JPH0333059Y2 - - Google Patents

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JPH0333059Y2
JPH0333059Y2 JP1985057516U JP5751685U JPH0333059Y2 JP H0333059 Y2 JPH0333059 Y2 JP H0333059Y2 JP 1985057516 U JP1985057516 U JP 1985057516U JP 5751685 U JP5751685 U JP 5751685U JP H0333059 Y2 JPH0333059 Y2 JP H0333059Y2
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JP
Japan
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support
crucible
thermocouple
heater
molecular beam
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JP1985057516U
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JPS61174740U (ja
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  • Measuring Temperature Or Quantity Of Heat (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Waste-Gas Treatment And Other Accessory Devices For Furnaces (AREA)
  • Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 〔考案の利用分野〕 本考案は分子線源に関するものである。
〔考案の背景〕
例えば分子線エピタキシーに用いられる分子線
源については、高橋清編著、「分子線エピタキシ
ー技術」、(株)工業調査会、昭和59年1月20日発行、
68頁に記載されているが、しかし、ルツボの温度
を検出する熱電対の支持の仕方に関する記載は見
当らない。
〔考案の目的〕
本考案の目的はルツボの温度を熱電対により安
定に検出するができる分子線源を提供することに
ある。
〔考案の概要〕
本考案は、ルツボ、ヒータ、絶縁体、熱シール
ドのこれらを支持する第1の支持台と、ルツボの
底部の温度を検出する熱電対とからなる分子線源
において、第1の支持台から支持された第2の支
持台と、第1および第2の支持台を貫通し熱電対
を内部に通して支持する碍管と、第1および第2
の支持台の間に設けらられるとともに、第1の支
持台の方向に押圧するバネを介して第2の支持台
に取り付けられ碍管の長手方向位置を調整支持可
能なクリツプとを具備したことを特徴とするもの
で、ルツボの底部に安定して、かつ、再現性良く
熱電対の検出端を押付け保持することで、ルツボ
の温度を熱電対により安定に検出できるようにし
たものである。
〔考案の実施例〕
以下、本考案の一実施例を第1図、第2図によ
り説明する。
第1図に示す如く、支持台6と支持台2とを支
柱9で連接し、支持台2にヒータサポート4を組
合わせ、さらにヒータサポート4にヒータ3を配
設し、中心に熱シールド板10を挿入したのち、
ルツボ5をヒータ3の内部に組込んで、蒸発源を
構成する、支持台6,2並びに熱シールド板10
の中心部に、碍管1に組込まれた熱電対11を通
す穴を設けてあり、熱電対11を支持台6側より
熱電対11の検出端がルツボ5の底部に接触する
ように挿入するが、この時、第2図に示す如く碍
管1にクリツプ8を組合わせてネジ12とナツト
13により任意の位置に固着できるようにした。
さらに、碍管1が貫通できる穴を両端に設けたU
字形の板バネ7を支持台6とクリツプ8との間に
組込んで、クリツプ8を介して熱電対11の検出
端をルツボ5の底部に押し付けるようにした。こ
こで、クリツプ8の位置を変えることによつて、
熱電対11の検出端をルツボ5の底部へ押しつけ
る力を変えることができる。
板バネは接触面、すなわち支持面が広いので碍
管1の姿勢を安定に支持できるので、熱電対11
の検出端が安定し、温度検出の安定化に有効であ
る。このように、ルツボ5の温度を安定して検出
できるため、分子線の蒸発源の温度抑制が安定
し、分子線源の性能が向上する。
〔考案の効果〕
本考案は、以上説明したように熱電対の姿勢が
安定し、検出端を定位置に押付け保持できるの
で、ルツボの温度を熱電対により安定に検出でき
るという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案による分子線源の一実施例を示
す要部縦断面図、第2図は第1図の熱電対とバネ
の関係の詳細を示す斜視図である。 1……碍管、2,6……支持台、3……ヒー
タ、5……ルツボ、7……板バネ、8……クリツ
プ、9……支柱、10……熱シールド板、11…
…熱電対、12……ネジ、13……ナツト。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 分子線の原料を装填するルツボと、該ルツボの
    外側に設けられ前記原料を加熱するヒータと、該
    ヒータを支持する絶縁体と、前記ヒータによる加
    熱の熱が外部に逃げるのを防止する熱シールド
    と、これらを支持する第1の支持台と、該第1の
    支持台を貫通し前記ルツボの底部の温度を検出す
    る熱電対とからなる分子線源において、前記第1
    の支持台から支持された第2の支持台と、前記第
    1および第2の支持台を貫通し前記熱電対を内部
    に通して支持する碍管と、前記第1および第2の
    支持台の間に設けられるとともに、前記第1の支
    持台の方向に押圧するバネを介して前記第2の支
    持台に取り付けられ前記碍管の長手方向位置を調
    整支持可能なクリツプとを具備したことを特徴と
    する分子線源。
JP1985057516U 1985-04-19 1985-04-19 Expired JPH0333059Y2 (ja)

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JP1985057516U JPH0333059Y2 (ja) 1985-04-19 1985-04-19

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Publication Number Publication Date
JPS61174740U JPS61174740U (ja) 1986-10-30
JPH0333059Y2 true JPH0333059Y2 (ja) 1991-07-12

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ID=30582120

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Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5725733U (ja) * 1980-07-18 1982-02-10
JPS5842224A (ja) * 1981-09-07 1983-03-11 Mitsubishi Electric Corp 真空蒸着用セル

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Publication number Publication date
JPS61174740U (ja) 1986-10-30

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