JPH0334058B2 - - Google Patents

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JPH0334058B2
JPH0334058B2 JP56128542A JP12854281A JPH0334058B2 JP H0334058 B2 JPH0334058 B2 JP H0334058B2 JP 56128542 A JP56128542 A JP 56128542A JP 12854281 A JP12854281 A JP 12854281A JP H0334058 B2 JPH0334058 B2 JP H0334058B2
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JP
Japan
Prior art keywords
photosensitive
gelatin
water
pattern
molecular weight
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP56128542A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5830746A (ja
Inventor
Kazufumi Ogawa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP56128542A priority Critical patent/JPS5830746A/ja
Publication of JPS5830746A publication Critical patent/JPS5830746A/ja
Priority to US06/788,700 priority patent/US4707433A/en
Publication of JPH0334058B2 publication Critical patent/JPH0334058B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/04Chromates

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は水溶性感光物質のパターン形成方法に
関する。
従来、水溶性感光物質には卵白、グリユー、カ
ゼイン、ポリビニルアルコール、ゼラチン等の親
水性樹脂に光重合開始剤(以下感光主剤とよぶ)
として重クロム酸塩、クロム酸塩あるいはジアゾ
化合物を添加したものがあり、いずれもネガ型で
ある。
一方、これらの感光物質(以下感光液という)
の利用先としてはカラーブラウン管のシヤドーマ
スクのエツチングマスク用あるいはカラーテレビ
ジヨンカメラの撮像管や固体撮像板に用いるカラ
ーストライプやモザイクフイルタの着色ベース用
あるいはコロタイプ印刷用等があつた。
そして、これらの水溶性感光液の使用方法とし
ては、一般に次のようなないしの工程が用い
られている。
感光液ベースの調整、感光主剤の添加、
基板上へ感光液塗布、プレベーク、マスク露
光、温水または冷水現像、バーニング、エ
ツチングマスク、着色ベース、印刷原板等の完
成。
なお、ここで感光液のポツトライフが短いので
通常感光主剤は使用直前に添加するのが一般的で
ある。
ところが、現在用いられているゼラチン系の感
光液には他のグリユー、カゼイン等の感光液に比
べて大きな欠点がある。
すなわち、従来一般に用いられているゼラチン
系の感光液では、主剤のゼラチンが牛の骨を石灰
処理後、温水抽出して得られた分子量10〜25万の
高分子ゼラチン(写真用ゼラチン、一般工業用ゼ
ラチン、食用ゼラチン等)が用いられているた
め、水に対するゼラチン濃度10〜20%では30〜40
℃でほとんどゲル化してしまう(グリユー、カゼ
インの感光液では濃度が10〜20%でも、25℃±5
℃程度でゲル化することはない)。
したがつて、ゼラチン感光液の塗布作業を25℃
±5℃、いわゆる室温で行うと、あらかじめ感光
液を加温しておいても塗布途中でゲル化が生じ
て、なめらかな塗布が行なえなかつたり、膜厚制
御も非常に難しかつた。そこで、一般に40〜45℃
の恒温室内で行なわれているのが現状であるが、
40〜45℃の恒温室の運転、さらに塗布工程の合理
化等を考慮すると、室温付近でもゲル化しないゼ
ラチン系感光液が待望されている。
以上述べてきた従来のゼラチン系感光液の欠点
に鑑み、本発明の目的は室温(25℃±5℃)でも
ゲル化しないゼラチン系の水溶性感光物質を用い
て微細なパターンを確実に形成する方法を提供す
ることにある。
一般にゼラチンは分子量が小さくなるとゲル化
温度が低くなることが知られている。
そこで、あらかじめ牛骨中のコラーゲンを薬品
処理して不要有機物を除去し、さらにタンパク質
分解酵素で分解抽出を行ない平均分子量30000〜
70000の水溶性低分子ゼラチンを製造する。
この低分子ゼラチンはゲル化能が弱い点を除け
ば、一般の高分子ゼラチンとほとんど特性に変り
がなく、常温で水に溶すことも可能である。
そして、以上のような低分子ゼラチンを用い
て、重クロム酸塩よりなる感光主剤を添加して感
光液を調整すれば、室温(25℃±5℃)でもゲル
化せず星の発生もなく、硬化作用のすぐれたゼラ
チン系感光液が製造でき微細パターンの形成が可
能となる。
以下、実験例及び本発明の実施例を示す。
実験例 1 水 1000c.c. ゼラチン分子量(5000〜10000) 400g 重クロム酸アンモニウム 80g アルコール 60c.c. 安息香チンキ 50c.c. クロムミヨウバン(0.2%水溶液) 20c.c. 以上をよく混合溶解(50〜60℃)した後、10℃
まで冷却して、一日放置したがゲル化は生じず、
粘度は室温で140cpsであつた。また、ガラス基板
に塗布後、テストパターンの形成されたクロムマ
スクを用いて紫外線露光、冷水現像(3分)を行
うと、第1図の顕微鏡写真(120倍)に示すパタ
ーンが得られた。なお、3000rpmのスピンナーコ
ートの場合塗膜の厚みは0.7μmであつた。また、
同写真中、数字は寸法の大きさ(ミクロン単位)
を示している。
第1図において、1は感光層残部部分、2は感
光層抜け部分、3はパターン部である。同図から
分かるように、この感光液は冷水現像でパターン
形成が可能である。
実験例 2 実験例1において、感光主剤である重クロム酸
アンモニウムの量を50g、ゼラチンに分子量
10000〜20000のもの300gを用いた外は同じ条件
で実験を行つても、ゲル化は生じず、粘度も
450cps程度であり、同等のパターンが形成され
た。その後日本チバガイギー社、エリオシンスカ
ーレツトRE染料で染色した写真を、第2図に示
す。なお、この条件の感光液では3000rpmのスピ
ンナーコートの場合、塗膜の厚みは1.5μmとな
り、パターンエツヂの境界がより明確になつてい
る。
実験例 3 実験例1において、感光主剤である重クロム製
アンモンの量を25gゼラチンに分子量15万〜25万
の写真用ゼラチン150gを用いた外は同じ条件で
実験を行つたが、室温が25℃でも完全にゲル化し
たままであつた。そこで、50℃で再溶解後、塗
布、露光し、冷水で10分間現像後、染色した結果
を第3図に示す。
第3図において、1は感光層残部部分、2は感
光層抜け部分、4は感光層が完全に除去できず部
分的に残存する感光層を示す。同図結果から、従
来の感光液は冷水では現像処理できないことがわ
かる。
実験例 4 実験例3において、ゼラチンに一般工業用(分
子量10万〜20万、150g)を用いた外は同じ条件
で実験を行なうと、10℃で一日放置するとゲル化
した。しかし、この場合は40℃程度で再溶解した
後、25℃まで冷却してもゲル化は生じなかつた
が、塗布、露光後、冷水現像では実験例3と同じ
くシヤープなパターンは形成されなかつた。
次に、本発明の実施例を述べる。
実施例 水 1000c.c. ゼラチン(分子量30000〜70000) 200g 重クロム酸カリウム 20g 重クロム酸アンモニウム 20g 硝酸鉛 2.5g アルコール 30c.c. 以上をよく混合溶解(50〜60℃)した後、20℃
まで冷却して一日放置したがゲル化は生じず、粘
度は270cpsであつた。また、ガラス基板に塗布
後、テストパターンの形成されたクロムマスクを
用いて紫外線露光を行うと、約3μm線巾のパタ
ーンまで形成できる。の実施例においては感光主
剤に重クロム酸カリウムと重クロム酸アンモニウ
ムを用い、補助剤として硝酸鉛を用いている。分
子量が30000以上と大きくなると、水に溶けにく
くなるため水での現像時に膜べり、パターンの流
れ等が生じにくくなり、3μm巾の微細パターン
を確実に形成することが可能となる。
なお、補助剤の硝酸鉛はゼラチンの星(ゲル化
した固まり)の抑制作用があり、アルコール等は
泡止め、延展性の改良効果がある。
以上の実施例により、低分子量ゼラチン(分子
量30000〜70000)を主成分とし、重クロム酸塩よ
りなる感光主剤を添加してゼラチン感光液を調整
することにより、室温でもゲル化が生じず、かつ
粘度変化が緩慢なゼラチン系感光液を製造でき、
露光水現像により3μmの微細パターンを確実に
形成できることが明らかになつた。
したがつて、この感光液を用いてパターン形成
を行うことにより、塗布工程を室温で行い、水現
像を行つても、膜厚制御が容易で、しかも膜べり
なく均一な微細パターン形成が行なえるようにな
るので、塗布、現像工程の合理化、省エネルギー
効果は非常に大なるものであり、3μm程度の着
色用等の微細パターンの形成に非常に有利であ
る。
さらにまた、以上の実施例では光重合開始剤と
して重クロム酸塩を用いてゲル化を確認したが、
重クロム酸塩の添加は、使用直前に行つても良
い。
以上のように、本発明を用いることにより、分
子量が30000〜70000の最適分子量のゼラチン系水
溶性感光物質を用いて3μm程度の微細パターン
を確実に形成することが可能となり、微細着色ベ
ース等のパターン形成に大きく寄与するものであ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は実験例における水溶性感光物質を用い
たパターン形成の状態を示す拡大図、第2図は他
の実験例における水溶性感光物質を用いてパター
ン形成後、染色したもののパターン拡大図、第3
図は従来の水溶性感光物質を用いてパターンを形
成したものであるが、冷水現像ではパターン形成
がうまく行かないことを示すパターン拡大図であ
る。 1……感光液残部部分、2……感光液抜け部
分、3……パターン部。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 分解抽出した分子量30000以上70000以下のゼ
    ラチンと水を主成分とし、重クロム酸塩よりなる
    感光主剤を添加して水溶性感光液を調整し、前記
    感光液を室温で塗布し、露光、水現像してパター
    ン形成を行うことを特徴とする水溶性感光物質の
    パターン形成方法。
JP56128542A 1981-05-18 1981-08-17 水溶性感光物質のパターン形成方法 Granted JPS5830746A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56128542A JPS5830746A (ja) 1981-08-17 1981-08-17 水溶性感光物質のパターン形成方法
US06/788,700 US4707433A (en) 1981-05-18 1985-10-21 Water-soluble photosensitive material with dichromate and low molecular weight gelatin

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JP56128542A JPS5830746A (ja) 1981-08-17 1981-08-17 水溶性感光物質のパターン形成方法

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JPS5830746A JPS5830746A (ja) 1983-02-23
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DE10209024A1 (de) * 2001-03-07 2002-09-19 Inctec Inc Photoempfindliche Zusammensetzungen

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DE2637768C2 (de) * 1976-08-21 1984-11-22 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zur Herstellung von farbigen Reliefbildern
JPS5785051A (en) * 1980-11-18 1982-05-27 Toppan Printing Co Ltd Water-soluble photosensitive material

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