JPH03294497A - 小孔内の表面処理方法 - Google Patents
小孔内の表面処理方法Info
- Publication number
- JPH03294497A JPH03294497A JP9699190A JP9699190A JPH03294497A JP H03294497 A JPH03294497 A JP H03294497A JP 9699190 A JP9699190 A JP 9699190A JP 9699190 A JP9699190 A JP 9699190A JP H03294497 A JPH03294497 A JP H03294497A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- surface treatment
- printed circuit
- plating
- circuit board
- stirring member
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 title claims description 21
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 35
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 13
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 36
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 9
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 8
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 4
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 3
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 2
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 238000001994 activation Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- FFBHFFJDDLITSX-UHFFFAOYSA-N benzyl N-[2-hydroxy-4-(3-oxomorpholin-4-yl)phenyl]carbamate Chemical compound OC1=C(NC(=O)OCC2=CC=CC=C2)C=CC(=C1)N1CCOCC1=O FFBHFFJDDLITSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Chemically Coating (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、板状の被めっき物の小孔内、特にプリント基
板のスルホール内を表面処理する方法に関する。
板のスルホール内を表面処理する方法に関する。
〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕従来、
プリント基板のスルホール内をめっきする場合、カソー
ドロンキング方式によりプリント基板自体を往復動させ
てスルホール内の空気を排除し、スルホール内へのめっ
き液の流通を高めてめっきすることが行なわれている。
プリント基板のスルホール内をめっきする場合、カソー
ドロンキング方式によりプリント基板自体を往復動させ
てスルホール内の空気を排除し、スルホール内へのめっ
き液の流通を高めてめっきすることが行なわれている。
しかし、最近においてはプリント基板も益々多層化され
てその厚さも増大し、またスルホール径も小さなものに
なっているが、基板の厚みが大きく、スルホール径が小
さい場合、特に基板の厚みが1.6m以上で、スルホー
ル径が1.5圃以下或いはアスペクト比(基板厚さ/ス
ルホール径)が4以上の場合、上述したプリント基板を
往復動させるというめっき方法では、スルホール内の空
気排除、めっき液の流通が十分に行なわれず、スルホー
ル内が良好にめっきされないという問題が生じてきてい
る。
てその厚さも増大し、またスルホール径も小さなものに
なっているが、基板の厚みが大きく、スルホール径が小
さい場合、特に基板の厚みが1.6m以上で、スルホー
ル径が1.5圃以下或いはアスペクト比(基板厚さ/ス
ルホール径)が4以上の場合、上述したプリント基板を
往復動させるというめっき方法では、スルホール内の空
気排除、めっき液の流通が十分に行なわれず、スルホー
ル内が良好にめっきされないという問題が生じてきてい
る。
一方、プリント基板のスルホールめっき方法として、特
公昭61−46559号公報には、電気めっき液が収容
された電気めっき槽内に陽極と板状の被めっき物を吊下
し、陽極と被めっき物との間に所用の電圧を印加して被
めっき物の被めっき面を電気めっきするに際し、複数枚
の羽根板を互に10〜200mの間隔でかつ被めっき物
の被めっき面と10〜200m離間させて陽極と被めっ
き物との間に羽根板面が水平又は垂直になるようにかつ
被めっき物の被めっき面に対し直角方向に沿って配置し
、これら羽根板を前記波めっき物の被めっき面と平行に
しかも被めっき物の被めっき面との前記離間距離を維持
した状態において、1〜20サイクル/秒の速度でかつ
互に隣り合う羽根板間の間隔と同じ距離の振幅で往復振
動させて、羽根板配置位置付近のめっき液を羽根板の往
復動方向にそって流動撹拌させながら電気めっきを行な
うようにしたことを特徴とする高速めつき方法が提案さ
れている。
公昭61−46559号公報には、電気めっき液が収容
された電気めっき槽内に陽極と板状の被めっき物を吊下
し、陽極と被めっき物との間に所用の電圧を印加して被
めっき物の被めっき面を電気めっきするに際し、複数枚
の羽根板を互に10〜200mの間隔でかつ被めっき物
の被めっき面と10〜200m離間させて陽極と被めっ
き物との間に羽根板面が水平又は垂直になるようにかつ
被めっき物の被めっき面に対し直角方向に沿って配置し
、これら羽根板を前記波めっき物の被めっき面と平行に
しかも被めっき物の被めっき面との前記離間距離を維持
した状態において、1〜20サイクル/秒の速度でかつ
互に隣り合う羽根板間の間隔と同じ距離の振幅で往復振
動させて、羽根板配置位置付近のめっき液を羽根板の往
復動方向にそって流動撹拌させながら電気めっきを行な
うようにしたことを特徴とする高速めつき方法が提案さ
れている。
しかし、この方法は主に高速めつきを目的とするもので
あり、この方法を採用しても、上記したようなプリント
基板の厚みが大きく、スルホール径が小さい場合は、同
様にスルホール内の空気排除、めっき液の流通が十分で
なく、良好なスルホールめっきが行なわれないものであ
る。
あり、この方法を採用しても、上記したようなプリント
基板の厚みが大きく、スルホール径が小さい場合は、同
様にスルホール内の空気排除、めっき液の流通が十分で
なく、良好なスルホールめっきが行なわれないものであ
る。
本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、厚みが大で
、スルホール径の小さいプリント基板、特に厚みが1.
6mm以上で、直径が1.5m+以下、或いはアスペク
ト比が4以上のスルホールを有するプリント基板のスル
ホール内を確実に表面処理することができ、このためプ
リント基板のスルホールめっきに有効に採用される小孔
内の表面処理方法を提供することを目的とする。
、スルホール径の小さいプリント基板、特に厚みが1.
6mm以上で、直径が1.5m+以下、或いはアスペク
ト比が4以上のスルホールを有するプリント基板のスル
ホール内を確実に表面処理することができ、このためプ
リント基板のスルホールめっきに有効に採用される小孔
内の表面処理方法を提供することを目的とする。
本発明は上記目的を達成するため、小孔を有する被処理
物を表面処理液中に浸漬すると共に、該被処理物の側方
に羽根板を支持体に揺動可能に枢支した撹拌部材を配設
し、該撹拌部材を上記被処理物面に対して平行に1〜3
0サイクル/分の速度で往復動させると共に、この往復
動により上記羽根板に表面処理液による抵抗を与えて羽
根板を揺動させ、これによって表面処理液を撹拌して上
記被処理物の小孔内に表面処理液を流通させることによ
り、小孔内の表面処理を行なうようにしたものである。
物を表面処理液中に浸漬すると共に、該被処理物の側方
に羽根板を支持体に揺動可能に枢支した撹拌部材を配設
し、該撹拌部材を上記被処理物面に対して平行に1〜3
0サイクル/分の速度で往復動させると共に、この往復
動により上記羽根板に表面処理液による抵抗を与えて羽
根板を揺動させ、これによって表面処理液を撹拌して上
記被処理物の小孔内に表面処理液を流通させることによ
り、小孔内の表面処理を行なうようにしたものである。
本発明は特にプリント基板のスルホール内の表面処理に
好適に採用されるが、本発明によれば、上記のように構
成したことにより、スルホール内の表面処理液の流通性
が高まり、スルホール内の空気排除も確実に行なわれる
ため、無電解めっきや電気めっきに際しては勿論、無電
解めっき前の脱脂、活性化処理等の全ての前処理に際し
ても有効に採用される。従って、表面処理液の種類は特
に°制限されない。
好適に採用されるが、本発明によれば、上記のように構
成したことにより、スルホール内の表面処理液の流通性
が高まり、スルホール内の空気排除も確実に行なわれる
ため、無電解めっきや電気めっきに際しては勿論、無電
解めっき前の脱脂、活性化処理等の全ての前処理に際し
ても有効に採用される。従って、表面処理液の種類は特
に°制限されない。
また、撹拌部材は羽根板が支持体に揺動可能に枢支され
、支持体の往復動により表面処理液からの抵抗で揺動し
得るように構成され、これによって表面処理液を撹拌し
得るものであるが、この場合羽根板の巾Wは通常10〜
300nn、特に20〜200m1とすることができる
。なお、長さしは被処理物の大きさ等により適宜選定さ
れる。また、羽根板は通常支持体に複数個取り付けられ
るが、羽根板間の間隔は20〜300m++、特に20
〜200inとすることができる。更に、羽根板は上述
したようにめっき液からの抵抗により揺動乃至は回動さ
れるものであるが、揺動乃至回動角度θは30〜120
°程度とすることが好ましい。
、支持体の往復動により表面処理液からの抵抗で揺動し
得るように構成され、これによって表面処理液を撹拌し
得るものであるが、この場合羽根板の巾Wは通常10〜
300nn、特に20〜200m1とすることができる
。なお、長さしは被処理物の大きさ等により適宜選定さ
れる。また、羽根板は通常支持体に複数個取り付けられ
るが、羽根板間の間隔は20〜300m++、特に20
〜200inとすることができる。更に、羽根板は上述
したようにめっき液からの抵抗により揺動乃至は回動さ
れるものであるが、揺動乃至回動角度θは30〜120
°程度とすることが好ましい。
撹拌部材は1〜30サイクル/分、好ましくは1〜20
サイクル/分の速度で往復動せしめられるものであるが
、この場合往復動距離(一方の移動限位置と他方の移動
限位置との距離)は10〜500in、特に30〜20
0mとすることができる。
サイクル/分の速度で往復動せしめられるものであるが
、この場合往復動距離(一方の移動限位置と他方の移動
限位置との距離)は10〜500in、特に30〜20
0mとすることができる。
なお、撹拌部材は被処理物面に平行に往復動せしめられ
るが、往復動方向は上下方向であっても左右方向(横方
向)であってもよい。またこの際、羽根板先端と被めっ
き物面との最短間隔D(羽根板が被めっき物面に対して
垂直方向にある場合の間隔)は10〜200III11
、特に20〜100inとすることができる。
るが、往復動方向は上下方向であっても左右方向(横方
向)であってもよい。またこの際、羽根板先端と被めっ
き物面との最短間隔D(羽根板が被めっき物面に対して
垂直方向にある場合の間隔)は10〜200III11
、特に20〜100inとすることができる。
本発明の表面処理方法は、支持体に羽根板を揺動可能に
枢支した撹拌部材を1〜30サイクル/分の速度で往復
動させることにより、羽根板に表面処理液の抵抗を与え
て揺動させ、これによって表面処理液を撹拌するように
したものである。かかる撹拌は比較的縁やかなものであ
るが、このような撹拌による液流動により、実施例に示
すようにプリント基板のスルホールめっきを行なう場合
、プリント基板の厚さが1.6Wn以上、スルホール径
が1.5m+以下、或いはアスペクト比が4以上のスル
ホール内の空気の排除、スルホール内への表面処理液の
流通が良好に行なわれ、例えばプリント基板のスルホー
ル内の無電解めっきの場合であれば各孔内に確実にめっ
き析出を与え、電気めっきの場合であれば基板表面のめ
っき膜厚とスルホール内のめっき膜厚との差が少なくな
り、均一電着性が顕著に向上するものである。
枢支した撹拌部材を1〜30サイクル/分の速度で往復
動させることにより、羽根板に表面処理液の抵抗を与え
て揺動させ、これによって表面処理液を撹拌するように
したものである。かかる撹拌は比較的縁やかなものであ
るが、このような撹拌による液流動により、実施例に示
すようにプリント基板のスルホールめっきを行なう場合
、プリント基板の厚さが1.6Wn以上、スルホール径
が1.5m+以下、或いはアスペクト比が4以上のスル
ホール内の空気の排除、スルホール内への表面処理液の
流通が良好に行なわれ、例えばプリント基板のスルホー
ル内の無電解めっきの場合であれば各孔内に確実にめっ
き析出を与え、電気めっきの場合であれば基板表面のめ
っき膜厚とスルホール内のめっき膜厚との差が少なくな
り、均一電着性が顕著に向上するものである。
以下、実施例により本発明を具体的に示すが、本発明は
下記の実施例に制限されるものではない。
下記の実施例に制限されるものではない。
〔実施例1〕
第1図及び第2図はこの実施例に用いた撹拌部材1を示
すもので、この撹拌部材1は、互に所定間隔離間して配
置された2本の杆状支持体2,2間に複数の羽根板3を
所定間隔離間して配設してなるものである。この場合、
羽根板3の両端面一側部にはそれぞれピン4,4が突設
され、該ピン4.4が上記支持体2,2に穿設された孔
5,5内に回動可能に挿入されることにより、羽根板3
が支持体2,2に回動可能(揺動可能)に枢支されてい
る。また、上記支持体2,2間には、羽根板3の上下に
これと所定間隔離間して棒状のストッパー6.6がそれ
ぞれ横架され、羽根板3が水平方向に対しそれぞれ45
°以上回動することを係止している。
すもので、この撹拌部材1は、互に所定間隔離間して配
置された2本の杆状支持体2,2間に複数の羽根板3を
所定間隔離間して配設してなるものである。この場合、
羽根板3の両端面一側部にはそれぞれピン4,4が突設
され、該ピン4.4が上記支持体2,2に穿設された孔
5,5内に回動可能に挿入されることにより、羽根板3
が支持体2,2に回動可能(揺動可能)に枢支されてい
る。また、上記支持体2,2間には、羽根板3の上下に
これと所定間隔離間して棒状のストッパー6.6がそれ
ぞれ横架され、羽根板3が水平方向に対しそれぞれ45
°以上回動することを係止している。
第3図は上記撹拌部材1を用いてプリント基板のスルホ
ール内を無電解銅めっきする場合の態様を示すもので、
処理タンク7内の無電解銅めっき液8にラック9に支持
したプリント基板10を浸漬すると共に、ラック9の上
端部をラック吊下げ具11に引掛は固定し、ラック9の
下端部をラック固定費12の上端凹部13内に挿入固定
することにより、プリント基板10をめっき液8中に固
定する。一方、このプリント基板10の一側方に上記撹
拌部材1を所定間隔を存して配置する。この場合、撹拌
部材lの上端部は撹拌部材上下駆動装置(図示せず)に
連結され、撹拌部材1が上下往復動するようになってい
る。
ール内を無電解銅めっきする場合の態様を示すもので、
処理タンク7内の無電解銅めっき液8にラック9に支持
したプリント基板10を浸漬すると共に、ラック9の上
端部をラック吊下げ具11に引掛は固定し、ラック9の
下端部をラック固定費12の上端凹部13内に挿入固定
することにより、プリント基板10をめっき液8中に固
定する。一方、このプリント基板10の一側方に上記撹
拌部材1を所定間隔を存して配置する。この場合、撹拌
部材lの上端部は撹拌部材上下駆動装置(図示せず)に
連結され、撹拌部材1が上下往復動するようになってい
る。
上記のようにプリント基板10と撹拌部材1とを配設し
、駆動装置を駆動すると、撹拌部材1が上下往復動を繰
り返すが、撹拌部材1の下降時において、羽根板3がめ
つき液8からの抵抗により上向きに回動し、撹拌部材1
の上昇時において、羽根板3が下向きに回動し、羽根板
3がこのように揺動を繰り返すと共に、この揺動によっ
てめっき液8が撹拌され、かかる撹拌下にプリント基板
10のスルホールが無電解銅めっきされるものである。
、駆動装置を駆動すると、撹拌部材1が上下往復動を繰
り返すが、撹拌部材1の下降時において、羽根板3がめ
つき液8からの抵抗により上向きに回動し、撹拌部材1
の上昇時において、羽根板3が下向きに回動し、羽根板
3がこのように揺動を繰り返すと共に、この揺動によっ
てめっき液8が撹拌され、かかる撹拌下にプリント基板
10のスルホールが無電解銅めっきされるものである。
而して、上述した態様において、下記の条件においてプ
リント基板のスルホールめっきを行なった。
リント基板のスルホールめっきを行なった。
羽」1わ1作
羽根板の幅W : 100mn+
Hの長さL:
00mn
++ の個数 :
5個
間隔I : 100鵬
上下動距離 : ±50m(合計100+nm)n
速度 : 10サイクル/分 プリント基板 ガラスエポキシ基板(縦300 no x横250m×
厚さ3.2+m+) スルホール径 :0.3mm(個数500)無電解銅め
っき工程 1、クリーニング・コンディショニング2、水洗 3、ソフトエツチング 4、水洗 5、酸洗 6、水洗 7、プレディビング 8、アクチベーテイング 9.水洗 10、アクセレレーテイング 11、水洗 12、無電解銅めっき スルカップELC−8P (上材工業社製)比較のため
、上記撹拌部材を使用せず、その代わりにプリント基板
を前後方向に±15■(合計30m)の距離で15サイ
クル/分の速度番こお塾)て揺動させる従来のロッキン
グ法を採用した以外は上記と同様にしてスルホールめつ
きを行なった。
速度 : 10サイクル/分 プリント基板 ガラスエポキシ基板(縦300 no x横250m×
厚さ3.2+m+) スルホール径 :0.3mm(個数500)無電解銅め
っき工程 1、クリーニング・コンディショニング2、水洗 3、ソフトエツチング 4、水洗 5、酸洗 6、水洗 7、プレディビング 8、アクチベーテイング 9.水洗 10、アクセレレーテイング 11、水洗 12、無電解銅めっき スルカップELC−8P (上材工業社製)比較のため
、上記撹拌部材を使用せず、その代わりにプリント基板
を前後方向に±15■(合計30m)の距離で15サイ
クル/分の速度番こお塾)て揺動させる従来のロッキン
グ法を採用した以外は上記と同様にしてスルホールめつ
きを行なった。
次に、上記実施例と比較例によりスルホールめっきを行
なった後、各スルホール抵抗値測定を行ない、無めつき
スルホール数(抵抗値1Ω以上)を調べた。結果を第1
表に示す。
なった後、各スルホール抵抗値測定を行ない、無めつき
スルホール数(抵抗値1Ω以上)を調べた。結果を第1
表に示す。
第
表
〔実施例2〕
第4図に示したように、羽根板3をその両端面中央部で
支持体2,2に回動可能に枢支すると共に、羽根板3が
上下にそれぞれ30°以上回動しないように係止させた
以外は実施例1と同様の撹拌部材1を使用し、プリント
基板10の両側方にそれぞれ撹拌部材1,1を配し、こ
れら両撹拌部材1,1の羽根板条件及び上下動条件、プ
リント基板、無電解銅めっき工程を実施例1と同様にし
てスルホールめっきを行なった。なお、両撹拌部材は互
いに同時に上下動させた。
支持体2,2に回動可能に枢支すると共に、羽根板3が
上下にそれぞれ30°以上回動しないように係止させた
以外は実施例1と同様の撹拌部材1を使用し、プリント
基板10の両側方にそれぞれ撹拌部材1,1を配し、こ
れら両撹拌部材1,1の羽根板条件及び上下動条件、プ
リント基板、無電解銅めっき工程を実施例1と同様にし
てスルホールめっきを行なった。なお、両撹拌部材は互
いに同時に上下動させた。
その場合のスルホール抵抗値の測定結果は第2表の通り
である。
である。
第 2 表
〔実施例3.4〕
第5図に示したように、実施例2と同様の撹拌部材1,
1をそれぞれプリント基板10の両側方にそれぞれ配し
、実施例2で無電解銅めっきが施こされたプリント基板
に対し、下記条件で電気めっきを行なった(実施例3)
。なお、図中14は陽極板(銅板)である。
1をそれぞれプリント基板10の両側方にそれぞれ配し
、実施例2で無電解銅めっきが施こされたプリント基板
に対し、下記条件で電気めっきを行なった(実施例3)
。なお、図中14は陽極板(銅板)である。
里檄叛灸作
実施例2と同様
の上
上下動距離 : ±50+m+(合計100wm)〃
速度 = 5サイクル/分 電 めっき(硫酸銅めっき)浴組成及びめっき条件Cu
SO4・5H2060g/Q H2So、 200 uCQ−
60■/Q 添加剤 適 量 電流密度 2A/dポ めっき時間 84分 温度 25℃ また、上記撹拌部材の上下動速度を12サイクル/分と
した以外は上記と同様にしてスルホールめっきを行なっ
た(実施例4)。
速度 = 5サイクル/分 電 めっき(硫酸銅めっき)浴組成及びめっき条件Cu
SO4・5H2060g/Q H2So、 200 uCQ−
60■/Q 添加剤 適 量 電流密度 2A/dポ めっき時間 84分 温度 25℃ また、上記撹拌部材の上下動速度を12サイクル/分と
した以外は上記と同様にしてスルホールめっきを行なっ
た(実施例4)。
比較のため、上記撹拌部材を使用せず、その代わりにプ
リント基板を前後方向に±15 mn−(合計30画)
の距離で15サイクル/分の速度において揺動させる従
来のロッキング法を採用した以外は上記と同様にしてス
ルホールめっきを行なった。
リント基板を前後方向に±15 mn−(合計30画)
の距離で15サイクル/分の速度において揺動させる従
来のロッキング法を採用した以外は上記と同様にしてス
ルホールめっきを行なった。
次に、スルホール内のめっき膜厚(1)とプリント基板
表面のめっき膜厚(T)とをそれぞれ測定し、下記式か
ら均一電着性を求めた。その結果を第3表に示す。
表面のめっき膜厚(T)とをそれぞれ測定し、下記式か
ら均一電着性を求めた。その結果を第3表に示す。
均一電着性(%)=t/TxlOO
第
3
表
1・・・撹拌部材
3・・・羽根板
5・・・孔
1o・・・プリント基板
2・・・支持体
4・・・ピ ン
6・・・ストッパー
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明によれば、小孔、特にプリ
ント基板のスルホールからの空気排除、液流通を与え、
良好な表面処理(脱脂、活性化等の前処理、無電解めっ
き、電気めっきなど)を行なうことができる。
ント基板のスルホールからの空気排除、液流通を与え、
良好な表面処理(脱脂、活性化等の前処理、無電解めっ
き、電気めっきなど)を行なうことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施に用いる撹拌部材の一例を示す一
部省略分解斜視図、第2図は同例の一部省略断面図、第
3図は同例を用いてプリント基板のスルホールめっきを
行なう場合の態様を示す断面図、第4図及び第5図はそ
れぞれ別の撹拌部材に用いてプリント基板のスルホール
めっきを行なう場合の態様を示す断面図である。
部省略分解斜視図、第2図は同例の一部省略断面図、第
3図は同例を用いてプリント基板のスルホールめっきを
行なう場合の態様を示す断面図、第4図及び第5図はそ
れぞれ別の撹拌部材に用いてプリント基板のスルホール
めっきを行なう場合の態様を示す断面図である。
Claims (1)
- 1.小孔を有する被処理物を表面処理液中に浸漬すると
共に、該被処理物の側方に羽根板を支持体に揺動可能に
枢支した撹拌部材を配設し、該撹拌部材を上記被処理物
面に対して平行に1〜30サイクル/分の速度で往復動
させると共に、この往復動により上記羽根板に表面処理
液による抵抗を与えて羽根板を揺動させ、これによって
表面処理液を撹拌して上記被処理物の小孔内に表面処理
液を流通させることを特徴とする小孔内の表面処理方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9699190A JPH03294497A (ja) | 1990-04-12 | 1990-04-12 | 小孔内の表面処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9699190A JPH03294497A (ja) | 1990-04-12 | 1990-04-12 | 小孔内の表面処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03294497A true JPH03294497A (ja) | 1991-12-25 |
Family
ID=14179672
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9699190A Pending JPH03294497A (ja) | 1990-04-12 | 1990-04-12 | 小孔内の表面処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03294497A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06220697A (ja) * | 1992-12-28 | 1994-08-09 | Nippon Techno Kk | めっき方法 |
| US6261435B1 (en) | 1997-10-21 | 2001-07-17 | Nihon Techno Kabushiki Kaisha | Plating method |
| JP2008266670A (ja) * | 2007-04-16 | 2008-11-06 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 電気めっき装置 |
| JP2014129603A (ja) * | 2012-12-31 | 2014-07-10 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | プリント基板用メッキ装置 |
| JP2019081932A (ja) * | 2017-10-31 | 2019-05-30 | 株式会社荏原製作所 | めっき装置及びめっき方法 |
| KR20190104882A (ko) * | 2018-03-01 | 2019-09-11 | 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 | 도금액을 교반하기 위해 이용하는 패들 및 패들을 구비하는 도금 장치 |
| CN110629263A (zh) * | 2019-11-11 | 2019-12-31 | 生益电子股份有限公司 | 一种pcb电镀装置 |
| CN110629264A (zh) * | 2019-11-11 | 2019-12-31 | 生益电子股份有限公司 | 一种pcb电镀装置 |
-
1990
- 1990-04-12 JP JP9699190A patent/JPH03294497A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06220697A (ja) * | 1992-12-28 | 1994-08-09 | Nippon Techno Kk | めっき方法 |
| US6261435B1 (en) | 1997-10-21 | 2001-07-17 | Nihon Techno Kabushiki Kaisha | Plating method |
| JP2008266670A (ja) * | 2007-04-16 | 2008-11-06 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 電気めっき装置 |
| JP2014129603A (ja) * | 2012-12-31 | 2014-07-10 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | プリント基板用メッキ装置 |
| JP2019081932A (ja) * | 2017-10-31 | 2019-05-30 | 株式会社荏原製作所 | めっき装置及びめっき方法 |
| KR20190104882A (ko) * | 2018-03-01 | 2019-09-11 | 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 | 도금액을 교반하기 위해 이용하는 패들 및 패들을 구비하는 도금 장치 |
| JP2019151874A (ja) * | 2018-03-01 | 2019-09-12 | 株式会社荏原製作所 | めっき液を撹拌するために用いるパドルおよびパドルを備えるめっき装置 |
| CN110629263A (zh) * | 2019-11-11 | 2019-12-31 | 生益电子股份有限公司 | 一种pcb电镀装置 |
| CN110629264A (zh) * | 2019-11-11 | 2019-12-31 | 生益电子股份有限公司 | 一种pcb电镀装置 |
| CN110629263B (zh) * | 2019-11-11 | 2021-08-27 | 生益电子股份有限公司 | 一种pcb电镀装置 |
| CN110629264B (zh) * | 2019-11-11 | 2021-09-24 | 生益电子股份有限公司 | 一种pcb电镀装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI838612B (zh) | 槳葉、具備該槳葉的處理裝置、及該槳葉的製造方法 | |
| US8329006B2 (en) | Electroplating cell with hydrodynamics facilitating more uniform deposition across a workpiece during plating | |
| KR100296780B1 (ko) | 도금방법및도금장치 | |
| US20140120245A1 (en) | Plating method | |
| JP2009299195A (ja) | 金属層の電解析出のための方法 | |
| JPH0544075A (ja) | 無電解銅めつき代替銅ストライクめつき方法 | |
| KR101506910B1 (ko) | 이방성 도금 방법 및 박막 코일 | |
| JPH03294497A (ja) | 小孔内の表面処理方法 | |
| US5167779A (en) | Process and apparatus for electrolyte exchange | |
| JP2017031438A (ja) | サクションめっき装置 | |
| US20070215457A1 (en) | Apparatus for electroplating an article | |
| US3878062A (en) | Electroplating apparatus and method | |
| JP4826756B2 (ja) | 電気めっき方法 | |
| CN102031507A (zh) | 用于承载多个板件的挂篮及板件处理的方法 | |
| CN112030204B (zh) | 一种通孔电镀填平方法及印制电路板的制备方法 | |
| JP2006041172A (ja) | スルーホールを有するプリント配線板のメッキ方法およびメッキ装置 | |
| JPS6146559B2 (ja) | ||
| US4692222A (en) | Electroplating method and apparatus for electroplating high aspect ratio thru-holes | |
| CN216074085U (zh) | 扇出型面板级封装电镀的电镀设备构造 | |
| US3753889A (en) | Vibratory apparatus | |
| US4726884A (en) | Method of high speed plating | |
| JPH0354887A (ja) | プリント基板の微小孔処理方法及びその装置 | |
| CN210886305U (zh) | 一种挂具摆动装置 | |
| JP3648620B2 (ja) | せん孔針のめっき方法及びその装置 | |
| JP3979907B2 (ja) | プリント基板の電気メッキにおける揺動方法 |