JPH0330252U - - Google Patents

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JPH0330252U
JPH0330252U JP1990088565U JP8856590U JPH0330252U JP H0330252 U JPH0330252 U JP H0330252U JP 1990088565 U JP1990088565 U JP 1990088565U JP 8856590 U JP8856590 U JP 8856590U JP H0330252 U JPH0330252 U JP H0330252U
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chamber
heating chamber
heating
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JP1990088565U
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    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P10/00—Technologies related to metal processing
    • Y02P10/25—Process efficiency

Landscapes

  • Heat Treatment Of Articles (AREA)
  • General Induction Heating (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案の一実施例の高周波焼入装置の
平面図、第２図は正面図、第３図は本実施例の高
周波焼入装置を用いてワークを焼入する場合の説
明図である。第４図及び第５図は従来の高周波焼
入装置の概略説明図である。 １０……予備室、２０……加熱室、２２……加
熱コイル、２２……加熱コイル、３０……冷却槽
、４５１、４５２、４５３……ワーク自転手段、
４２……ターンテーブル、４３，４４……シリン
ダ、４１１〜４１４……ワーク受け、５０……ガ
ス供給手段、Ｌ……冷却液、Ｖ１……入口扉、Ｖ
２……出口扉、Ｗ……ワーク。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. ワークを載置する複数のワーク受けを上面周辺
    に等間隔に設けたターンテーブルと、ワーク受け
    を回転させてワークを自転させるワーク自転手段
    と、ターンテーブルをステツプ状に回転してワー
    クを公転させるワーク公転手段と、ターンテーブ
    ルを内部に設け冷却液を収容した冷却液槽と、ワ
    ーク受けを昇降してワークを冷却液面の上下に昇
    降させるワーク昇降手段と、冷却液面上で公転す
    るワークの経路にそれぞれ下部が冷却液に浸漬す
    るように設けた下部開放の予備室及び予備室に連
    設した下部開放の加熱室と、前記経路にそれぞれ
    設けた予備室の入口扉及び加熱室へ通じる出口扉
    と、ワークを加熱するために加熱室に設けた加熱
    コイルと、予備室と加熱室に非酸化性または還元
    性ガスを充満させる手段とを具備し、且つ、ワー
    ク受けに載置されたワークが公転して予備室内を
    通過後加熱室内で加熱されてから、冷却液面下に
    降下し更に冷却液内を公転して焼入されることを
    特徴とする高周波焼入装置。
JP1990088565U 1990-08-23 1990-08-23 Expired JPH0450Y2 (ja)

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JPH0330252U true JPH0330252U (ja) 1991-03-25
JPH0450Y2 JPH0450Y2 (ja) 1992-01-06

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014034715A (ja) * 2012-08-09 2014-02-24 Jtekt Corp 熱処理装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2014034715A (ja) * 2012-08-09 2014-02-24 Jtekt Corp 熱処理装置

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JPH0450Y2 (ja) 1992-01-06

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