精度が必要であ
るため、押ネジによる位置調整では試行錯誤的な作業に
なってしまい、位置合わせに長時間必要になっていた． 〔課題を解決するための手段〕 本発明は、上記問題点を解決するために、イオン源取付
位置をＣＲＴでモニターし、前記取付位置のズν量を確
認し、そのズレ量により外部よりイオン源を搭載したＸ
−Ｙステージを駆動させる駆動モータを駆動させる信号
を送り、Ｘ−Ｙステージを移動させてイオン源を正規位
置にする構成である。
るため、押ネジによる位置調整では試行錯誤的な作業に
なってしまい、位置合わせに長時間必要になっていた． 〔課題を解決するための手段〕 本発明は、上記問題点を解決するために、イオン源取付
位置をＣＲＴでモニターし、前記取付位置のズν量を確
認し、そのズレ量により外部よりイオン源を搭載したＸ
−Ｙステージを駆動させる駆動モータを駆動させる信号
を送り、Ｘ−Ｙステージを移動させてイオン源を正規位
置にする構成である。
Ｃ実施例〕
本発明を図面に基づいて説明する。
第２図のように架台６の上に、ヘースステージ３を乗せ
、又その上にＹ軸方向に移動するＹ−ステージ２．
Ｘ軸方向に移動するＸ−ステージ１とイオン源５を搭載
するためのイオン源ホルダー５ａを順次乗せる。又、ヘ
ースステージとＹ−ステージｌこは、Ｙ−ステージがＹ
軸に直線的に移動するように、一方にＹ方向に直線的な
溝と（図示せず）、他方にＹ方向に直線的なレール状の
突起（図示せず）が設けられている。同様に、Ｙ−ステ
ージ２とＸ−ステージ１の接面にも？ｎ２ａと突起１ａ
が設けられている。イオンａ５はイオン源ホルダー５ａ
とＸステージ１により固定されるものである。尚、イオ
ンａ５は真空中にあるため、架台６とＸ−ステージの間
、に金属製へローズ４を設け、真空を破らずにＸ−Ｙス
テージｌ， ２の駆動を可能番こしている。
、又その上にＹ軸方向に移動するＹ−ステージ２．
Ｘ軸方向に移動するＸ−ステージ１とイオン源５を搭載
するためのイオン源ホルダー５ａを順次乗せる。又、ヘ
ースステージとＹ−ステージｌこは、Ｙ−ステージがＹ
軸に直線的に移動するように、一方にＹ方向に直線的な
溝と（図示せず）、他方にＹ方向に直線的なレール状の
突起（図示せず）が設けられている。同様に、Ｙ−ステ
ージ２とＸ−ステージ１の接面にも？ｎ２ａと突起１ａ
が設けられている。イオンａ５はイオン源ホルダー５ａ
とＸステージ１により固定されるものである。尚、イオ
ンａ５は真空中にあるため、架台６とＸ−ステージの間
、に金属製へローズ４を設け、真空を破らずにＸ−Ｙス
テージｌ， ２の駆動を可能番こしている。
第１図において、Ｘ−ステージｌをＸ方向に駆動させる
ために、Ｘ−ステージに取付けてある不ジブロノク７と
係合させてネジ８を設け、ネジ８の不ジ軸部８ａを摩Ｉ
Ｉ！ 抵抗を小さく軸支するためにヘアリング９により
軸受けされている。
ために、Ｘ−ステージに取付けてある不ジブロノク７と
係合させてネジ８を設け、ネジ８の不ジ軸部８ａを摩Ｉ
Ｉ！ 抵抗を小さく軸支するためにヘアリング９により
軸受けされている。
モータ１ｌは、不ジ軸部８ａとユニハーサルジョイント
ｌＯを介して結合している。ユニバーサルジョイント１
０は、ネジ８を無理なく回転させるために設けられてい
る。尚、ネジ８とネジブロノク７等に生しるバノクラソ
シュを解消するために、本体ｌ２の一部にバネプロソク
ｌ３を取付け、バネブロックｌ３と、Ｘ−ステージ１の
間に押ハ不ｌ４を介し、常時Ｘ−ステージｌをＡ方向に
圧力をかけている．同様にＹ−ステージ２にも同様な装
置（図示せず）がイオンａ５をＹ一方向に移動させるた
めに設けられている。
ｌＯを介して結合している。ユニバーサルジョイント１
０は、ネジ８を無理なく回転させるために設けられてい
る。尚、ネジ８とネジブロノク７等に生しるバノクラソ
シュを解消するために、本体ｌ２の一部にバネプロソク
ｌ３を取付け、バネブロックｌ３と、Ｘ−ステージ１の
間に押ハ不ｌ４を介し、常時Ｘ−ステージｌをＡ方向に
圧力をかけている．同様にＹ−ステージ２にも同様な装
置（図示せず）がイオンａ５をＹ一方向に移動させるた
めに設けられている。
次に、本発明の動作について第３図を含めて説明する。
イオン＃５とイオンレンズ系との相対位置を第４図の従
来例と同化にモニタリングアパーチャを流れる電流をＣ
ＲＴにより画像表示し、その画像により視覚的に又はコ
ンピュータ計算により相対位置のズレ量を検出し、その
ズレ量に基づき外部コンピュータのキーボード又は自動
的にモータ駆動信号を入力し、第１図のモーク１ｌを駆
動する．モークｌ１の回転により、ネジプロノク７はネ
ジ８に対して、脱方向あるいは挿入方向に移動しＸ−ス
テージ及びＹ−ステージが移動をする。
来例と同化にモニタリングアパーチャを流れる電流をＣ
ＲＴにより画像表示し、その画像により視覚的に又はコ
ンピュータ計算により相対位置のズレ量を検出し、その
ズレ量に基づき外部コンピュータのキーボード又は自動
的にモータ駆動信号を入力し、第１図のモーク１ｌを駆
動する．モークｌ１の回転により、ネジプロノク７はネ
ジ８に対して、脱方向あるいは挿入方向に移動しＸ−ス
テージ及びＹ−ステージが移動をする。
よってイオン源５のイオンレンズ系との相対位置は調整
されるものである。
されるものである。
〔発明の効果〕
イオン源を外部キーボード等による信号により駆動する
駆動モークを取付けたＸ−Ｙステージに配置されている
ため、視覚センサーにより確認されるイオン源位置のズ
レを正確に、且つ迅速に位置調整ができるため、位置調
整が効果的になった．
駆動モークを取付けたＸ−Ｙステージに配置されている
ため、視覚センサーにより確認されるイオン源位置のズ
レを正確に、且つ迅速に位置調整ができるため、位置調
整が効果的になった．
第１図は本発明の主要平面図、第２図は本発明の主要縦
断面図、第３図は本発明の作υ』ブロソク図、第４図は
従来例の断面図である。 １ ・ ・ ｌａ． ２ ・ ・ ２ ａ ・ ３ ・ ・ ４ ・ ・ ５ ・ ・ ５ ａ ・ ６ ・ ・ ７ ・ ・ ８ ・ ・ ９ ・ ・ １０・ ・ ・Ｘ−ステージ Ｘ−ステージ凸起 ・Ｙ−ステージ ・Ｙ−ステージ溝 ・ベースステージ ・ベローズ ・イオン源 ・イオン源ホルダー ・架台 ・ネジプロソク ・ネジ ・ベアリング ・ユニバーサルジツイント １】 ・ ・ ｌ２・ ・ ｌ３・ ・ １４′・ ・ ２０ ２２・ ・ ２３・ ・ ２４・ ・ ２５・ ・ ２６・ ２７・ モータ ・本体 ・ハネブロノク １甲しバ不 ・真空槽 ・レンズ系 走査電極 サンプル ・モニタリングアパーチャ ＣＲＴ ・押エネジ
断面図、第３図は本発明の作υ』ブロソク図、第４図は
従来例の断面図である。 １ ・ ・ ｌａ． ２ ・ ・ ２ ａ ・ ３ ・ ・ ４ ・ ・ ５ ・ ・ ５ ａ ・ ６ ・ ・ ７ ・ ・ ８ ・ ・ ９ ・ ・ １０・ ・ ・Ｘ−ステージ Ｘ−ステージ凸起 ・Ｙ−ステージ ・Ｙ−ステージ溝 ・ベースステージ ・ベローズ ・イオン源 ・イオン源ホルダー ・架台 ・ネジプロソク ・ネジ ・ベアリング ・ユニバーサルジツイント １】 ・ ・ ｌ２・ ・ ｌ３・ ・ １４′・ ・ ２０ ２２・ ・ ２３・ ・ ２４・ ・ ２５・ ・ ２６・ ２７・ モータ ・本体 ・ハネブロノク １甲しバ不 ・真空槽 ・レンズ系 走査電極 サンプル ・モニタリングアパーチャ ＣＲＴ ・押エネジ
Claims (1)
- イオン源と引き出し電極、そしてレンズ系で構成された
集束イオンビーム装置において、イオン源を搭載したＸ
Ｙステージと、前記ＸＹステージを駆動させる駆動用モ
ータと、前記イオン源の位置を検出するためのモニタリ
ングアパーチャと、前記モニタリングアパーチャより得
られた信号を画像表示するＴＶモニタと、前記駆動用モ
ータを操作する制御装置から成るイオン源とレンズ系の
軸芯合わせ機構を有することを特徴とする集束イオンビ
ーム装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2153331A JPH0329249A (ja) | 1990-06-12 | 1990-06-12 | 集束イオンビーム装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2153331A JPH0329249A (ja) | 1990-06-12 | 1990-06-12 | 集束イオンビーム装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0329249A true JPH0329249A (ja) | 1991-02-07 |
Family
ID=15560155
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2153331A Pending JPH0329249A (ja) | 1990-06-12 | 1990-06-12 | 集束イオンビーム装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0329249A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005138216A (ja) * | 2003-11-06 | 2005-06-02 | Tsudakoma Corp | インデックステーブル |
| WO2019167165A1 (ja) * | 2018-02-28 | 2019-09-06 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | イオンミリング装置及びイオンミリング装置のイオン源調整方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4849376A (ja) * | 1971-10-22 | 1973-07-12 | ||
| JPS6188437A (ja) * | 1984-10-08 | 1986-05-06 | Hitachi Ltd | 液体金属イオン源 |
-
1990
- 1990-06-12 JP JP2153331A patent/JPH0329249A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4849376A (ja) * | 1971-10-22 | 1973-07-12 | ||
| JPS6188437A (ja) * | 1984-10-08 | 1986-05-06 | Hitachi Ltd | 液体金属イオン源 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005138216A (ja) * | 2003-11-06 | 2005-06-02 | Tsudakoma Corp | インデックステーブル |
| WO2019167165A1 (ja) * | 2018-02-28 | 2019-09-06 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | イオンミリング装置及びイオンミリング装置のイオン源調整方法 |
| JPWO2019167165A1 (ja) * | 2018-02-28 | 2021-02-04 | 株式会社日立ハイテク | イオンミリング装置及びイオンミリング装置のイオン源調整方法 |
| US11244802B2 (en) | 2018-02-28 | 2022-02-08 | Hitachi High-Tech Corporation | Ion milling device and ion source adjusting method for ion milling device |
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