JPH0330132A - 読み出し専用光ディスク - Google Patents
読み出し専用光ディスクInfo
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- JPH0330132A JPH0330132A JP1166079A JP16607989A JPH0330132A JP H0330132 A JPH0330132 A JP H0330132A JP 1166079 A JP1166079 A JP 1166079A JP 16607989 A JP16607989 A JP 16607989A JP H0330132 A JPH0330132 A JP H0330132A
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Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明はレーザーを用いて情報の読み出しを行う光ディ
スクに関し、特に信頼性、耐候性に優れた読み出し専用
の光ディスクに関するものである。
スクに関し、特に信頼性、耐候性に優れた読み出し専用
の光ディスクに関するものである。
（従来の技術）
読み出し専用の光ディスクとしてコンパクトディスク（
以下、ＣＤと呼ぶ。）が広く知られている。ＣＤはボリ
カーボネート基板（以下、ＰＣ基板と呼ぶ。）上にアル
ミニウムからなる反射膜及びＵＶ硬化樹脂からなる保護
膜を設けた構成になっており、予めＰＣ基板上に形或さ
れた微小な凹凸（以下、ビットと呼ぶ。）による光の変
調を利用して、音声の再生を可能にするものである。
以下、ＣＤと呼ぶ。）が広く知られている。ＣＤはボリ
カーボネート基板（以下、ＰＣ基板と呼ぶ。）上にアル
ミニウムからなる反射膜及びＵＶ硬化樹脂からなる保護
膜を設けた構成になっており、予めＰＣ基板上に形或さ
れた微小な凹凸（以下、ビットと呼ぶ。）による光の変
調を利用して、音声の再生を可能にするものである。
また、近年、上述した音声再生用のみならず、ＣＤ−Ｒ
ＯＭと呼ばれる各種データの読み出し専用光ディスクも
いろいろな分野に用いられりつある。
ＯＭと呼ばれる各種データの読み出し専用光ディスクも
いろいろな分野に用いられりつある。
例えば、パーソナルコンピュータ用のデータ媒体、電子
出版媒体などへ展開している。
出版媒体などへ展開している。
（発明が解決しようとする課題〉
ＣＤ−ＲＯＭは従来のＣＤ作製技術によりＰＣ基板を用
いて容易に作製できるが、読み出しの信頼性、データの
保存性（ＣＤ−ＲＯＭの耐候性）を強く要求される場合
はＰＣ基板では問題となる。即ち、ＰＣ基板が持つ吸水
性、透湿性のために反りあるいは反射膜の腐食、剥離な
どの劣化を生じ易い。更にＣＤにおいても、例えば車両
搭載などを考えると、その環境条件は苛酷なものであり
、より高品質のものが求められる。
いて容易に作製できるが、読み出しの信頼性、データの
保存性（ＣＤ−ＲＯＭの耐候性）を強く要求される場合
はＰＣ基板では問題となる。即ち、ＰＣ基板が持つ吸水
性、透湿性のために反りあるいは反射膜の腐食、剥離な
どの劣化を生じ易い。更にＣＤにおいても、例えば車両
搭載などを考えると、その環境条件は苛酷なものであり
、より高品質のものが求められる。
本発明の目的は高信頼性、高耐候性を有する読み出し専
用光ディスクを提供することにある。
用光ディスクを提供することにある。
（課題を解決するための手段）
以下、第１図を用いて本発明を説明する。第１図は、本
発明の概略断面図である。
発明の概略断面図である。
本発明は、吸湿性、透湿性のないガラス基板１を用い、
そのガラス基板１上にいわゆるゾルゲル法と呼ばれる手
法を用いて、有機金属化合物を焼戊することにより得ら
れるガラス状のビットパターンを持った金属アルコレー
トの焼成層２を形或し、次いで高耐食性の反射膜３、保
護膜４を順次積層することにより、高信頼性の読み出し
専用光ディスクが得られる。
そのガラス基板１上にいわゆるゾルゲル法と呼ばれる手
法を用いて、有機金属化合物を焼戊することにより得ら
れるガラス状のビットパターンを持った金属アルコレー
トの焼成層２を形或し、次いで高耐食性の反射膜３、保
護膜４を順次積層することにより、高信頼性の読み出し
専用光ディスクが得られる。
ガラス基板１としては通常のソーダライムガラス、アル
ミノケイ酸ガラスなどが用いられるが、光ディスクとし
ての信頼性の観点からみると、化学強化を施されたもの
が好ましい。
ミノケイ酸ガラスなどが用いられるが、光ディスクとし
ての信頼性の観点からみると、化学強化を施されたもの
が好ましい。
所望のビットパターンをガラス基板上に形成するには、
以下に示すようにゾルゲル法を用いて容易に行うことが
出来る。
以下に示すようにゾルゲル法を用いて容易に行うことが
出来る。
まず、金属アルコレート、水、塩酸、アルコールなどか
ら或る塗布溶液を調製し、ガラス基板上に所定の厚さに
なるようにスピンコートする。次いで、所望のピットパ
ターンになるように設計された樹脂製の型を押し当て、
６０〜１２０’Ｃ程度の温度で一次焼成を行う。その後
、ガラス基板を離型し、２５０〜４００’Ｃで二次焼或
を行い、溶剤、添加剤などの有機戒分を除去することに
より所望のピットパターンを有する非品質の金属酸化物
層２を゛形戊できる。
ら或る塗布溶液を調製し、ガラス基板上に所定の厚さに
なるようにスピンコートする。次いで、所望のピットパ
ターンになるように設計された樹脂製の型を押し当て、
６０〜１２０’Ｃ程度の温度で一次焼成を行う。その後
、ガラス基板を離型し、２５０〜４００’Ｃで二次焼或
を行い、溶剤、添加剤などの有機戒分を除去することに
より所望のピットパターンを有する非品質の金属酸化物
層２を゛形戊できる。
ここで用いられる金属アルコレートとしては各種の金属
アルコーレト、例えばＳｉ， Ｔｉ， Ｚｒ， ＡＩ，
Ｂなどのアルコレート、が使用できるが、光ディスク
としての特性、製造上の取り扱いやすさなどがら、Ｓｉ
系アルコレートあるいはＳｉ系アルコレーｌ・とＴｉ系
アルコレートの混合系が好ましい。
アルコーレト、例えばＳｉ， Ｔｉ， Ｚｒ， ＡＩ，
Ｂなどのアルコレート、が使用できるが、光ディスク
としての特性、製造上の取り扱いやすさなどがら、Ｓｉ
系アルコレートあるいはＳｉ系アルコレーｌ・とＴｉ系
アルコレートの混合系が好ましい。
このようにして所望のビットパターンを有する透明なガ
ラス基板を得ることが出来る。
ラス基板を得ることが出来る。
次に、得られたピットパターンを持った焼成層の上に、
反射膜３をスバッタ法などにより付け、更に、保護膜４
をその上に被覆することにより読み出し専用光ディスク
が得られる。
反射膜３をスバッタ法などにより付け、更に、保護膜４
をその上に被覆することにより読み出し専用光ディスク
が得られる。
反射膜３の材料としては、各種の金属、金属窒化物など
を用いることが出来るが、光ディスクとしての特性を満
足し、かつ高耐食性を示すものが好ましく、Ａｕ，Ａｕ
系合金、ＴｉＮが本発明の目的の達或を可能にする。
を用いることが出来るが、光ディスクとしての特性を満
足し、かつ高耐食性を示すものが好ましく、Ａｕ，Ａｕ
系合金、ＴｉＮが本発明の目的の達或を可能にする。
保護膜４としては、Ｓｉ０２などの無機酸化物、Ｓｉ３
Ｎ４などの無機窒化物のような無機系のものあるいはＵ
Ｖ硬化樹脂などのような有機系のものが単独もしくは組
み合わせて使用できる。
Ｎ４などの無機窒化物のような無機系のものあるいはＵ
Ｖ硬化樹脂などのような有機系のものが単独もしくは組
み合わせて使用できる。
（作用）
本発明による読み出し専用光ディスクは、ガラス基板及
び耐湿性に優れる反射膜を有しているために、高い信頼
性を実現できる。
び耐湿性に優れる反射膜を有しているために、高い信頼
性を実現できる。
（実施例）
以下、実施例に基づき詳細に説明する。
実施例１
化学強化されたガラス基板上に、テトラエトキシシラン
、塩酸、水、ポリエチレングリコールを含むエチルアル
コール溶液をスビンコートし、有機金属化合物を２００
０〜３０００人形威した。次いで、表面に所定のビット
パターンを有する樹脂製の型を有機金属化合物層に押し
当て、ビットパターンを転写すると共に１２０°Ｃで一
次焼或を行った。その後、ガラス基板を離型し、３５０
°Ｃで二次焼戒を行った。
、塩酸、水、ポリエチレングリコールを含むエチルアル
コール溶液をスビンコートし、有機金属化合物を２００
０〜３０００人形威した。次いで、表面に所定のビット
パターンを有する樹脂製の型を有機金属化合物層に押し
当て、ビットパターンを転写すると共に１２０°Ｃで一
次焼或を行った。その後、ガラス基板を離型し、３５０
°Ｃで二次焼戒を行った。
このようにして作製したビットパターンを有する焼成層
の上に、反射膜としてスパッ久法でＡｕ−Ｔａ合金膜を
約１０００人、保護膜としてＳｉ０２膜を１０００人順
次戒膜した。
の上に、反射膜としてスパッ久法でＡｕ−Ｔａ合金膜を
約１０００人、保護膜としてＳｉ０２膜を１０００人順
次戒膜した。
得られた光ディスクを８０°Ｃ、９０％ＲＨ下で耐候性
を評価したところ、初期値が２．ＯＸ１０ ’であった
ブロックエラーレートが、５００時間後には２．２Ｘ１
０−３にやや増加した。しかしながら、この程度の変化
は再生特性上、何ら問題となるレベルではない。
を評価したところ、初期値が２．ＯＸ１０ ’であった
ブロックエラーレートが、５００時間後には２．２Ｘ１
０−３にやや増加した。しかしながら、この程度の変化
は再生特性上、何ら問題となるレベルではない。
また、８０°Ｃ、９０％■の条件下に１時間ほど放置し
た後、取り出して再生を行ったところ、何ら異常なく再
生できた。
た後、取り出して再生を行ったところ、何ら異常なく再
生できた。
実施例２
化学強化されたガラス基板上に、テトラエトキシシラン
、テトラプトキシチタン、塩酸、水、ポリエチレングリ
コールを含むエチルアルコール溶液をスピンコートし、
有機金属化合物層を２０００〜３０００Ａ形或した。次
いで、表面に所定のビットパターンを有する樹脂製の型
を有機金属化合物層に押し当て、ビットパターンを転写
すると共に１００°Ｃで一次焼或を行った。その後、ガ
ラス基板を離型し、３５０°Ｃで二次焼戊を行った。
、テトラプトキシチタン、塩酸、水、ポリエチレングリ
コールを含むエチルアルコール溶液をスピンコートし、
有機金属化合物層を２０００〜３０００Ａ形或した。次
いで、表面に所定のビットパターンを有する樹脂製の型
を有機金属化合物層に押し当て、ビットパターンを転写
すると共に１００°Ｃで一次焼或を行った。その後、ガ
ラス基板を離型し、３５０°Ｃで二次焼戊を行った。
このようにして作製したビットパターンを有する金属ア
ルコレートの焼成層の上に、スパッタ法でＡｕ−Ｇｅ合
金膜を約１ｏｏｏＡ、保護膜としてＳｉ０２膜を１００
０人順次或膜した。更にその上をＵＶ硬化樹脂層で被覆
した。
ルコレートの焼成層の上に、スパッタ法でＡｕ−Ｇｅ合
金膜を約１ｏｏｏＡ、保護膜としてＳｉ０２膜を１００
０人順次或膜した。更にその上をＵＶ硬化樹脂層で被覆
した。
得られた光ディスクを８０°０１９０％ＲＨ下で耐候性
を評価したところ、初期値が１．５Ｘ１０＝であったブ
ロックエラーレートが、５００時間後には２．ＩＸ１０
−３にやや増加した。しかしながら、この程度の変化は
再生特性上、何ら問題となるレベルではない。
を評価したところ、初期値が１．５Ｘ１０＝であったブ
ロックエラーレートが、５００時間後には２．ＩＸ１０
−３にやや増加した。しかしながら、この程度の変化は
再生特性上、何ら問題となるレベルではない。
また、８０°Ｃ、９０％ＲＨの条件下に１時間ほど放置
した後、取り出して再生を行ったところ、何ら異常なく
再生できた。
した後、取り出して再生を行ったところ、何ら異常なく
再生できた。
実施例３
実施例２と同様にして作製したピットパターンを有する
金属アルコレートの焼成層の上に、クラスターイオンビ
ーム法でＴｉＮ膜を約１００ＯＡ、スパッタ法でＳｉ３
Ｎ４膜を８００〜ｔｏｏｏＡ順次戒膜した。更にその上
をＵ■硬化樹脂層で被覆した。
金属アルコレートの焼成層の上に、クラスターイオンビ
ーム法でＴｉＮ膜を約１００ＯＡ、スパッタ法でＳｉ３
Ｎ４膜を８００〜ｔｏｏｏＡ順次戒膜した。更にその上
をＵ■硬化樹脂層で被覆した。
得られた光ディスクを８０００、９０％ＲＨ下で耐候性
を評価したところ、初期値が１．８Ｘ１０＝であったブ
ロックエラーレートが、５００時間後には２．５Ｘ１０
−３にやや増加した。しかしながら、この程度の変化は
再生特性上、何ら問題となるレベルではない。
を評価したところ、初期値が１．８Ｘ１０＝であったブ
ロックエラーレートが、５００時間後には２．５Ｘ１０
−３にやや増加した。しかしながら、この程度の変化は
再生特性上、何ら問題となるレベルではない。
また、８０°Ｃ１９０％ＲＨの条件下に１時間ほど放置
した後、取り出して再生を行ったところ、何ら異常なく
再生できた。
した後、取り出して再生を行ったところ、何ら異常なく
再生できた。
実施例４
実施例２と同様にして作製したビットパターンを有する
金属アルコレートの焼成層の上に、スバッタ法を用いて
Ａｕ膜を約１００ＯＡ ， Ｓｉ３Ｎ４膜を８００〜１
０００人順次或膜した。更にその上をＵＶ硬化樹脂層で
被覆した。
金属アルコレートの焼成層の上に、スバッタ法を用いて
Ａｕ膜を約１００ＯＡ ， Ｓｉ３Ｎ４膜を８００〜１
０００人順次或膜した。更にその上をＵＶ硬化樹脂層で
被覆した。
得られた光ディスクを８０℃、９０％ＲＨ下で耐候性を
評価したところ、初期値が２．３Ｘ１０−３であったブ
ロックエラーレートが、５００時間後には３．２ Ｘ
１０ −３にやや増加した。しかしながら、この程度の
変化は再生特性上、何ら問題となるレベルではない。
評価したところ、初期値が２．３Ｘ１０−３であったブ
ロックエラーレートが、５００時間後には３．２ Ｘ
１０ −３にやや増加した。しかしながら、この程度の
変化は再生特性上、何ら問題となるレベルではない。
また、８０°Ｃ、９０％ＲＨの条件下に１時間ほど放置
した後、取り出して再生を行ったところ、何ら異常なく
再生できた。
した後、取り出して再生を行ったところ、何ら異常なく
再生できた。
比較例
市販されている音楽用のＣＤディスクについて同様に耐
候性の評価を行ったところ、ブロックエラーレートは５
Ｘ１０−’（初期値）から著しく変化し、５００時間後
には測定不能になっていた。また、８０Ｃ、９０％ＲＨ
条件下に１時間ほど放置した後、取り出して再生を行っ
たところ、反りが大きいため再生不能であった。
候性の評価を行ったところ、ブロックエラーレートは５
Ｘ１０−’（初期値）から著しく変化し、５００時間後
には測定不能になっていた。また、８０Ｃ、９０％ＲＨ
条件下に１時間ほど放置した後、取り出して再生を行っ
たところ、反りが大きいため再生不能であった。
（発明の効果）
以上述べてきたように、本発明による読み出し専用光デ
ィスクは信頼性、耐候性に優れており、従来使用できな
かった応用分野への展開を可能にするものである。
ィスクは信頼性、耐候性に優れており、従来使用できな
かった応用分野への展開を可能にするものである。
第１図は本発明による読み出し専用光ディスクの概略断
面図である。 １・・・ガラス基板、 ２・・・金属アルコレートの焼或層、３・・・反射膜、
４・・・保護膜
面図である。 １・・・ガラス基板、 ２・・・金属アルコレートの焼或層、３・・・反射膜、
４・・・保護膜
Claims (1)
- （１）透明なガラス基板上に、微小な凹凸を有する金属
アルコレートの焼成層、Ａｕ、Ａｕ合金もしくはＴｉＮ
からなる反射膜と、保護膜とを順次積層したことを特徴
とする読み出し専用光ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1166079A JPH07105073B2 (ja) | 1989-06-27 | 1989-06-27 | 読み出し専用光ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1166079A JPH07105073B2 (ja) | 1989-06-27 | 1989-06-27 | 読み出し専用光ディスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0330132A true JPH0330132A (ja) | 1991-02-08 |
| JPH07105073B2 JPH07105073B2 (ja) | 1995-11-13 |
Family
ID=15824592
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1166079A Expired - Fee Related JPH07105073B2 (ja) | 1989-06-27 | 1989-06-27 | 読み出し専用光ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07105073B2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6414082A (en) * | 1987-07-08 | 1989-01-18 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Grooved substrate |
-
1989
- 1989-06-27 JP JP1166079A patent/JPH07105073B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6414082A (en) * | 1987-07-08 | 1989-01-18 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Grooved substrate |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07105073B2 (ja) | 1995-11-13 |
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