JPH0333940Y2 - - Google Patents
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- JPH0333940Y2 JPH0333940Y2 JP3866384U JP3866384U JPH0333940Y2 JP H0333940 Y2 JPH0333940 Y2 JP H0333940Y2 JP 3866384 U JP3866384 U JP 3866384U JP 3866384 U JP3866384 U JP 3866384U JP H0333940 Y2 JPH0333940 Y2 JP H0333940Y2
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- JP
- Japan
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- cartridge
- lid
- main body
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- recess
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 25
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
産業上の利用分野
本考案はビデオデイスク、コンパクトデイスク
又はデジタルメモリー用の光デイスク等の高密度
記録媒体の原盤作製装置に関するものである。
又はデジタルメモリー用の光デイスク等の高密度
記録媒体の原盤作製装置に関するものである。
従来例の構成とその問題点
高密度記録原盤を作る工程は一般にマスタリン
グと呼ばれているが、ガラス原盤の洗浄、感光剤
の塗布、ベーキング、ガラス原盤の傷検査、レー
ザ等による信号等の記録、現像等の工程が含まれ
ている。上記のマスタリング工程において、記録
原盤の表面上に空気中のごみやほこり等が付着す
ると、それが最終デイスクの状態で信号のドロツ
プアウトやエラーの原因となり、デイスクの性能
を著しく低下させる。そのために従来よりマスタ
リング工程はクリーン度の高いクリーンルーム内
で作業が行なわれて来た。しかし、ガラス原盤を
人が取扱うために、オペレータから発生する塵埃
やハンドリングによる原盤の汚れ等が生じてい
た。そこでマスタリング工程でオペレータによる
ガラス原盤の汚染又はクリーンルーム内のほこり
による汚れをなくすために、ガラス原盤をカート
リツヂ内に収納し、オペレータはカートリツヂと
して原盤を取扱うことにより直接ガラス原盤にさ
わらないシステムが考えられている。このシステ
ムではクリーン度を高くした装置内でのみガラス
原盤はカートリツヂの外に出るので、空気中のほ
こりによる汚染も避けられる。又、装置のある部
屋全体のクリーン度を従来のように高くする必要
がないので、設備のローコスト化が図れる等の利
点も有している。
グと呼ばれているが、ガラス原盤の洗浄、感光剤
の塗布、ベーキング、ガラス原盤の傷検査、レー
ザ等による信号等の記録、現像等の工程が含まれ
ている。上記のマスタリング工程において、記録
原盤の表面上に空気中のごみやほこり等が付着す
ると、それが最終デイスクの状態で信号のドロツ
プアウトやエラーの原因となり、デイスクの性能
を著しく低下させる。そのために従来よりマスタ
リング工程はクリーン度の高いクリーンルーム内
で作業が行なわれて来た。しかし、ガラス原盤を
人が取扱うために、オペレータから発生する塵埃
やハンドリングによる原盤の汚れ等が生じてい
た。そこでマスタリング工程でオペレータによる
ガラス原盤の汚染又はクリーンルーム内のほこり
による汚れをなくすために、ガラス原盤をカート
リツヂ内に収納し、オペレータはカートリツヂと
して原盤を取扱うことにより直接ガラス原盤にさ
わらないシステムが考えられている。このシステ
ムではクリーン度を高くした装置内でのみガラス
原盤はカートリツヂの外に出るので、空気中のほ
こりによる汚染も避けられる。又、装置のある部
屋全体のクリーン度を従来のように高くする必要
がないので、設備のローコスト化が図れる等の利
点も有している。
考案の目的
本考案は上記の点に鑑み為されたもので、ガラ
ス原盤をカートリツヂ内に収納したままでマスタ
リングの各機器に着脱できるシステムにおいて、
エラーレートの低い記録原盤を作製することを目
的とする。
ス原盤をカートリツヂ内に収納したままでマスタ
リングの各機器に着脱できるシステムにおいて、
エラーレートの低い記録原盤を作製することを目
的とする。
考案の構成
上記目的を達成するため、本考案の原盤作製装
置は、記録原盤を作製する装置において、前記記
録原盤を収納し本体とこの本体にヒンジによつて
開閉自在に取り付けられた蓋とからなるカートリ
ツヂと、前記本体と前記蓋の側面に設けられた凹
部と、前記カートリツヂを装置外から装置内に搬
送する搬送台又は前記装置内に設けられて前記本
体側面の凹部と嵌合するピンと、前記カートリツ
ヂが前記装置内の所定の位置に収納されたときに
前記蓋側面の凹部に嵌合し前記蓋の開閉方向に移
動可能に前記装置内に設けられたピンとを有した
ものである。
置は、記録原盤を作製する装置において、前記記
録原盤を収納し本体とこの本体にヒンジによつて
開閉自在に取り付けられた蓋とからなるカートリ
ツヂと、前記本体と前記蓋の側面に設けられた凹
部と、前記カートリツヂを装置外から装置内に搬
送する搬送台又は前記装置内に設けられて前記本
体側面の凹部と嵌合するピンと、前記カートリツ
ヂが前記装置内の所定の位置に収納されたときに
前記蓋側面の凹部に嵌合し前記蓋の開閉方向に移
動可能に前記装置内に設けられたピンとを有した
ものである。
実施例の説明
以下、本考案の一実施例について、図面に基づ
いて説明する。
いて説明する。
図においては1は装置上方に設けた洗浄空気発
生部であり、これは具体的にはエアーフイルター
であつて、エアーダクト2によつて送られてくる
空気をクリーンにして装置内下方に供給するもの
である。第1図では既にカートリツヂ3が装置内
に収納されているとことろを示している。洗浄空
気発生部1より出た空気流は所謂ダウンフローの
流れとなるように、装置上面及び装置側面がカバ
ー4によつて略密封状態に保たれて、装置底部5
のみより空気が流出するようになつている。この
ダウンフローの流れによつて装置内に入つたカー
トリツヂ3及びその中のガラス原盤には常に清浄
な空気が上方より吹き付けられることになる。装
置側面から空気が流出すると下方に向かう流れに
乱れや渦等が生じて、ほこりを巻き上げることに
なるので好ましくない。第2図は装置内にカート
リツヂ3を挿入するところを示している。この第
2図において前面のカバー4aの一部を構成する
蓋体4bが開いており、その部分が搬入口6にな
る。装置がカートリツヂの装着開始状態にセツト
されると、蓋体4bが開いて搬送台7が装置の外
に突出する。そしてオペレータ又はロボツト等に
よつてカートリツヂ3が搬送台7の上に略水平状
態にセツトされる。一般に装置内はクリーン度が
100以下の清浄な雰囲気に保たれているが、装置
外はクリーン度が10000〜100000又はそれ以上の
雰囲気であるので、装置外に置かれていたカート
リツヂの蓋の上等にはほこりが積つていると考え
られる。本考案の装置ではカートリツヂ3が搬送
台7の上にセツトされてガイド8によつて装置内
に移動し収納されるまでに、装置中の清浄な空気
が搬入口6より流出し、その際にカートリツヂ3
の上に積つたほこりを装置外に吹き飛ばす。詳し
くは清浄空気発生部1より出た空気が搬入口6か
ら流出しやすいように、前面のカバー4aは前方
に傾斜している。従つてカバー4aに沿つて下方
に向かつた空気はセツトされたカートリツヂ3の
上に当り、そのまま搬入口6からカートリツヂ3
の上のほこりと共に流出する。カートリツヂ3が
ガイド8に沿つて装置内にセツトされると、蓋体
4bが閉じて第1図に示す状態となる。カートリ
ツヂ3の上のほこりは既に吹き飛ばされており、
上方からダウンフローの清浄な空気が吹き付けら
れている。この状態で始めてカートリツヂ3の蓋
の開放が可能となる。
生部であり、これは具体的にはエアーフイルター
であつて、エアーダクト2によつて送られてくる
空気をクリーンにして装置内下方に供給するもの
である。第1図では既にカートリツヂ3が装置内
に収納されているとことろを示している。洗浄空
気発生部1より出た空気流は所謂ダウンフローの
流れとなるように、装置上面及び装置側面がカバ
ー4によつて略密封状態に保たれて、装置底部5
のみより空気が流出するようになつている。この
ダウンフローの流れによつて装置内に入つたカー
トリツヂ3及びその中のガラス原盤には常に清浄
な空気が上方より吹き付けられることになる。装
置側面から空気が流出すると下方に向かう流れに
乱れや渦等が生じて、ほこりを巻き上げることに
なるので好ましくない。第2図は装置内にカート
リツヂ3を挿入するところを示している。この第
2図において前面のカバー4aの一部を構成する
蓋体4bが開いており、その部分が搬入口6にな
る。装置がカートリツヂの装着開始状態にセツト
されると、蓋体4bが開いて搬送台7が装置の外
に突出する。そしてオペレータ又はロボツト等に
よつてカートリツヂ3が搬送台7の上に略水平状
態にセツトされる。一般に装置内はクリーン度が
100以下の清浄な雰囲気に保たれているが、装置
外はクリーン度が10000〜100000又はそれ以上の
雰囲気であるので、装置外に置かれていたカート
リツヂの蓋の上等にはほこりが積つていると考え
られる。本考案の装置ではカートリツヂ3が搬送
台7の上にセツトされてガイド8によつて装置内
に移動し収納されるまでに、装置中の清浄な空気
が搬入口6より流出し、その際にカートリツヂ3
の上に積つたほこりを装置外に吹き飛ばす。詳し
くは清浄空気発生部1より出た空気が搬入口6か
ら流出しやすいように、前面のカバー4aは前方
に傾斜している。従つてカバー4aに沿つて下方
に向かつた空気はセツトされたカートリツヂ3の
上に当り、そのまま搬入口6からカートリツヂ3
の上のほこりと共に流出する。カートリツヂ3が
ガイド8に沿つて装置内にセツトされると、蓋体
4bが閉じて第1図に示す状態となる。カートリ
ツヂ3の上のほこりは既に吹き飛ばされており、
上方からダウンフローの清浄な空気が吹き付けら
れている。この状態で始めてカートリツヂ3の蓋
の開放が可能となる。
次にカートリツヂ3について詳細に説明する。
カートリツヂ3はガラス原盤9を載置する本体1
0と、本体10にヒンジによつて開閉自在に取り
付けられた蓋11とから成り立つている。第3図
は搬送台7の上に載置されたカートリツヂ3を示
している。12はカートリツヂ3のヒンジ部分で
ある。カートリツヂ3は矢印Aの方向から搬送台
7の上に載置されて、搬送台7のストツパー7
a,7bに当接するところで位置決めされて止ま
る。この状態を第2図にも示している。次に搬送
台7がガイド8に沿つて矢印A方向に動き、装置
内の所定の位置で停止する。この状態を第1図に
示している。前記カートリツヂ3の蓋11及び本
体10の矢印A方向の側面には夫々凹部13,1
4が設けられている。これは装置内の所定の位置
にカートリツヂ3が収納されたときにカートリツ
ヂ3の蓋11を開くときに作用するものであり、
前記本体10の凹部14にはピン15が嵌合す
る。このピン15は搬送台7に固定することがで
きる。その場合、カートリツヂ3が搬送台7にセ
ツトされたときにピン15と凹部14が嵌合する
ことになる。又、搬送台7が装置内の所定の位置
にきたときにピン15と凹部14が嵌合するよう
にしても良い。ピン15は何れの場合も固定され
ていて、蓋11の開放動作時に本体10が動かな
いように押さえ付ける役目を果す。搬送台7が装
置内の所定の位置に来ると前記凹部13にピン1
6が嵌合するようになつている。これらの動作は
何れも特別な動きの機構を必要とせず、搬送台7
が矢印A方向に動いて、装置内の所定の位置にセ
ツトされる動作の中で行なわれる。前記ピン16
はレバー17の先端に固定され、レバー17は図
外の軸受に支持された支点18の周りに回動自在
に取り付けられている。つまりピン16は蓋11
の開閉方向に移動可能になつている。前記レバー
17には中央部に軸19を介してチヤンネル部材
20が取り付けられており、このチヤンネル部材
20は軸19の周りにレバー17に対して回動自
在になつている。チヤンネル部材20はエアーシ
リンダ21のアクチユエータロツド22と一体に
動くようにアクチユエータロツド22の上端に固
定されている。又前記エアーシリンダ21は下端
が支点23の周りに回動自在に取り付けられてい
る。前記カートリツヂ3が装置内に所定の位置で
停止し、前記ピン15,16が凹部13,14に
嵌合した状態になると、エアーシリンダ21のア
クチユエータロツド22が上方に動き、レバー1
7の回転に伴つてピン16が蓋11を開き始め
る。その状態を第4図に示す。このときピン15
はカートリツヂ本体10の凹部14に嵌合してお
り、本体10の動きを押さえている。本体10に
載置されたガラス原盤9の一部が第4図に見られ
る。蓋11が更に開くと、図外のガラス原盤搬送
機構によつてガラス原盤9がカートリツヂ3から
取り出され各マスタリンダ装置夫々の工程作業台
に載せられる。それらは例えばレジストを塗布す
るためのターンテーブルのようなものである。そ
の作業が終了すると、前記とは逆の動作でガラス
原盤9がカートリツヂ3内に再び収納され、装置
の外に取り出される。以上のようにカートリツヂ
3を載せた搬送台7の動き及びエアーシリンダ2
1の動きのみによつてカートリツヂ3の装置内へ
の着脱及び、蓋11の開閉の動作が行なわれる。
カートリツヂ3が正しく所定の位置にセツトされ
ないと、ピン16と凹部13の嵌合が行なわれ
ず、カートリツヂ3の蓋11が開かれない。これ
はカートリツヂ3からガラス原盤9を取り出すガ
ラス原盤搬送機構の動作を保証するための安全対
策になつている。つまりカートリツヂ3が所定の
正しい位置にセツトされていないと、ガラス原盤
9の取り出し動作が不完全となり、事故を起こす
可能性が大きくなるからである。ガラス原盤9が
カートリツヂ3の外に取り出されている間は、常
に上方から清浄な空気がガラス原盤9上に流れて
おり、ほこりの付着を阻止している。又、カート
リツヂ3と共に装置内に侵入したほこりはダウン
フローの流れによつて装置底部5より装置外に流
出するのでガラス原盤9の上に付着することがな
い。装置前面のカバー4aの蓋体4bは特別な駆
動機構を用いることなく、搬送台7の一部で押さ
れることによつて開かれるようにすることができ
る。このとき蓋体4bは常に閉じる方向にばねで
付勢されている必要がある。
カートリツヂ3はガラス原盤9を載置する本体1
0と、本体10にヒンジによつて開閉自在に取り
付けられた蓋11とから成り立つている。第3図
は搬送台7の上に載置されたカートリツヂ3を示
している。12はカートリツヂ3のヒンジ部分で
ある。カートリツヂ3は矢印Aの方向から搬送台
7の上に載置されて、搬送台7のストツパー7
a,7bに当接するところで位置決めされて止ま
る。この状態を第2図にも示している。次に搬送
台7がガイド8に沿つて矢印A方向に動き、装置
内の所定の位置で停止する。この状態を第1図に
示している。前記カートリツヂ3の蓋11及び本
体10の矢印A方向の側面には夫々凹部13,1
4が設けられている。これは装置内の所定の位置
にカートリツヂ3が収納されたときにカートリツ
ヂ3の蓋11を開くときに作用するものであり、
前記本体10の凹部14にはピン15が嵌合す
る。このピン15は搬送台7に固定することがで
きる。その場合、カートリツヂ3が搬送台7にセ
ツトされたときにピン15と凹部14が嵌合する
ことになる。又、搬送台7が装置内の所定の位置
にきたときにピン15と凹部14が嵌合するよう
にしても良い。ピン15は何れの場合も固定され
ていて、蓋11の開放動作時に本体10が動かな
いように押さえ付ける役目を果す。搬送台7が装
置内の所定の位置に来ると前記凹部13にピン1
6が嵌合するようになつている。これらの動作は
何れも特別な動きの機構を必要とせず、搬送台7
が矢印A方向に動いて、装置内の所定の位置にセ
ツトされる動作の中で行なわれる。前記ピン16
はレバー17の先端に固定され、レバー17は図
外の軸受に支持された支点18の周りに回動自在
に取り付けられている。つまりピン16は蓋11
の開閉方向に移動可能になつている。前記レバー
17には中央部に軸19を介してチヤンネル部材
20が取り付けられており、このチヤンネル部材
20は軸19の周りにレバー17に対して回動自
在になつている。チヤンネル部材20はエアーシ
リンダ21のアクチユエータロツド22と一体に
動くようにアクチユエータロツド22の上端に固
定されている。又前記エアーシリンダ21は下端
が支点23の周りに回動自在に取り付けられてい
る。前記カートリツヂ3が装置内に所定の位置で
停止し、前記ピン15,16が凹部13,14に
嵌合した状態になると、エアーシリンダ21のア
クチユエータロツド22が上方に動き、レバー1
7の回転に伴つてピン16が蓋11を開き始め
る。その状態を第4図に示す。このときピン15
はカートリツヂ本体10の凹部14に嵌合してお
り、本体10の動きを押さえている。本体10に
載置されたガラス原盤9の一部が第4図に見られ
る。蓋11が更に開くと、図外のガラス原盤搬送
機構によつてガラス原盤9がカートリツヂ3から
取り出され各マスタリンダ装置夫々の工程作業台
に載せられる。それらは例えばレジストを塗布す
るためのターンテーブルのようなものである。そ
の作業が終了すると、前記とは逆の動作でガラス
原盤9がカートリツヂ3内に再び収納され、装置
の外に取り出される。以上のようにカートリツヂ
3を載せた搬送台7の動き及びエアーシリンダ2
1の動きのみによつてカートリツヂ3の装置内へ
の着脱及び、蓋11の開閉の動作が行なわれる。
カートリツヂ3が正しく所定の位置にセツトされ
ないと、ピン16と凹部13の嵌合が行なわれ
ず、カートリツヂ3の蓋11が開かれない。これ
はカートリツヂ3からガラス原盤9を取り出すガ
ラス原盤搬送機構の動作を保証するための安全対
策になつている。つまりカートリツヂ3が所定の
正しい位置にセツトされていないと、ガラス原盤
9の取り出し動作が不完全となり、事故を起こす
可能性が大きくなるからである。ガラス原盤9が
カートリツヂ3の外に取り出されている間は、常
に上方から清浄な空気がガラス原盤9上に流れて
おり、ほこりの付着を阻止している。又、カート
リツヂ3と共に装置内に侵入したほこりはダウン
フローの流れによつて装置底部5より装置外に流
出するのでガラス原盤9の上に付着することがな
い。装置前面のカバー4aの蓋体4bは特別な駆
動機構を用いることなく、搬送台7の一部で押さ
れることによつて開かれるようにすることができ
る。このとき蓋体4bは常に閉じる方向にばねで
付勢されている必要がある。
考案の効果
以上のように本考案によれば次の効果を得るこ
とができる。
とができる。
カートリツヂの装置内への装着動作によつて
カートリツヂ蓋開閉時に作用するピンがカート
リツヂの本体及び蓋の凹部に嵌合される。その
ため、簡単な構成及び動作によつてカートリツ
ヂの装着及び蓋の開閉が行なわれる。
カートリツヂ蓋開閉時に作用するピンがカート
リツヂの本体及び蓋の凹部に嵌合される。その
ため、簡単な構成及び動作によつてカートリツ
ヂの装着及び蓋の開閉が行なわれる。
カートリツヂが装置内の正規の位置にセツト
されない限り蓋が開かれない。従つてカートリ
ツヂ内のガラス原盤とガラス原盤搬送機構が正
しい位置関係にないと蓋が開かず、ガラス原盤
の取り損ない等の事故防止を図ることができ
る。
されない限り蓋が開かれない。従つてカートリ
ツヂ内のガラス原盤とガラス原盤搬送機構が正
しい位置関係にないと蓋が開かず、ガラス原盤
の取り損ない等の事故防止を図ることができ
る。
カートリツヂが装置内に完全に収納されるま
で蓋が開かないので防塵効果がある。
で蓋が開かないので防塵効果がある。
図面は本考案の一実施例を示し、第1図はカー
トリツヂが挿入された状態を示す縦断面図、第2
図はカートリツヂが挿入される状態を示す縦断面
図、第3図は要部拡大斜視図、第4図は動作説明
のための要部拡大斜視図である。 1……清浄空気発生部、2……エアーダクト、
3……カートリツヂ、4……カバー、4a……前
面カバー、4b……蓋体、5……装置底部、6…
…搬入口、7……搬送台、7a,7b……ストツ
パー、8……ガイド、9……ガラス原盤、10…
…本体、11……蓋、12……ヒンジ部分、1
3,14……凹部、15,16……ピン、17…
…レバー、18……支点、19……軸、21……
エアーシリンダ、22……アクチユエータロツ
ド。
トリツヂが挿入された状態を示す縦断面図、第2
図はカートリツヂが挿入される状態を示す縦断面
図、第3図は要部拡大斜視図、第4図は動作説明
のための要部拡大斜視図である。 1……清浄空気発生部、2……エアーダクト、
3……カートリツヂ、4……カバー、4a……前
面カバー、4b……蓋体、5……装置底部、6…
…搬入口、7……搬送台、7a,7b……ストツ
パー、8……ガイド、9……ガラス原盤、10…
…本体、11……蓋、12……ヒンジ部分、1
3,14……凹部、15,16……ピン、17…
…レバー、18……支点、19……軸、21……
エアーシリンダ、22……アクチユエータロツ
ド。
Claims (1)
- 記録原盤を作製する装置において、前記記録原
盤を収納した本体とこの本体にヒンジによつて開
閉自在に取り付けられた蓋とからなるカートリツ
ヂと、前記本体と前記蓋の側面に設けられた凹部
と、前記カートリツヂを装置外から装置内に搬送
する搬送台又は前記装置内に設けられて前記本体
側面の凹部と嵌合するピンと、前記カートリツヂ
が前記装置内の所定の位置に収納されたときに前
記蓋側面の凹部に嵌合し前記蓋の開閉方向に移動
可能に前記装置内に設けられたピンとを有した原
盤作製装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3866384U JPS60150631U (ja) | 1984-03-16 | 1984-03-16 | 原盤作製装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3866384U JPS60150631U (ja) | 1984-03-16 | 1984-03-16 | 原盤作製装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60150631U JPS60150631U (ja) | 1985-10-07 |
| JPH0333940Y2 true JPH0333940Y2 (ja) | 1991-07-18 |
Family
ID=30545881
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3866384U Granted JPS60150631U (ja) | 1984-03-16 | 1984-03-16 | 原盤作製装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60150631U (ja) |
-
1984
- 1984-03-16 JP JP3866384U patent/JPS60150631U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60150631U (ja) | 1985-10-07 |
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