JPH0290663U - - Google Patents

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JPH0290663U
JPH0290663U JP16903488U JP16903488U JPH0290663U JP H0290663 U JPH0290663 U JP H0290663U JP 16903488 U JP16903488 U JP 16903488U JP 16903488 U JP16903488 U JP 16903488U JP H0290663 U JPH0290663 U JP H0290663U
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JP
Japan
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ionization
vacuum container
heater
gas
gas introduction
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JP16903488U
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  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案のイオンプレーテイング装置の
一実施例を示す概略構成図である。第2図は本考
案のイオンプレーテイング装置の他の例を示す要
部概略構成図である。第3図および第4図はそれ
ぞれ従来のイオンプレーテイング装置の概略構成
図である。 1……真空容器、2……基板ホルダー、3……
基板、4……蒸発材料、5……ルツボ、6……電
子銃、7……電子ビーム、30……放電電極(第
1のイオン化装置)、32……シヤツタ、40…
…ガス導入管、40a……ガス導入口、45……
加熱ヒータ、45a……電源、45b……電源ケ
ーブル、46……抵抗器(制御装置)、47……
第2のイオン化装置。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 真空容器の内部に、ルツボから蒸発させた蒸発
    材料をイオン化するための第1のイオン化装置と
    、ガス導入管により真空容器内に導入される反応
    ガスをイオン化するための第2のイオン化装置と
    が設けられ、それらイオン化装置によつてそれぞ
    れイオン化させた蒸発材料および反応ガスの反応
    生成物を真空容器内に配置した基板の表面に蒸着
    させて薄膜を形成するように構成されたイオンプ
    レーテイング装置であつて、前記第2のイオン化
    装置は、前記ガス導入管の先端部に形成されてい
    るガス導入口の直前に位置して設けられた加熱ヒ
    ータと、その加熱ヒータの出力を制御する制御装
    置とからなり、ガス導入口から真空容器内に導入
    される反応ガスを加熱ヒータに接触させて加熱す
    ることでイオン化させるとともに、制御装置によ
    つてそのイオン化率を制御するように構成されて
    なることを特徴とするイオンプレーテイング装置
JP16903488U 1988-12-27 1988-12-27 Pending JPH0290663U (ja)

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JP16903488U JPH0290663U (ja) 1988-12-27 1988-12-27

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JPH0290663U true JPH0290663U (ja) 1990-07-18

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ID=31458739

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