JPH0333941Y2 - - Google Patents
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- JPH0333941Y2 JPH0333941Y2 JP5048284U JP5048284U JPH0333941Y2 JP H0333941 Y2 JPH0333941 Y2 JP H0333941Y2 JP 5048284 U JP5048284 U JP 5048284U JP 5048284 U JP5048284 U JP 5048284U JP H0333941 Y2 JPH0333941 Y2 JP H0333941Y2
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- Japan
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- cartridge
- dust
- dirt
- glass master
- lid
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- 239000011521 glass Substances 0.000 description 22
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
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- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
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- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 2
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Landscapes
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
産業上の利用分野
本考案はビデオデイスク、コンパクトデイスク
又はデジタルメモリー用の光デイスク等の高密度
記録媒体の原盤作製装置に関するものである。
又はデジタルメモリー用の光デイスク等の高密度
記録媒体の原盤作製装置に関するものである。
従来例の構成とその問題点
高密度記録原盤を作る工程は一般にマスタリン
グと呼ばれているが、ガラス原盤の洗浄、感光剤
の塗布、ベーキング、ガラス原盤の傷検査、レー
ザ等による信号等の記録、現像等の工程が含まれ
ている。上記のマスタリング工程において、記録
原盤の表面上に空気中のごみやほこり等が付着す
ると、それが最終デイスクの状態で信号のドロツ
プアウトやエラーの原因となり、デイスクの性能
を著しく低下させる。そのために従来よりマスタ
リング工程はクリーン度の高いクリーンルーム内
で作業が行なわれて来た。しかし、ガラス原盤を
人が取扱うために、オペレータから発生する塵埃
やハンドリングによる原盤の汚れ等が生じてい
た。そこでマスタリング工程でオペレータによる
ガラス原盤の汚染又はクリーンルーム内のほこり
による汚れをなくすために、ガラス原盤をカート
リツヂ内に収納し、オペレータはカートリツヂと
して原盤を取扱うことにより直接ガラス原盤にさ
わらないシステムが考えられている。このシステ
ムではクリーン度を高くした装置内でのみガラス
原盤はカートリツヂの外に出るので、空気中のご
みやほこりによる汚染も避けられる。又、装置の
ある部屋全体のクリーン度を従来のように高くす
る必要がないので、設備のローコスト化が図れる
等の利点も有している。ところでこのようなシス
テムにおいて、カートリツヂを装置の外から搬入
させるとき、カートリツヂ上に空気中のごみやほ
こりが付着していればそのまま搬入され、又搬入
口からごみやほこりが装置内に侵入するという問
題点が残されていた。
グと呼ばれているが、ガラス原盤の洗浄、感光剤
の塗布、ベーキング、ガラス原盤の傷検査、レー
ザ等による信号等の記録、現像等の工程が含まれ
ている。上記のマスタリング工程において、記録
原盤の表面上に空気中のごみやほこり等が付着す
ると、それが最終デイスクの状態で信号のドロツ
プアウトやエラーの原因となり、デイスクの性能
を著しく低下させる。そのために従来よりマスタ
リング工程はクリーン度の高いクリーンルーム内
で作業が行なわれて来た。しかし、ガラス原盤を
人が取扱うために、オペレータから発生する塵埃
やハンドリングによる原盤の汚れ等が生じてい
た。そこでマスタリング工程でオペレータによる
ガラス原盤の汚染又はクリーンルーム内のほこり
による汚れをなくすために、ガラス原盤をカート
リツヂ内に収納し、オペレータはカートリツヂと
して原盤を取扱うことにより直接ガラス原盤にさ
わらないシステムが考えられている。このシステ
ムではクリーン度を高くした装置内でのみガラス
原盤はカートリツヂの外に出るので、空気中のご
みやほこりによる汚染も避けられる。又、装置の
ある部屋全体のクリーン度を従来のように高くす
る必要がないので、設備のローコスト化が図れる
等の利点も有している。ところでこのようなシス
テムにおいて、カートリツヂを装置の外から搬入
させるとき、カートリツヂ上に空気中のごみやほ
こりが付着していればそのまま搬入され、又搬入
口からごみやほこりが装置内に侵入するという問
題点が残されていた。
考案の目的
本考案は上記従来の問題を解決するもので、カ
ートリツヂを装置の外から搬入させるときに、カ
ートリツヂ上に付着しているごみやほこりを除去
し、又搬入口から装置内へのごみやほこりの侵入
を防止することを目的とする。
ートリツヂを装置の外から搬入させるときに、カ
ートリツヂ上に付着しているごみやほこりを除去
し、又搬入口から装置内へのごみやほこりの侵入
を防止することを目的とする。
考案の構成
上記目的を達成するため、本考案の原盤作製装
置は、記録原盤を作製する装置において、前記装
置上方に設けられた清浄空気発生部と、前記装置
の底部より前記清浄空気が流出し実質的に装置内
に陽圧となるように装置上面及び側面を略密封状
態に覆つたカバーと、このカバーの一部に開閉自
在に設けられた搬入口と、この搬入口より前記装
置外に突出可能で内部に記録原盤を収納したカー
トリツヂを略水平状態に載置し得る搬送台とを有
したものである。
置は、記録原盤を作製する装置において、前記装
置上方に設けられた清浄空気発生部と、前記装置
の底部より前記清浄空気が流出し実質的に装置内
に陽圧となるように装置上面及び側面を略密封状
態に覆つたカバーと、このカバーの一部に開閉自
在に設けられた搬入口と、この搬入口より前記装
置外に突出可能で内部に記録原盤を収納したカー
トリツヂを略水平状態に載置し得る搬送台とを有
したものである。
実施例の説明
以下、本考案の一実施例について、図面に基づ
いて説明する。
いて説明する。
図においては1は装置上方に設けた清浄空気発
生部であり、これは具体的にはエアーフイルター
であつて、エアーダクト2によつて送られてくる
空気のクリーンにして装置内下方に供給するもの
である。第1図では既にカートリツヂ3が装置内
に収納されているとことろを示している。清浄空
気発生部1より出た空気流は所謂ダウンフローの
流れとなるように、装置上面及び装置側面がカバ
ー4によつて略密封状態に保たれて、装置底部5
のみより空気が流出するようになつている。この
ダウンフローの流れによつて装置内に入つたカー
トリツヂ3及びその中のガラス原盤には常に清浄
な空気が上方より吹き付けられることになる。装
置側面から空気が流出すると下方に向かう流れに
乱れや渦等が生じて、ごみやほこりを巻き上げる
ことになるので好ましくない。第2図は装置内に
カートリツヂ3を挿入するところを示している。
この第2図において前面のカバー4aの一部を構
成する蓋体4bが開いており、その部分が搬入口
6になる。装置がカートリツヂの装着開始状態に
セツトされると、蓋体4bが開いて搬送台7が装
置の外に突出する。そしてオペレータ又はロボツ
ト等によつてカートリツヂ3が搬送台7の上に略
水平状態にセツトされる。一般に装置内はクリー
ン度が100以下の清浄な雰囲気に保たれるが、装
置外はクリーン度が10000〜100000又はそれ以上
の雰囲気であるので、装置外に置かれていたカー
トリツヂの蓋の上等にはごみやほこりが積つてい
ると考えられる。本考案の装置ではカートリツヂ
3が搬送台7の上にセツトされてガイド8によつ
て装置内に移動し収納されるまでに、装置中の清
浄な空気が搬入口6より流出し、その際にカート
リツヂ3の上に積つたごみやほこりを装置外に吹
き飛ばす。詳しくは清浄空気発生部1より出た空
気が搬入口6から流出しやすいように、前面のカ
バー4aは前方に傾斜している。従つてカバー4
aに沿つて下方に向かつた空気はセツトされたカ
ートリツヂ3の上に当り、そのまま搬入口6から
カートリツヂ3の上のごみやほこりと共に流出す
る。カートリツヂ3がガイド8に沿つて装置内に
セツトされると、蓋体4bが閉じて第1図に示す
状態となる。カートリツヂ3の上のごみやほこり
は既に吹き飛ばされており、上方がダウンフロー
の清浄な空気が吹き付けられている。この状態で
始めてカートリツヂ3の蓋の開放が可能となる。
生部であり、これは具体的にはエアーフイルター
であつて、エアーダクト2によつて送られてくる
空気のクリーンにして装置内下方に供給するもの
である。第1図では既にカートリツヂ3が装置内
に収納されているとことろを示している。清浄空
気発生部1より出た空気流は所謂ダウンフローの
流れとなるように、装置上面及び装置側面がカバ
ー4によつて略密封状態に保たれて、装置底部5
のみより空気が流出するようになつている。この
ダウンフローの流れによつて装置内に入つたカー
トリツヂ3及びその中のガラス原盤には常に清浄
な空気が上方より吹き付けられることになる。装
置側面から空気が流出すると下方に向かう流れに
乱れや渦等が生じて、ごみやほこりを巻き上げる
ことになるので好ましくない。第2図は装置内に
カートリツヂ3を挿入するところを示している。
この第2図において前面のカバー4aの一部を構
成する蓋体4bが開いており、その部分が搬入口
6になる。装置がカートリツヂの装着開始状態に
セツトされると、蓋体4bが開いて搬送台7が装
置の外に突出する。そしてオペレータ又はロボツ
ト等によつてカートリツヂ3が搬送台7の上に略
水平状態にセツトされる。一般に装置内はクリー
ン度が100以下の清浄な雰囲気に保たれるが、装
置外はクリーン度が10000〜100000又はそれ以上
の雰囲気であるので、装置外に置かれていたカー
トリツヂの蓋の上等にはごみやほこりが積つてい
ると考えられる。本考案の装置ではカートリツヂ
3が搬送台7の上にセツトされてガイド8によつ
て装置内に移動し収納されるまでに、装置中の清
浄な空気が搬入口6より流出し、その際にカート
リツヂ3の上に積つたごみやほこりを装置外に吹
き飛ばす。詳しくは清浄空気発生部1より出た空
気が搬入口6から流出しやすいように、前面のカ
バー4aは前方に傾斜している。従つてカバー4
aに沿つて下方に向かつた空気はセツトされたカ
ートリツヂ3の上に当り、そのまま搬入口6から
カートリツヂ3の上のごみやほこりと共に流出す
る。カートリツヂ3がガイド8に沿つて装置内に
セツトされると、蓋体4bが閉じて第1図に示す
状態となる。カートリツヂ3の上のごみやほこり
は既に吹き飛ばされており、上方がダウンフロー
の清浄な空気が吹き付けられている。この状態で
始めてカートリツヂ3の蓋の開放が可能となる。
次にカートリツヂ3について詳細に説明する。
カートリツヂ3はガラス原盤9を載置する本体1
0と、本体10にヒンジによつて開閉自在に取り
付けられた蓋11とから成り立つている。第3図
は搬送台7の上に載置されたカートリツヂ3を示
している。12はカートリツヂ3のヒンジ部分で
ある。カートリツヂ3は矢印Aの方向から搬送台
7の上に載置されて、搬送台7のストツパー7
a,7bに当接するところで位置決めされて止ま
る。この状態を第2図にも示している。次に搬送
台7がガイド8に沿つて矢印A方向に動き、装置
内の所定の位置で停止する。この状態を第1図に
示している。前記カートリツヂ3の蓋11及び本
体10の矢印A方向の側面には夫々凹部13,1
4が設けられている。これは装置内の所定の位置
にカートリツヂ3が収納されたときにカートリツ
ヂ3の蓋11を開くときに作用するものであり、
前記本体10の凹部14にはピン15が嵌合す
る。このピン15は搬送台7に固定することがで
きる。その場合、カートリツヂ3が搬送台7にセ
ツトされたときにピン15と凹部14が嵌合する
ことになる。又、搬送台7が装置内の所定の位置
にきたときにピン15と凹部14が嵌合するよう
にしても良い。ピン15は何れの場合も固定され
ていて、蓋11の開放動作時に本体10が動かな
いように押さえ付ける役目を果す。搬送台7が装
置内の所定の位置に来ると前記凹部13にピン1
6が嵌合するようになつている。これらの動作は
何れも特別な動きの機構を必要とせず、搬送台7
が矢印A方向に動いて、装置内の所定の位置にセ
ツトされる動作の中で行なわれる。前記ピン16
はレバー17の先端に固定され、レバー17は図
外の軸受に支持された支点18の周りに回動自在
に取り付けられている。つまりピン16は蓋11
の開閉方向に移動可能になつている。前記レバー
17には中央部に軸19を介してチヤンネル部材
20が取り付けられており、このチヤンネル部材
20は軸19の周りにレバー17に対して回動自
在になつている。チヤンネル部材20はエアーシ
リンダ21のアクチユエータロツド22と一体に
動くようにアクチユエータロツド22の上端に固
定されている。又前記エアーシリンダ21は下端
が支点23の周りに回動自在に取り付けられてい
る。前記カートリツヂ3が装置内の所定の位置で
停止し、前記ピン15,16が凹部13,14に
嵌合した状態になると、エアーシリンダ21のア
クチユエータロツド22が上方に動き、レバー1
7の回転に伴つてピン16が蓋11を開き始め
る。その状態を第4図に示す。このときピン15
はカートリツヂ本体10の凹部14に嵌合してお
り、本体10の動きを押さえている。本体10に
載置されたガラス原盤9の一部が第4図に見られ
る。蓋11が更に開くと、図外のガラス原盤搬送
機構によつてガラス原盤9がカートリツヂ3から
取り出され各マスタリング装置夫々の工程作業台
に載せられる。これらは例えばレジストを塗布す
るためのターンテーブルのようなものである。そ
の作業が終了すると、前記とは逆の動作でガラス
原盤9がカートリツヂ3内に再び収納され、装置
の外に取り出される。以上のようにカートリツヂ
3を載せた搬送台7の動き及びエアーシリンダ2
1の動きのみによつてカートリツヂ3の位置内へ
の着脱及び、蓋11の開閉の動作が行なわれる。
カートリツヂ3が正しく所定の位置にセツトされ
ないと、ピン16と凹部13の嵌合が行なわれ
ず。カートリツヂ3の蓋11が開かれない。これ
はカートリツヂ3からガラス原盤9を取り出すガ
ラス原盤搬送機構の動作を保証するための安全対
策になつている。つまりカートリツヂ3が所定の
正しい位置にセツトされていないと、ガラス原盤
9の取り出し動作が不完全となり、事故を起こす
可能性が大きくなるからである。ガラス原盤9が
カートリツヂ3の外に取り出されている間は、常
に上方から清浄な空気がガラス原盤9上に流れて
おり、ごみやほこりの付着を阻止している。又、
カートリツヂ3と共にごみやほこりが装置内に侵
入してもダウンフローの流れによつて装置底部5
より装置外に流出するのでガラス原盤9の上に付
着することがない。装置前面のカバー4aの蓋体
4bは特別な駆動機構を用いることなく、搬送台
7の一部で押されることによつて開かれるように
することができる。このとき蓋体4bは常に閉じ
る方向にばねで付勢されている必要がある。
カートリツヂ3はガラス原盤9を載置する本体1
0と、本体10にヒンジによつて開閉自在に取り
付けられた蓋11とから成り立つている。第3図
は搬送台7の上に載置されたカートリツヂ3を示
している。12はカートリツヂ3のヒンジ部分で
ある。カートリツヂ3は矢印Aの方向から搬送台
7の上に載置されて、搬送台7のストツパー7
a,7bに当接するところで位置決めされて止ま
る。この状態を第2図にも示している。次に搬送
台7がガイド8に沿つて矢印A方向に動き、装置
内の所定の位置で停止する。この状態を第1図に
示している。前記カートリツヂ3の蓋11及び本
体10の矢印A方向の側面には夫々凹部13,1
4が設けられている。これは装置内の所定の位置
にカートリツヂ3が収納されたときにカートリツ
ヂ3の蓋11を開くときに作用するものであり、
前記本体10の凹部14にはピン15が嵌合す
る。このピン15は搬送台7に固定することがで
きる。その場合、カートリツヂ3が搬送台7にセ
ツトされたときにピン15と凹部14が嵌合する
ことになる。又、搬送台7が装置内の所定の位置
にきたときにピン15と凹部14が嵌合するよう
にしても良い。ピン15は何れの場合も固定され
ていて、蓋11の開放動作時に本体10が動かな
いように押さえ付ける役目を果す。搬送台7が装
置内の所定の位置に来ると前記凹部13にピン1
6が嵌合するようになつている。これらの動作は
何れも特別な動きの機構を必要とせず、搬送台7
が矢印A方向に動いて、装置内の所定の位置にセ
ツトされる動作の中で行なわれる。前記ピン16
はレバー17の先端に固定され、レバー17は図
外の軸受に支持された支点18の周りに回動自在
に取り付けられている。つまりピン16は蓋11
の開閉方向に移動可能になつている。前記レバー
17には中央部に軸19を介してチヤンネル部材
20が取り付けられており、このチヤンネル部材
20は軸19の周りにレバー17に対して回動自
在になつている。チヤンネル部材20はエアーシ
リンダ21のアクチユエータロツド22と一体に
動くようにアクチユエータロツド22の上端に固
定されている。又前記エアーシリンダ21は下端
が支点23の周りに回動自在に取り付けられてい
る。前記カートリツヂ3が装置内の所定の位置で
停止し、前記ピン15,16が凹部13,14に
嵌合した状態になると、エアーシリンダ21のア
クチユエータロツド22が上方に動き、レバー1
7の回転に伴つてピン16が蓋11を開き始め
る。その状態を第4図に示す。このときピン15
はカートリツヂ本体10の凹部14に嵌合してお
り、本体10の動きを押さえている。本体10に
載置されたガラス原盤9の一部が第4図に見られ
る。蓋11が更に開くと、図外のガラス原盤搬送
機構によつてガラス原盤9がカートリツヂ3から
取り出され各マスタリング装置夫々の工程作業台
に載せられる。これらは例えばレジストを塗布す
るためのターンテーブルのようなものである。そ
の作業が終了すると、前記とは逆の動作でガラス
原盤9がカートリツヂ3内に再び収納され、装置
の外に取り出される。以上のようにカートリツヂ
3を載せた搬送台7の動き及びエアーシリンダ2
1の動きのみによつてカートリツヂ3の位置内へ
の着脱及び、蓋11の開閉の動作が行なわれる。
カートリツヂ3が正しく所定の位置にセツトされ
ないと、ピン16と凹部13の嵌合が行なわれ
ず。カートリツヂ3の蓋11が開かれない。これ
はカートリツヂ3からガラス原盤9を取り出すガ
ラス原盤搬送機構の動作を保証するための安全対
策になつている。つまりカートリツヂ3が所定の
正しい位置にセツトされていないと、ガラス原盤
9の取り出し動作が不完全となり、事故を起こす
可能性が大きくなるからである。ガラス原盤9が
カートリツヂ3の外に取り出されている間は、常
に上方から清浄な空気がガラス原盤9上に流れて
おり、ごみやほこりの付着を阻止している。又、
カートリツヂ3と共にごみやほこりが装置内に侵
入してもダウンフローの流れによつて装置底部5
より装置外に流出するのでガラス原盤9の上に付
着することがない。装置前面のカバー4aの蓋体
4bは特別な駆動機構を用いることなく、搬送台
7の一部で押されることによつて開かれるように
することができる。このとき蓋体4bは常に閉じ
る方向にばねで付勢されている必要がある。
考案の効果
以上のように本考案によれば次の効果を得るこ
とができる。
とができる。
カートリツヂが装置に装着される際に、装置
内の陽圧の清浄空気がカートリツヂ上のごみや
ほこりを装置外へ吹き飛ばすので、装置内への
ごみやほこりの侵入が軽減される。
内の陽圧の清浄空気がカートリツヂ上のごみや
ほこりを装置外へ吹き飛ばすので、装置内への
ごみやほこりの侵入が軽減される。
装置内でカートリツヂの蓋が開き中のガラス
原盤が露呈するときは装置上方より清浄空気が
ダウンフローの状態で流れており、ガラス原盤
上へのごみやほこりの付着が阻止される。
原盤が露呈するときは装置上方より清浄空気が
ダウンフローの状態で流れており、ガラス原盤
上へのごみやほこりの付着が阻止される。
仮に装置内にごみやほこりが侵入しても、ご
みやほこりはタウンフローの流れのため常に装
置底部に流されて装置外へと出て行き、装置内
に残ることがない。
みやほこりはタウンフローの流れのため常に装
置底部に流されて装置外へと出て行き、装置内
に残ることがない。
図面は本考案の一実施例を示し、第1図はカー
トリツヂが挿入された状態を示す縦断面図、第2
図はカートリツヂが挿入される状態を示す縦断面
図、第3図は要部拡大斜視図、第4図は動作説明
のための要部拡大斜視図である。 1……清浄空気発生部、2……エアーダクト、
3……カートリツヂ、4……カバー、4a……前
面カバー、4b……蓋体、5……装置底部、6…
…搬入口、7……搬送台、7a,7b……ストツ
パー、8……ガイド、9……ガラス原盤。
トリツヂが挿入された状態を示す縦断面図、第2
図はカートリツヂが挿入される状態を示す縦断面
図、第3図は要部拡大斜視図、第4図は動作説明
のための要部拡大斜視図である。 1……清浄空気発生部、2……エアーダクト、
3……カートリツヂ、4……カバー、4a……前
面カバー、4b……蓋体、5……装置底部、6…
…搬入口、7……搬送台、7a,7b……ストツ
パー、8……ガイド、9……ガラス原盤。
Claims (1)
- 記録原盤を作製する装置において、前記装置上
方に設けられた清浄空気発生部と、前記装置の底
部より前記清浄空気が流出し実質的に装置内に陽
圧となるように装置上面及び側面を略密封状態に
覆つたカバーと、このカバーの一部に開閉自在に
設けられた搬入口と、この搬入口より前記装置外
に突出可能で内部に記録原盤を収納したカートリ
ツヂを略水平状態に載置し得る搬送台とを有した
原盤作製装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5048284U JPS60163523U (ja) | 1984-04-05 | 1984-04-05 | 原盤作製装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5048284U JPS60163523U (ja) | 1984-04-05 | 1984-04-05 | 原盤作製装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60163523U JPS60163523U (ja) | 1985-10-30 |
| JPH0333941Y2 true JPH0333941Y2 (ja) | 1991-07-18 |
Family
ID=30568654
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5048284U Granted JPS60163523U (ja) | 1984-04-05 | 1984-04-05 | 原盤作製装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60163523U (ja) |
-
1984
- 1984-04-05 JP JP5048284U patent/JPS60163523U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60163523U (ja) | 1985-10-30 |
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