JPH0330372A - Self arc-extinguishing type power switching device - Google Patents
Self arc-extinguishing type power switching deviceInfo
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- JPH0330372A JPH0330372A JP16499689A JP16499689A JPH0330372A JP H0330372 A JPH0330372 A JP H0330372A JP 16499689 A JP16499689 A JP 16499689A JP 16499689 A JP16499689 A JP 16499689A JP H0330372 A JPH0330372 A JP H0330372A
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- Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は自己消弧型パワースイッチングデバ・イスに
かかり、特に安価で浮遊−インダクタンスの影響を受け
ない3端子の自己消弧型パワースイッチングデバイスに
関する。。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a self-extinguishing power switching device, particularly a three-terminal self-extinguishing power switching device that is inexpensive and unaffected by stray inductance. Regarding. .
[従来の技術]
従来、中小容量の自己消弧型パワースイッチングデバイ
スとして、バイポーラジャンクショントランジスタ(以
下BJTと称する)やMOSFETが使用されできた。[Prior Art] Conventionally, bipolar junction transistors (hereinafter referred to as BJTs) and MOSFETs have been used as self-extinguishing power switching devices of small to medium capacity.
しかし、BJTは大電流密度が得られるものの、スイッ
チング速度が遅いためスイッングロスが大きい。MOS
FETは、スイッチング速度は速いものの、特に高耐圧
の素子において高電流密度が得られないなどの問題点が
あった。However, although a BJT can obtain a large current density, its switching speed is slow, resulting in a large switching loss. M.O.S.
Although FETs have high switching speeds, they have problems such as inability to obtain high current densities, especially in devices with high breakdown voltages.
近年、これらの問題点を補うために、B J TとMO
SFET等を複合化し、高速で大電流密度のスイッチン
グを可能とする新しい素子が数多く提案され、その一部
が実用化され始めている。In recent years, in order to compensate for these problems, BJT and MO
Many new elements have been proposed that combine SFETs and the like to enable high-speed, high-current-density switching, and some of them are beginning to be put into practical use.
第3図は上記した複合型スイッチング素子の一例を示す
図であり、カスコードBiMO8と呼ばれる素子を示し
ている。この素子の動作について、以下に簡単に述べる
。FIG. 3 is a diagram showing an example of the above-mentioned composite switching element, and shows an element called cascode BiMO8. The operation of this element will be briefly described below.
第3図において、コレクタ端子33.ソース端子36間
に外部負荷を接続して電圧を印加し、ベース端子34.
ソース端子36間にベース電源を接続し、ゲート端子3
5にゲート電圧を印加して、MOS FET31をオン
状態にすると、BJT30にベース電流が供給される。In FIG. 3, collector terminal 33. An external load is connected between source terminals 36 and a voltage is applied between base terminals 34 .
Connect the base power supply between the source terminals 36 and the gate terminals 3
When a gate voltage is applied to BJT 5 to turn on MOS FET 31, a base current is supplied to BJT 30.
従って、B J Tはオン状態となり、エミッタ電流は
MO3FET31を通じてソース端子36へ流れる。一
方、この状態からMO8FE−r31をオフするように
ゲート端子35にゲート電圧を印加すると、BJT30
のベース電流の供給が停止するとともにエミッタがオー
プン状態となるため、BJT30はオフ状態へと移行す
る。一般に、BJTはオン状態では伝導度変調により過
剰キャリアがベース領域とコネクタ領域に充満している
ため、この過剰キャリアが消滅するまで完全にオフする
ことはない。しかし、第3図に示すカスコードsrMo
sでは、キャリアは低電圧ダイオード32を通じてベー
スから引き失くことが可能なため、高速でオフすること
ができる。また、オフ状態ではエミッタがオープン状態
であるためBJT30の耐圧は、コレクタ・エミッタ電
圧V (べEO
−ス開敢)ではなくコレクタ・ベース電圧V CBO〈
エミッタ開放)となり、コレクタ層の厚さを薄くするこ
とが可能であるため、高いエミッタ接地小化0短絡順方
向電流増幅率hfeを実現することができ、オン電圧の
低い素子とすることができる。Therefore, B J T is turned on, and emitter current flows through MO3FET 31 to source terminal 36 . On the other hand, if a gate voltage is applied to the gate terminal 35 to turn off MO8FE-r31 from this state, the BJT30
Since the supply of base current is stopped and the emitter becomes open, the BJT 30 shifts to the off state. Generally, when a BJT is on, the base region and the connector region are filled with excess carriers due to conductivity modulation, so the BJT will not be completely turned off until the excess carriers disappear. However, the cascode srMo shown in FIG.
In s, carriers can be pulled away from the base through the low voltage diode 32, so they can be turned off quickly. In addition, since the emitter is open in the off state, the withstand voltage of the BJT30 is not the collector-emitter voltage V (base ratio) but the collector-base voltage V CBO<
Since the emitter is open (emitter open) and the thickness of the collector layer can be reduced, it is possible to achieve a high emitter grounding miniaturization, zero short-circuit forward current amplification factor hfe, and a device with a low on-voltage. .
[発明が解決しようとする課題]
上記した従来の楼台型スイッチング素子は、BJT、M
OSFET、ダイオード等の個別素子を組み合わせてい
たため、コストが高い、高速でターンオフするため浮遊
インダクタンスにより発振や誤点弧等の現象が発生して
使用しにくい、4端子素子でおるため使いにくい等の問
題点があった。[Problems to be Solved by the Invention] The above-mentioned conventional tower type switching elements are BJT, M
Because it combines individual elements such as OSFETs and diodes, it is expensive; because it turns off at high speed, stray inductance causes phenomena such as oscillation and false firing, making it difficult to use; and because it is a four-terminal element, it is difficult to use. There was a problem.
この発明は上記した従来技術の問題点に鑑みなされたも
ので、その目的は安価で浮遊インダクタンスの影響を受
けない3端子素子の自己消弧型パワースイッチングデバ
イスを提供することにある。The present invention has been made in view of the problems of the prior art described above, and its purpose is to provide a self-extinguishing power switching device of three-terminal element that is inexpensive and unaffected by stray inductance.
[課題を解決するための手段]
この発明の自己消弧型パワースイッチングデバイスは、
同一チップ上に、バイポーラ1−ランジスタと、該トラ
ンジスタのベース電流を流すために該トランジスタのコ
レクタ・ベース間に並列接続された第1のMOSFET
と、該トランジスタのエミッタに直列接続された第2の
MOSFETと、該トランジスタのベース電流を引き抜
くために該トランジスタのベースと第2のMOS F
E Tのソース間に並列接続された第3のMOS F
E Tとを設けたことを特徴としている。[Means for solving the problem] The self-extinguishing power switching device of the present invention has the following features:
On the same chip, a bipolar 1-transistor and a first MOSFET connected in parallel between the collector and base of the transistor to flow the base current of the transistor.
, a second MOSFET connected in series to the emitter of the transistor, and a second MOSFET connected to the base of the transistor to extract the base current of the transistor.
A third MOS F connected in parallel between the sources of E T
It is characterized by the provision of ET.
[作用]
この発明によれば、カスコードBiMO8を1チツプ上
に形成することにより、素子コストの低減と浮遊インダ
クタンスの低下をはかり、かつ3端子化を達成すること
ができる。[Function] According to the present invention, by forming the cascode BiMO8 on one chip, it is possible to reduce element cost and stray inductance, and to achieve three terminals.
すなわち、上記第2、第3のMOSFETをバイポーラ
トランジスタ上にSo I (Silicon on。That is, the second and third MOSFETs are placed on a bipolar transistor using SoI (Silicon on).
In5ulator )技術を用いて形成することによ
り、自己消弧型パワースイッチングデバイスを1チツプ
で奇生効果を生じることなしに安価に形成することがで
き、浮遊インダクタンスを低下することができる。By using the In5ulator technology, a self-extinguishing power switching device can be formed in a single chip at low cost without producing parasitic effects, and stray inductance can be reduced.
ざらに、上記第1のMOSFETはバイポーラトランジ
スタにベース電流を流すものであり、この第1のMOS
FETのドレイン領域とバイポーラトランジスタのコレ
クタ領域とを共°通に形成することにより、トレイン領
域の伝導度変調を発生させ、これによって第1のMOS
FETは高耐圧のMOSFETであるにもかかわらず、
電流密度の高いMOSFETにすることができ、バイポ
ーラトランジスタのベース電流を充分に流せるよう構成
できる。従って、オン電圧の低い自己消弧型パワースイ
ッチングデバイスを提供することができる。Roughly speaking, the first MOSFET is one that allows base current to flow through a bipolar transistor, and this first MOSFET
By forming the drain region of the FET and the collector region of the bipolar transistor in common, conductivity modulation of the train region is generated, thereby causing the first MOS
Although the FET is a high voltage MOSFET,
The MOSFET can have a high current density, and can be configured so that a sufficient base current of a bipolar transistor can flow therethrough. Therefore, a self-extinguishing power switching device with a low on-voltage can be provided.
[実施例]
以下添付の図面に示す実施例により、ざらに詳細にこの
発明について説明する。[Example] The present invention will be roughly described in detail below with reference to Examples shown in the attached drawings.
第1図はこの発明の一実施例を示す断面図である。図示
するように[I 基板1上に高耐圧化をはかるための低
不純物濃度の【1−層2が設けられている。n’−層2
の表面には、部分的な拡散によって形成されたpベース
領域3が設けられている。FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of the present invention. As shown in the figure, a [1-layer 2 with a low impurity concentration is provided on a [I substrate 1] in order to increase the breakdown voltage. n'-layer 2
A p base region 3 formed by partial diffusion is provided on the surface of the substrate.
pベース領域3内には、図示するように一方においてn
工くツタ領域8が形成されており、これらによりN
P N −B J Tが構成されている。また、pベー
ス領域3内には、他方においてn ソース6及びp+コ
ンタクト領域7が構成されている。In the p base region 3, there is n on one side as shown in the figure.
A vine area 8 is formed, which allows N
P N -B J T is configured. Furthermore, within the p base region 3, an n source 6 and a p+ contact region 7 are formed on the other hand.
そして、このn+ソース6と n−層2内のpベース領
vA3が拡散されていない領域とにはさまれたpベース
領域3上には、図示するようにゲート酸化膜4を介して
ゲートpo+y−si5が形成され、これらによりn−
層2及びn 基板1をドレインとする縦型MO8FET
が構成されている。また、pベース領域3の上には、酸
化膜9を介しレーザーアニール、ゾーンメルト等のSO
I技術により3i単結晶膜10(10−1〜1o−s>
が形成されている。Then, on the p base region 3 sandwiched between the n+ source 6 and the region in the n− layer 2 in which the p base region vA3 is not diffused, a gate po+y is formed via a gate oxide film 4, as shown in the figure. -si5 are formed, and these lead to n-
Layer 2 and n Vertical MO8FET with substrate 1 as drain
is configured. Further, on the p base region 3, an SO film such as laser annealing or zone melting is applied via the oxide film 9.
3i single crystal film 10 (10-1~1o-s>
is formed.
このS1単結晶WAio上には、ゲート酸化膜11.1
3を介して、図示するようにゲートpo+y−st 1
2.14が形成され、このゲートPo1y−Si 12
、14の開口部から不純物を拡散することにより、ソ
ース領域10−3及びドレイン領域10−1.10−5
が自己整合により形成されている。ざらに、この上に層
間絶縁膜としてシリケートガラス(以下、PSGと称す
る)15が形成され、その上にはPSG15の開口部よ
り各領域間の配線を行うためのAt−3t配線16゜1
7、18が形成されている。A gate oxide film 11.1 is formed on this S1 single crystal WAio.
3 through gate po+y-st 1 as shown
2.14 is formed, and this gate Po1y-Si 12
, 14, the source region 10-3 and drain region 10-1, 10-5 are formed.
is formed by self-alignment. Roughly, a silicate glass (hereinafter referred to as PSG) 15 is formed as an interlayer insulating film on this, and on top of this, At-3t wiring 16° 1 for wiring between each region is formed through the opening of the PSG 15.
7 and 18 are formed.
第2図は第1図に示す実施例の等価回路図であり、この
図を用いて第1図に示す素子の動作を説明する。なお、
第3図において、第1図と同一部分には同一符号を付し
ている。FIG. 2 is an equivalent circuit diagram of the embodiment shown in FIG. 1, and the operation of the element shown in FIG. 1 will be explained using this diagram. In addition,
In FIG. 3, the same parts as in FIG. 1 are given the same reference numerals.
第2図において、30及び31は第3図と同じくNPN
−BJTとnchMO3F E −r Tニーaす、第
2図に示す等価回路においては、ベース駆動用MO3F
ET25がコレクタ端子21及びベース配線18間に接
続されている。このMO8FET25は第1図における
n 基板1及びn−層2をド1ツインとする縦型MO3
FETに相当し、コレクタ端子21からベース電流をB
JT30に流す働きを有している。In Figure 2, 30 and 31 are NPN as in Figure 3.
-BJT and nchMO3F
An ET 25 is connected between the collector terminal 21 and the base wiring 18. This MO8FET 25 is a vertical type MO3 in which the n-substrate 1 and the n-layer 2 are double twin in FIG.
Corresponds to a FET, and connects the base current from the collector terminal 21 to B
It has the function of flowing to JT30.
MO3FET31のゲート端子とMO3FET31のゲ
ートを同電位に接続することにより3端子化を実現して
いる。一方、ベース配線18にはベース電流引き扱き用
MO8FET25が接続され、第3図における低電圧ダ
イオード32と同様にターンオフ時のベース電流を引き
抜く働きを持っている。第2図に示す素子をターンオン
するには、ゲート端子19にMO3FET25.31の
しきい値以上の電位を印加させればよい。これにより、
MO8FET31がオンするとともにベース駆動用MO
8FET25がオンし、BJT30にベース電流が供給
される。Three terminals are realized by connecting the gate terminal of MO3FET31 and the gate of MO3FET31 to the same potential. On the other hand, a base current handling MO8FET 25 is connected to the base wiring 18, and has the function of drawing out the base current at the time of turn-off, similar to the low voltage diode 32 in FIG. In order to turn on the device shown in FIG. 2, it is sufficient to apply a potential higher than the threshold value of the MO3FET 25, 31 to the gate terminal 19. This results in
When MO8FET31 turns on, the base drive MO
8FET25 is turned on and base current is supplied to BJT30.
これにより、BJT30はターンオンし、そのエミッタ
電流がMO3FET31を通して流れる。この時、ベー
ス電流引き扱き用のMO8FET25のゲートしきい値
がBJ−r30のベース・エミッタ間電圧とMO3FE
T31のオン電圧以下であるため、MO3FET26は
オンすることはなく、BJT30に対するベース電流は
バイパスされない。This turns on the BJT 30 and its emitter current flows through the MO3FET 31. At this time, the gate threshold of MO8FET25 for handling the base current is the base-emitter voltage of BJ-r30 and MO3FE.
Since it is below the ON voltage of T31, MO3FET 26 is not turned on and the base current to BJT 30 is not bypassed.
一方、第2図に示す素子をターンオフするには、ゲート
端子19にしきい値以下の電圧を印加すればよい。すな
わら、MO3FET25がオフすることによりBJT3
0に対するベース電流の供給が断たれる。これと同時に
MO8FET31がオフすることにより、BJT30の
エミッタがオープン状態になって主電流がオフする。B
JT30がオフすることにより、素子のソース端子20
とコレクタ端子21の間に発生する電圧は、BJT30
のコレクタ・ベース間接合及びMO3FET2Bに印加
される。BJT30は、伝導度変調による過剰キャリア
によりターンオフの初期ではインピーダンスが低く、上
記端子間電圧はMO3FE−r26に印加される。MO
3FET26のゲート端子はそのトレイン端子に接続さ
れているため、ドレイン電圧がしきい値以上に上昇する
とMO3FET26はオン状態となり、BJT30のベ
ース電流を引き後くことができる。On the other hand, in order to turn off the element shown in FIG. 2, it is sufficient to apply a voltage below the threshold value to the gate terminal 19. In other words, when MO3FET25 turns off, BJT3
The supply of base current to 0 is cut off. At the same time, the MO8FET 31 is turned off, so that the emitter of the BJT 30 becomes open and the main current is turned off. B
By turning off JT30, the source terminal 20 of the element
The voltage generated between the BJT 30 and the collector terminal 21 is
is applied to the collector-base junction of , and MO3FET2B. The impedance of the BJT 30 is low at the initial stage of turn-off due to excess carriers due to conductivity modulation, and the voltage between the terminals is applied to the MO3FE-r26. M.O.
Since the gate terminal of 3FET 26 is connected to its train terminal, when the drain voltage rises above the threshold, MO3FET 26 turns on and can draw the base current of BJT 30.
ターンオフの過程が進むに従って、BJT30のコレク
タ・ベース接合は逆回復して電圧を持つようになるため
、ベース電流を充分に引き抜くことができるようにMO
3FET26を設計することにより、MO3FET26
に高電圧が印加されて素子が破壊することを防止するこ
とができる。As the turn-off process progresses, the collector-base junction of the BJT30 reversely recovers and has a voltage, so the MO
By designing 3FET26, MO3FET26
It is possible to prevent the element from being destroyed due to high voltage being applied to it.
[発明の効果]
以上の説明から明らかなように、この発明によれば、カ
スコード、カスケードB+MO8を1チツプで構成した
ため、低コスト化を図ることが可能になるとともに、配
線による浮遊インダクタンスを大幅に低減することがで
き、発掘、誤点弧等のない、極めて高速のスイッチング
素子とすることができる。また、ベース駆動用MO3F
ETとBJTを複合化することにより、ベース駆動用M
o S F E−rのトレイン領域を伝導度変調させる
ことができるため、高耐圧のベース駆動用MO3FE
Tにもかかわらず電流密度を大きくすることができ、B
J Tのベース電流を充分流すことができ、オン電圧
を充分低くすることができる。また、ターンオフ用MO
3’FET’とベース電流引き抜き用MO3FETとを
SOI技術で形成することにより、奇生効果なしにカス
コード、カスケードBtvosFE−rを1チツプで形
成できる。[Effects of the Invention] As is clear from the above description, according to the present invention, since the cascode and cascade B+MO8 are configured in one chip, it is possible to reduce costs, and the stray inductance due to wiring can be significantly reduced. It is possible to provide an extremely high-speed switching element without excavation, false firing, etc. In addition, MO3F for base drive
By combining ET and BJT, base drive M
o Since the train region of S F E-r can be modulated in conductivity, it is possible to use MO3FE for high voltage base driving.
The current density can be increased despite T, and B
A sufficient base current of the JT can flow, and the on-state voltage can be made sufficiently low. Also, MO for turn-off
By forming the 3'FET' and the base current extraction MO3FET using SOI technology, a cascode and cascade BtvosFE-r can be formed in one chip without any parasitic effects.
第1図はこの発明の一実施例を示す素子断面図、第2図
は第1図に示す実施例の等価回路を示す回路図、第3図
は従来のカス:″」−ドBiMO3の一例を示す回路図
である。
1・・・n 基板、2・・・n″基板
3・・・pベース領域、4・・・ゲート酸化膜、5・・
・ゲートPo1y−3t 、6・・・【) ソース、7
・・・p+コンタクト領域、8・・・酸エミッタ、9・
・・酸化膜、10・・・3i単結晶膜、10−1.10
−2.10−3.1(、)−4,10−5・・・3i単
結晶膜、11・・・ゲート酸化膜、12・・・ゲー・−
ト1’oiy−3r、13・・・ゲート酸化膜、14・
・・ゲ・−トP(多1y−3i 、15・・・PSG、
16・・・エミッタ配線、17・・・ソース電極、1ト
・・ベース配線、19・・・ゲート端子、20・・・ソ
ース嫡子、21・・・コレクタ端子、
25・・・ベース駆動用MO8F E T、26・・・
ベース電流引き抜き用MO3FET、3O−NPN−B
JT、31−nchMOFE”T、32・・・低電圧ダ
イオード、33・・・]レクタ喘了、34・・・ベース
端子、35・・・ゲート端子、第
2
図
第
区Fig. 1 is a cross-sectional view of an element showing an embodiment of the present invention, Fig. 2 is a circuit diagram showing an equivalent circuit of the embodiment shown in Fig. 1, and Fig. 3 is an example of a conventional cassette BiMO3. FIG. 1...n substrate, 2...n'' substrate 3...p base region, 4...gate oxide film, 5...
・Gate Po1y-3t, 6...[) Source, 7
...p+ contact region, 8... acid emitter, 9.
...Oxide film, 10...3i single crystal film, 10-1.10
-2.10-3.1(,)-4, 10-5...3i single crystal film, 11...gate oxide film, 12...ge-
1'oiy-3r, 13...gate oxide film, 14.
...Ge-to-P (multi 1y-3i, 15...PSG,
16... Emitter wiring, 17... Source electrode, 1... Base wiring, 19... Gate terminal, 20... Source legitimate child, 21... Collector terminal, 25... MO8F for base drive ET, 26...
MO3FET for base current extraction, 3O-NPN-B
JT, 31-nchMOFE"T, 32...Low voltage diode, 33...]Rector termination, 34...Base terminal, 35...Gate terminal, Fig. 2 Section
Claims (1)
ジスタのコレクタ・ベース間に並列接続された第1のM
OSFETと、該バイポーラトランジスタのエミッタに
直列接続された第2のMOSFETと、該バイポーラト
ランジスタのベースと第2のMOSFETのソース端子
間に並列接続された第3のMOSFETとが、同一チッ
プ上に形成された自己消弧型パワースイッチングデバイ
ス。(1) A bipolar transistor and a first M connected in parallel between the collector and base of the bipolar transistor.
An OSFET, a second MOSFET connected in series to the emitter of the bipolar transistor, and a third MOSFET connected in parallel between the base of the bipolar transistor and the source terminal of the second MOSFET are formed on the same chip. self-extinguishing power switching device.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16499689A JPH0330372A (en) | 1989-06-27 | 1989-06-27 | Self arc-extinguishing type power switching device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16499689A JPH0330372A (en) | 1989-06-27 | 1989-06-27 | Self arc-extinguishing type power switching device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0330372A true JPH0330372A (en) | 1991-02-08 |
Family
ID=15803862
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16499689A Pending JPH0330372A (en) | 1989-06-27 | 1989-06-27 | Self arc-extinguishing type power switching device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0330372A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100465475B1 (en) * | 2002-01-11 | 2005-01-13 | 산요덴키가부시키가이샤 | Tray for induction heating |
| JP2017092474A (en) * | 2015-11-10 | 2017-05-25 | アナログ デバイシス グローバル | FET-bipolar transistor combination |
-
1989
- 1989-06-27 JP JP16499689A patent/JPH0330372A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100465475B1 (en) * | 2002-01-11 | 2005-01-13 | 산요덴키가부시키가이샤 | Tray for induction heating |
| JP2017092474A (en) * | 2015-11-10 | 2017-05-25 | アナログ デバイシス グローバル | FET-bipolar transistor combination |
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