JPH02288322A - マスク収納用ケース - Google Patents
マスク収納用ケースInfo
- Publication number
- JPH02288322A JPH02288322A JP1109645A JP10964589A JPH02288322A JP H02288322 A JPH02288322 A JP H02288322A JP 1109645 A JP1109645 A JP 1109645A JP 10964589 A JP10964589 A JP 10964589A JP H02288322 A JPH02288322 A JP H02288322A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- case
- mask
- dust
- transporting
- storage case
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
〔産業上の利用分野］
本発明は、投影露光に使用されるマスクを収納するケー
スに関する６ 〔従来の技術］ 投影露光に使用されるマスクを収納するケースとしては
、 ｌ）マスクを露光位置へ搬送する装置に用いられるケー
ス。 ２）マスクの保管に使用されるケース。 ３）マスクの輸送、運搬に使用されるケース。 などがあり、合成樹脂や、金属などの材料からなるが、
従来、これらケースの内面は、粘着状態ではなかった。 例として、第２図は、マスクを露光位置へ搬送する装置
に用いられる合成樹脂製のケースを示す図であり、前記
ケースにはマスク（２１）が収納され、上蓋（２２）が
開けられた状態を示している。そして従来は、前記ケー
スの内側は粘着状態ではなかった。 〔発明が解決しようとする課題］ しかし、前述の従来技術では以下なる問題点を有する。 マスク収納用ケースの内面には、前記ケースを製造した
際の、または、大気中に存在する塵埃などが必ず付着す
る。これら塵埃は洗浄により、ある程度は除去可能であ
るが、完全に取り去ることはできず、当然の事ながら、
洗浄後においても再び付着する可能性がある。そして前
記ケース内面に付着した塵埃は、前記ケースの開閉操作
や、外部的振動によって脱離し、前記ケース内に収納さ
れているマスクの表面に再付着する。このようにマスク
表面に付着した塵埃は、投影露光時に転写され、パター
ン欠陥を引き起こす原因となる。 −例として、マスクを露光位置へ搬送する装置に用いら
れる洗浄済の合成樹脂製のマスク収納用ケースにマスク
を収納し、クリーンルーム内において前記ケースに対し
て、開閉操作を行ない、更に外部的振動を与えた後に、
マスク表面上の塵埃増加数を、１０回繰り返して測定し
たところ、１μｍ以上の大きさの塵埃が、平均して約５
個増えていることがわかった。また、これらの塵埃が付
着したマスクを、開口数が、０．４５程度の５．１縮小
投影露光装置で投影露光した時に、前記塵埃が転写され
、パターン欠陥となる確率を調査したところ、マスク上
の光透過部の占める面積にもよるが、５〜１０％という
結果を得た。 以上、従来のマスク収納用ケースは、その内面が粘着状
態でないために、前記ケースの開閉操作や、外部的振動
によって、前記ケース内面に付着していた塵埃が脱離し
、前記ケース内に収納されているマスクの表面に再付着
し、それが、投影露光時に転写され、パターン欠陥を引
き起こすという問題を有するものであった。 そこで本発明は、このような問題点を解決するもので、
その目的とするところは、ケース内面に付着した塵埃が
、前記ケースに対する開閉操作や、外部的振動によって
脱離するのを防止し、前記塵埃が、脱離後、前記ケース
に収納されているマスク表面に付着することによって起
こるパターン欠陥を低減するマスク収納用ケースを提供
するところにある。
スに関する６ 〔従来の技術］ 投影露光に使用されるマスクを収納するケースとしては
、 ｌ）マスクを露光位置へ搬送する装置に用いられるケー
ス。 ２）マスクの保管に使用されるケース。 ３）マスクの輸送、運搬に使用されるケース。 などがあり、合成樹脂や、金属などの材料からなるが、
従来、これらケースの内面は、粘着状態ではなかった。 例として、第２図は、マスクを露光位置へ搬送する装置
に用いられる合成樹脂製のケースを示す図であり、前記
ケースにはマスク（２１）が収納され、上蓋（２２）が
開けられた状態を示している。そして従来は、前記ケー
スの内側は粘着状態ではなかった。 〔発明が解決しようとする課題］ しかし、前述の従来技術では以下なる問題点を有する。 マスク収納用ケースの内面には、前記ケースを製造した
際の、または、大気中に存在する塵埃などが必ず付着す
る。これら塵埃は洗浄により、ある程度は除去可能であ
るが、完全に取り去ることはできず、当然の事ながら、
洗浄後においても再び付着する可能性がある。そして前
記ケース内面に付着した塵埃は、前記ケースの開閉操作
や、外部的振動によって脱離し、前記ケース内に収納さ
れているマスクの表面に再付着する。このようにマスク
表面に付着した塵埃は、投影露光時に転写され、パター
ン欠陥を引き起こす原因となる。 −例として、マスクを露光位置へ搬送する装置に用いら
れる洗浄済の合成樹脂製のマスク収納用ケースにマスク
を収納し、クリーンルーム内において前記ケースに対し
て、開閉操作を行ない、更に外部的振動を与えた後に、
マスク表面上の塵埃増加数を、１０回繰り返して測定し
たところ、１μｍ以上の大きさの塵埃が、平均して約５
個増えていることがわかった。また、これらの塵埃が付
着したマスクを、開口数が、０．４５程度の５．１縮小
投影露光装置で投影露光した時に、前記塵埃が転写され
、パターン欠陥となる確率を調査したところ、マスク上
の光透過部の占める面積にもよるが、５〜１０％という
結果を得た。 以上、従来のマスク収納用ケースは、その内面が粘着状
態でないために、前記ケースの開閉操作や、外部的振動
によって、前記ケース内面に付着していた塵埃が脱離し
、前記ケース内に収納されているマスクの表面に再付着
し、それが、投影露光時に転写され、パターン欠陥を引
き起こすという問題を有するものであった。 そこで本発明は、このような問題点を解決するもので、
その目的とするところは、ケース内面に付着した塵埃が
、前記ケースに対する開閉操作や、外部的振動によって
脱離するのを防止し、前記塵埃が、脱離後、前記ケース
に収納されているマスク表面に付着することによって起
こるパターン欠陥を低減するマスク収納用ケースを提供
するところにある。
本発明のマスク収納用ケースは、投影露光に使用される
マスクを収納するマスク収納用ケースにおいて、前記ケ
ース内面の全域、または、一部を、粘着状態にすること
を特徴とする。 ［実 施 例１ 第１図は１本発明のマスクを露光位置へ搬送する装置に
用いられるケースに、マスク（１１）を収納し、上蓋（
１２）を開けた状態を示す図である。また、前記ケース
は、合成樹脂からなり、前記マスク（１１）の表面に対
向する前記ケースの内面（図１の斜線部）は粘着剤が塗
布され、粘着状態になっている。 マスク表面に対向するケース内面を粘着状態にすること
で、前記ケース内面に付着している塵埃が、前記ケース
の開閉操作や、外部的振動によって脱離するのを防止し
、前記塵埃が脱離後、前記ケース内に収納されたマスク
表面に再付着することによって起こるパターン欠陥は著
しく低減された。 一例として、本発明のケースにマスクを収納し、クリー
ンルーム内において、前記ケースに対して開閉操作を行
ない、更に外部的振動を与えた後に、マスク表面上の塵
埃増加数を１０回繰り返し測定したところ、１μｍ以上
の大きさの塵埃が、平均して約１個増えているにすぎず
、従来に比べ、約１１５に低減することができた。また
、これに伴なって、投影露光時のパターン欠陥も著しく
低減された。 更に、前述は、マスク表面に対向するケースの内面のみ
を粘着状態にした場合であったが、前記ケースの内面す
べてを粘着状態にした場合についても同様な実験を行な
ったところ、前述の場合以上の良い結果を得ることがで
きた。 以上、本実施例では、マスクを露光位置へ搬送する装置
に用いられるマスク収納用ケースについて述べたが、前
記ケース以外に。 マスクの保管に使用されるケース。 ・マスクの輸送、運搬に使用されるケース６においても
、前述と同等の効果を確認した。更に、これらケースと
は別の用途に用いられるマスク収納用ケースにおいても
同様な効果が得られることは言うまでもない。 ［発明の効果１ 以上述べたように本発明によれば、投影露光に使用され
るマスクを収納するマスク収納用ケースにおいて、前記
ケース内面の全域、または、一部を粘着状態にすること
により、ケース内面に付着した塵埃が、前記ケースに対
する開閉操作や、外部的振動によって脱離するのを防止
し、前記塵埃が脱離後、前記ケースに収納されているマ
スク表面に再付着することにより起こるパターン欠陥を
低減する効果を有するするものである。
マスクを収納するマスク収納用ケースにおいて、前記ケ
ース内面の全域、または、一部を、粘着状態にすること
を特徴とする。 ［実 施 例１ 第１図は１本発明のマスクを露光位置へ搬送する装置に
用いられるケースに、マスク（１１）を収納し、上蓋（
１２）を開けた状態を示す図である。また、前記ケース
は、合成樹脂からなり、前記マスク（１１）の表面に対
向する前記ケースの内面（図１の斜線部）は粘着剤が塗
布され、粘着状態になっている。 マスク表面に対向するケース内面を粘着状態にすること
で、前記ケース内面に付着している塵埃が、前記ケース
の開閉操作や、外部的振動によって脱離するのを防止し
、前記塵埃が脱離後、前記ケース内に収納されたマスク
表面に再付着することによって起こるパターン欠陥は著
しく低減された。 一例として、本発明のケースにマスクを収納し、クリー
ンルーム内において、前記ケースに対して開閉操作を行
ない、更に外部的振動を与えた後に、マスク表面上の塵
埃増加数を１０回繰り返し測定したところ、１μｍ以上
の大きさの塵埃が、平均して約１個増えているにすぎず
、従来に比べ、約１１５に低減することができた。また
、これに伴なって、投影露光時のパターン欠陥も著しく
低減された。 更に、前述は、マスク表面に対向するケースの内面のみ
を粘着状態にした場合であったが、前記ケースの内面す
べてを粘着状態にした場合についても同様な実験を行な
ったところ、前述の場合以上の良い結果を得ることがで
きた。 以上、本実施例では、マスクを露光位置へ搬送する装置
に用いられるマスク収納用ケースについて述べたが、前
記ケース以外に。 マスクの保管に使用されるケース。 ・マスクの輸送、運搬に使用されるケース６においても
、前述と同等の効果を確認した。更に、これらケースと
は別の用途に用いられるマスク収納用ケースにおいても
同様な効果が得られることは言うまでもない。 ［発明の効果１ 以上述べたように本発明によれば、投影露光に使用され
るマスクを収納するマスク収納用ケースにおいて、前記
ケース内面の全域、または、一部を粘着状態にすること
により、ケース内面に付着した塵埃が、前記ケースに対
する開閉操作や、外部的振動によって脱離するのを防止
し、前記塵埃が脱離後、前記ケースに収納されているマ
スク表面に再付着することにより起こるパターン欠陥を
低減する効果を有するするものである。
Claims (4)
- （１）投影露光に使用されるマスクを収納するマスク収
納用ケースにおいて、前記ケース内面の全域、または、
一部が、粘着状態であることを特徴とするマスク収納用
ケース。 - （２）マスクを露光位置へ搬送する装置に用いられるこ
とを特徴とする請求項１記載のマスク収納用ケース。 - （３）マスクの保管に使用されることを特徴とする請求
項１記載のマスク収納用ケース。 - （４）マスクを輸送、運搬する時に用いられることを特
徴とする請求項１記載のマスク収納用ケース。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1109645A JPH02288322A (ja) | 1989-04-28 | 1989-04-28 | マスク収納用ケース |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1109645A JPH02288322A (ja) | 1989-04-28 | 1989-04-28 | マスク収納用ケース |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02288322A true JPH02288322A (ja) | 1990-11-28 |
Family
ID=14515536
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1109645A Pending JPH02288322A (ja) | 1989-04-28 | 1989-04-28 | マスク収納用ケース |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02288322A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100962526B1 (ko) * | 2002-04-10 | 2010-06-14 | 자이단 호진 레이저 기쥬츠 소고 겐큐쇼 | 포토레지스트 박리·제거 방법 및 장치 |
-
1989
- 1989-04-28 JP JP1109645A patent/JPH02288322A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100962526B1 (ko) * | 2002-04-10 | 2010-06-14 | 자이단 호진 레이저 기쥬츠 소고 겐큐쇼 | 포토레지스트 박리·제거 방법 및 장치 |
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