JPH0334059U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0334059U JPH0334059U JP9383789U JP9383789U JPH0334059U JP H0334059 U JPH0334059 U JP H0334059U JP 9383789 U JP9383789 U JP 9383789U JP 9383789 U JP9383789 U JP 9383789U JP H0334059 U JPH0334059 U JP H0334059U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ion plating
- evaporation
- plating device
- evaporation source
- vacuum chamber
- Prior art date
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- Pending
Links
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
第1図はこの考案に従うイオンプレーテイング
装置を示す模式図、第2図は成膜速度のプラズマ
電子ビーム出力依存性を示すグラフ、第3図はこ
の考案に従う連続イオンプレーテイング装置を示
す模式図である。 1……真空槽、2……排気口、3……給電部、
4……HCDガン、5……カソードカバー、6…
…ビーム電源、7,8……集束コイル、9……蒸
発源、10……蒸発容器、11……加熱電源、1
2……加熱体、13……基板、14……バイアス
電源、15……反応ガス導入口、16……誘導加
熱コイル、17……払出ロール、18……巻取ロ
ール、19……ヒーター。
装置を示す模式図、第2図は成膜速度のプラズマ
電子ビーム出力依存性を示すグラフ、第3図はこ
の考案に従う連続イオンプレーテイング装置を示
す模式図である。 1……真空槽、2……排気口、3……給電部、
4……HCDガン、5……カソードカバー、6…
…ビーム電源、7,8……集束コイル、9……蒸
発源、10……蒸発容器、11……加熱電源、1
2……加熱体、13……基板、14……バイアス
電源、15……反応ガス導入口、16……誘導加
熱コイル、17……払出ロール、18……巻取ロ
ール、19……ヒーター。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 真空槽内に、蒸発源を収納した蒸発容器と、中
空陰極、基板および反応ガス導入口とを配置する
、イオンプレーテイング装置において、 蒸発容器は蒸発源の間接加熱手段をそなえるこ
とを特徴とするイオンプレーテイング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9383789U JPH0334059U (ja) | 1989-08-11 | 1989-08-11 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9383789U JPH0334059U (ja) | 1989-08-11 | 1989-08-11 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0334059U true JPH0334059U (ja) | 1991-04-03 |
Family
ID=31643198
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9383789U Pending JPH0334059U (ja) | 1989-08-11 | 1989-08-11 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0334059U (ja) |
-
1989
- 1989-08-11 JP JP9383789U patent/JPH0334059U/ja active Pending
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