JPH0334101A - 磁気記録再生方法および磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、剛性基板上に磁性層を有する所謂ハードタイ
プの磁気記録媒体、特にγ−Ｆｅａｒｓを主成分とする
連続薄膜型の磁性層を有するハードタイプの磁気記録媒
体と、浮上型磁気ヘッドを用いてこの磁気記録媒体に記
録再生を行なう磁気記録再生方法とに関する。

〈従来の技術〉 計算機等に用いられる磁気ディスク駆動装置には、剛性
基板上に磁性層を設層したハードタイプの磁気ディスク
と浮上型磁気ヘッドとが用いられている。

このような磁気ディスク駆動装置においては従来、塗布
型の磁気ディスクが用いられていたが、磁気ディスクの
大容量化に伴い、磁気特性、記録密度等の点で有利なこ
とから、スパッタ法等の気相成膜法等により設層される
連続薄膜型の磁性層を有する薄膜型磁気ディスクが用い
られるようになっている。

薄膜型磁気ディスクとしては、ＡＩ２系のディスク状金
属板にＮ１−Ｐ下地層をめっきにより設層するか、ある
いはこの金属板表面を酸化してアルマイトを形成したも
のを基板とし、この基板上にＣｒ層、Ｃｏ−Ｎｉ等の金
属磁性層、さらにＣ等の保護潤滑膜をスパッタ法により
順次設層して構成されるものが一般的である。

しかし、Ｃｏ−Ｎｉ等の金属磁性層は耐食性が低く、さ
らに硬度が低く、信頼性に問題が生じる。　これに対し
、特開昭６２−４３８１９号公報、同６３−１７５２１
９号公報に記載されているような酸化鉄を主成分とする
磁性薄膜は化学的に安定なため腐食の心配がなく、また
、充分な硬度を有している。

一方、浮上型磁気ヘッドは浮力を発生するスライダを有
する磁気ヘッドであり、コアがスライダと一体化された
コンポジットタイプのもの、あるいはコアがスライダを
兼ねるモノリシックタイプのものが通常用いられる。

さらに、これらの他、高密度記録が可能であることから
、いわゆる浮上型薄膜磁気ヘッドが注目されている。　
浮上型薄膜磁気ヘッドは。

基体上に磁極層、ギャップ層、コイル層などを気相成膜
法等により形成したものである。　このような浮上型薄
膜磁気ヘッドでは、基体がスライダとしてはたらく。

浮上型磁気ヘッド３用いる磁気ディスク装置では、コン
タクト・スタート・ストップ（ＣＳＳ）時に浮上型磁気
ヘッドの浮揚面（スライダの磁気ディスク側表面）と磁
気ディスクとが接触し、磁性層は衝撃を受ける。

特に、浮上型薄膜磁気ヘッドを用いる場合。

高密度記録が可能であることから磁気ディスクと磁気ヘ
ッドとの間隔（フライングバイト）を極めて小さく設定
するので、Ｃ８Ｓ時に磁性層が受ける衝撃がより大きく
なる。

特開昭６２−４３８１９号公報、同６３−１７５２１９
号公報に記載されているような酸化鉄を主成分とする磁
性薄膜を有する磁気ディスクは、表面が鏡面化されたガ
ラス基板を使用しており、ｌ１ｆｌ性層の表面粗さ（Ｒ
ｍａｘ）が１００Å以下と非常に小さなものとなってい
る。　このような磁気ディスクではフライングバイトを
極めて小さく設定できるため、Ｃ８Ｓ時あるいはヘッド
の接触事故の際に磁性層の被害が大きくなってしまう。

しかし、特開昭６２−４３８１９号公報、同６３−１７
５２１９号公報では、磁性層の耐久性に関しては何ら言
及されておらず、他にも酸化鉄を主成分とする連続薄膜
型の磁性層について、耐久性を高める有効な提案はなさ
れていなかった。

このような事情から、本発明者らは特願昭１−１１３１
３５号において、ｙ−Ｆｅ、０．を主成分とする６〈磁
性層のＸ線回折チャートにおいて２γ−Ｆｅ２０ｚの所
定ピークの面積比を規定することにより、磁性層の耐久
性を向上させる提案を行なっている。

また、本発明者らは、特願昭１−１１３１３６号におい
て、γ−Ｆｅ２Ｏ３を主成分とする磁性層にａ−Ｆｅ２
０ｔを含有させることにより、耐久性を向上させる提案
を行なっている。

〈発明が解決しようとする課題〉 しかし、酸化鉄を主成分とする磁性薄膜を有する磁気デ
ィスクは、上記したように磁性層の表面粗さが非常に小
さなものとなっているため、好適な保護膜を選定しない
と磁気ディスクと磁気ヘッドとの間の摩擦が大きくなり
、Ｃ８Ｓ等の際に磁気ヘッドがスティックスリップした
り、吸着したりするという問題を生じる。

本発明は、このような事情からなされたものであり、γ
−Ｆｅａ０３を主成分とする連続薄膜型の磁性層を剛性
基板上に有する磁気記録媒体と浮上型磁気ヘッドとを用
いて磁気記録再生を行なうに際し、Ｃ８Ｓ時に磁気記録
媒体と磁気ヘッドとの間の摩擦が小さく、かつ、その変
動が少なく、磁気記録媒体への磁気ヘッドの吸着が発生
しにりく、磁気ヘッドおよび磁気記録媒体にキズあるい
は破損が生じにくい磁気記録再生方法去と、このような
記録再生を実現するための磁気記録媒体とを提供するこ
とを目的とする。

〈課題を解法するための手段〉 このような目的は、下記（１）〜（９）の本発明により
達成される。

（１）ディスク状の磁気記録媒体を回転し、この磁気記
録媒体上に磁気ヘッドを浮上させて記録再生を行なう磁
気記録再生方法であって、 前記磁気ヘッドの浮上量が０．２−以下であり、 前記磁気記録媒体がγ−Ｆｅｚｅ３を主成分とする連続
薄膜型の磁性層を剛性基板上に有し、この磁性層のＸ線
回折チャートにおいて、ｙ−Ｆｅｚ０３の面指数（４０
０）、面指数（２２２）および面相１（３１１）のそれ
ぞれのピーク面積をＰ（４００）、　Ｐ（２２２）およ
びＰ（３１１）としたとき、 ０５　Ｐ（４００）／　Ｐ（３１１）≦　１．００　≦
Ｐ（２２２）／　Ｐ（３１１）≦０．　５であり、 前記剛性基板の表面粗さ（Ｒｍａｘ）が１０〜１００人
であり、磁性層側表面の表面粗さ（Ｒｍａｘ）が５０〜
２００Ａであり、この磁性層上および／または前記磁気
ヘッドのフロント面上に、下記式で表わされる平均分子
１１０００〜１００００の化合物を含有する潤／！膜を
有することを特徴とする磁気記録再生方法。

１式１　　Ｆ　（Ｃ，Ｆ、Ｏ）。ＣＦ２ＣＦ。

（ただし、上記式においてｎは正の整数である。〉 （２）前記潤滑膜が、５０℃以下の融点を有する化合物
をさらに含有する上記（１）に記載の磁気記録再生方法
。

（３）前記５０℃以下の融点を有する化合物が、脂肪酸
もしくはその塩、アルコール、エステルおよびフッ素置
換化合物の１種以上である上記（２）に記載の磁気記録
再生方法。

（４）前記磁性層がα−Ｆｅａｒｓを含有する上記（１
）ないしく３）のいずれかに記載の磁気記録再生方法。

（５）前記磁性層中において、基板の反対側におけるα
−Ｆｅａｒｓの含有率が、基板側のα−Ｆｅ２ｒ１の含
有率よりも高いものである上記（４）に記載の磁気記録
再生方法。

（６）前記磁性層のＸ線回折チャートにおいて、α−Ｆ
ｅａｒｓの面指数（１０４）のピーク面積をＰ（１０４
）としたとき、 ０．０２≦Ｐ（１０４）／　Ｐ（３１１）≦０．２０で
ある上記（４）または（５）に記載の磁気記録再生方法
。

（７）前記磁気ヘッドの浮上量が０．１−以下である上
記（１）ないしく６）のいずれかに記載の磁気記録再生
方法。

（８）前記剛性基板がガラスから構成される上記（１）
ないしく７）のいずれかに記載の磁気記録再生方法。

（９）上記（１）ないしく３）のいずれかに記載の潤滑
膜を、上記（１）、（４）、（５）または（６）に記載
の磁性層上に有することを特徴とする磁気記録媒体。

く作用〉 本発明の磁気記録再生方法では、磁気記録媒体および／
または磁気ヘッドが所定の化合物を含有する潤滑膜を有
する。

このため、Ｃ８Ｓ特性が良好で、磁気記録媒体および磁
気ヘッドにキズあるいは破損が生じにくい。

具体的には、上記式で表わされる化合物を含有するため
、媒体とヘッドとの摩擦の変動が少なく、さらに５０℃
以下の融点を有する化合物を含有することにより、初期
摩擦が低いものとなる。

また、本発明に用いる磁気記録媒体は、γ−ＦｅｇＯｘ
を主成分とする磁性層がα−Ｆｅ、ｔｏｓを含有するた
め高い耐久性を有する。　特に、例えば第３図に示すよ
うな光学系配置を有するＸ線回折装置で得られる磁性層
のＸ１１回折チャートにおいて、ａ−Ｆｅ２ｅｓおよび
ｙ−Ｆｅ！Ｏｓの所定ピークの面積比が上記のような範
囲である場合、耐久性は極めて高いものとなる。

さらに、γ−Ｆｅ＊Ｏｓの所定ピークの面積比が上記の
ような範囲であり、かつ、基板および媒体の磁性層側表
面粗さが上記範囲であるときも。

耐久性は極めて高いものとなる。

これらの場合、Ｃ３Ｓ耐久性が極めて高くなり、低温お
よび高温でのＣ８Ｓ耐久性も向上する。　また、磁気ヘ
ッドとの接触事故等が生じた場合でも、磁性層の劣化が
極めて少ない。

なお、従来、γ−Ｆｅａｒｓ磁性層にα−磁性層ｒｇが
含有される場合、磁気特性が低下し、記録再生出力が低
下するため好ましくないと考えられていた。

しかし、計算機等に用いられる磁気ディスク等の磁気記
録媒体においては、例え記録再生出力がわずかに低下し
たとしても、耐久性を確保し、信頼性を向上させること
が最も重要である。　上記の本発明によれば、磁気特性
の低下が殆どなく、しかも高い耐久性が得られるちので
ある。

また、電子通信学会論文誌’８０／９　Ｖｏｌ、Ｊ６３
−ＣＮａ、９ｐ、６０９〜６１Ｇには、反応スパッタに
よるγ−Ｆｅ２Ｏ３薄膜磁気ディスク媒体が記載されて
いる。

同誌では、直接法で、すなわち酸化性雰囲気中でＦｅタ
ーゲットをスパッタしてＦｅ５０４薄膜を作製しており
、同誌第６１３ページの図８には、このＦｅｍＯ４薄膜
のＸ　ｌｉ！回折図形が記載されている。

同図に（Ｃ）として示される膜のＸ線回折図形の各ピー
ク高さの比を求めると、（４００１／（３’ｌｌ）およ
び（２２２）　／（３１１）は、上記の本発明における
ピーク面積比の範囲内である。

しかし、このＸ線回折図形には本発明の規定のようにピ
ーク面積が示されておらず、しかも、これはＦｅ３０ａ
薄膜の６のであってγ−Ｆｅ２Ｏ３薄膜のＰ（４００）
／　Ｐ（３１１）およびＰ（２２２）／　Ｐ（３１１）
に関する記載は同誌にはない。

また、この薄膜が形成されている基板はアルマイト処理
されたＡｇ合金板であり、本発明が規定しているような
基板および磁性層の表面粗さ（Ｒｍａｘ）に関する記載
は−切みられない。

さらに、同誌は磁気ディスクの耐久性に関しては全く着
目しておらず、しかもこの磁気ディスク媒体が、本発明
におけるような潤滑膜を有する旨の記載はない。

また、特開昭６２−４３８１９号公報および同６３−１
７５２１９号公報では、磁性層表面徂さ（Ｒｍａｘ）を
所定範囲としたことによる磁気ヘッドの浮上安定性向上
が述べられているだけであり、Ｘ線回折に関する記載は
なく、耐久性への着目もなされていないが、本発明はこ
のようｆｌ　Ｒｍ　ｆｌ　Ｘを有する磁性層において、
上記したように高い耐久性を実現するものである。

く具体的構成〉 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。

第１図に示される本発明の磁気記録媒体ｌは、剛性基板
２上に連続薄膜型の磁性層３を何し、この磁性層３上に
潤滑膜４を有する。

本発明で用いる基板は、下地層などを設層する・ビ・要
がなく製造工程が簡素になること、また、研磨が容易で
表面粗さの制訓が簡単であること、磁性層の形成時およ
びその表面粗さ制御のための熱処理に耐えることなどか
ら、ガラスを用いることが好ましい。

ガラスとしては、強化ガラス、特に、化学強化法による
表面強化ガラスを用いることが好ましい。

一般的に、表面強化ガラスは、ガラス転移温度以下の温
度にて、ガラス表面付近のアルカリイオンを外部から供
給される他種アルカリイオンに置換し、これらのイオン
の占有容積の差によりガラス表面に圧縮応力が発生する
ことを利用したものである。

イオンの置換は、アルカリイオンの溶融塩中にガラスを
浸漬することにより行なわれる。

塩としては硝酸塩、硫酸塩等が用いられ、溶融塩の温度
は３５０〜６５０℃程度、浸漬時間は１〜２４時間程度
である。

より詳細には、アルカリ溶融塩として ＫＮＯ，を用い、Ｋイオンとガラス中のＮａイオンと交
換する方法や、Ｎ　ａ　Ｎ　Ｏｓを用い、ガラス中のＬ
ｉイオンと交換する方ｒ去等が挙げられる。　また、ガ
ラス中のＮａイオンおよびＬｉイオンを同時に交換して
もよい。

このようにして得られる強化層、すなわち圧縮応力層は
ガラス基板の表面付近だけに存在するため、表面強化ガ
ラスとなる。　圧縮応力層の厚さは、１０〜２００μｍ
、特に５０〜１５０μｍとすることが好ましい。

なお、このような表面強化は、ガラス基板の全表面に施
されていてちよく、また、表面の一部に施されていても
よい。

ガラス基板は、少なくとも磁性層ｆｌ］ｌ＋表面の水と
の接触角が２０”以下であることが好ましく、特に１０
°以下であることが好ましい。

水との接触角をこのような範囲とすることにより、後述
するような酸化鉄を主成分とする連続溝ＩＩＩ型の磁性
層の接着性が向上する。　なお、接触角の下限に特に制
限はないが、通常、２°程度以上である。

水との接触角は、例えば、ガラス基板表面に純水を滴下
して３０秒後に測定すればよい。

測定雰囲気は、１８〜２３℃、４０〜６０％ＲＨ程度で
ある。

このような接触角を得るために、ガラス基板には下記の
処理が施されることが好ましい。

まず、ガラス基板表面を研磨し、次いで上記したような
強化処理を施した１麦、ガラス基板表面を再び研磨する
。　この研磨により後述する表面粗さとすることが好ま
しい。

研磨されたガラス基板を純水で洗浄後、さらに、 洗剤洗浄−純水洗浄−有機溶剤蒸気乾燥の工程で洗浄を
行なうことが好ましい。

この工程において、用いる洗剤に特に制限はなく、各種
一般洗浄用洗剤から迩択すればよいが、本発明ではアル
カリ性洗剤、特に、ガラス表面を軽くエツチングする作
用のある弱アルカリ性洗剤を用いることが好ましく、特
に、Ｅｘｔｒａｎ　ＭＡ　０１　（メルク（ＭＥＲＣＫ
）社製）を用いることが好ましい。

洗剤による洗浄は、室１品または８０℃程度以下に加ｃ
品した洗浄酸中にガラス基板なδ漬し、ｌ〜２４時間程
度放置するか、好ましくは超音波を印加して５〜６０分
間程度洗浄を行なうことが好ましい。

ｌ先剤による洗浄後の純水洗浄も、超音波を印加しなが
ら行なうことが好ましい。

超音波としては、例えば１０〜１００　ｋＨｚ程度の間
のある範囲の周波数で発振する多周波数型のもの、２６
ｋＨｚ　、　４５ｋｌｌｚなどの一定周波数で発振する
固定周波数型のものがある。　これらのいずれでも、周
波数が高いほど小さい汚れを落とすことができる。

有機溶剤による蒸気乾燥は、好ましくは第２図に示すよ
うな装置を用いて行なう。

第２図に示される蒸気乾燥装置１１は、処理槽Ｉｌｌ、
ヒータ１１２およびクーラー１１３を有する。

処理ｔ！１１内には、有機溶剤１１４が貯留しており、
有機溶剤の１ｒＩｉ面上方には、ガラス基板２が上下動
可能に保持されている。

有機溶剤１１４は、ヒータ１１２により加３品されて蒸
発する。　有機溶剤蒸気は、基板２側方の処理槽１１１
内壁面に設けられたクーラー１１３により冷却されて液
化し、基板２に付着する。　基板２に付着した有機溶剤
の液滴は貯留している有機溶剤１１４の中に落下する。

この処理＄１１１１内にガラス基板を５〜６０分間程度
保持することにより、ガラス基板の最終的な洗ｌ争が行
なわれる。

次いでガラス基板２を徐々に引き上げることにより、付
着する有機溶剤量を蒸発する有機／８削量が上回るよう
になり、乾燥が行なわれる。

このような蒸気乾燥では乾燥速度が低いので、乾燥シミ
が発生することがなく極めて清浄な表面が得られる。

蒸気乾燥に用いる有機溶剤に特に制限はないが、本発明
ではアセトン、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、メ
タノール、エタノール、フロン等を用いることが好まし
く、特にＩＰＡを用いることが好ましい。

なお、このような蒸気乾燥の他、乾燥窒素ブロー併用に
よる遠心振り切り乾燥などにより最終的な０２燥を行な
うこともできる。　この場合、上記した純水洗浄後に有
機溶剤により洗浄を行なうことが好ましい。　洗浄に用
いる有機溶剤は、上記した蒸気乾燥に用いるものと同様
なものでよい。

なお、上述した工程に、ブラシスクラブ洗浄を適宜組み
合わせてもよい。

剛性基板の表面粗さ（Ｒｍａｘ）は、好ましくは１０〜
１００人、より好ましくは４０〜８０入、さらに好まし
くは４０〜６０人とされる。　剛性基板のＲｍａｘをこ
の範囲とすることにより、磁気記録媒体の耐久性が向上
し、また、後述するような媒体磁性層ＩＩ！Ｉ＋表面の
Ｒｎ＋ａｘが容易に得られる。

なお、Ｒｍａｘは、　ＪＩＳ　Ｂ　０６０１に従い測定
すればよい。

このような表面粗さは１例えば、特開昭６２−４３８１
９号公報、同６３−１７５２１９号公報に記載されてい
るようなメカノケミカルポリッシングなどにより得るこ
とができる。

ガラス基板の材質に特に制限はなく、ホウケイ酸ガラス
、アルミノケイ酸ガラス、石英ガラス、チタンケイ酸ガ
ラス等のガラスから適当に選択することができるが、機
械的強度が高いことから、特にアルミノケイ酸ガラスを
用いることが好ましい。

なお、ガラス基板の表面平滑化を、メカノケミカルポリ
ッシングにより行なう場合、結晶質を含まないガラスを
用いることが好ましい。　これは、メカノケミカルポリ
ッシングにより結晶粒界が比較的早く研磨されてしまい
、上記のよりなＲｍａｘが達成できないからである。

ガラス基板の形状および寸法に特に制限はないが、通常
、ディスク状とされ、厚さは０．５〜５ｍｍ程度、直径
は２５〜３００　ｍ　ｍ程度である。

剛性基板上には、γ−Ｆｅａｒｓを主成分とする連続薄
膜型の磁性層が成膜される。

本弁明では、この磁性層のＸ線回折を行なったとき、Ｘ
線回折チャートにおいて、γ−ＦｅａＯ：＋の面指数（
４００）、面指数（２２２１および面↑日数（３１１）
のそれぞれのピーク面手責をＰ（４００）、Ｐ　（２２
２）およびＰｆ３１１）としたとき、Ｏ≦Ｐ（４００）
／　Ｐ（３１１）≦１．００≦Ｐ（２２２）／　Ｐ（３
１１）≦０．５であり、好ましくは ０≦Ｐｆ４００１／　Ｐ（３１１１≦０．６０≦Ｐ（２
２２）／　Ｐｆ３１１）≦０．３である。

また、同時に、磁気記録媒体の磁性層側の表面粗さ（Ｒ
ｍａｘ）が５０〜２ｏｏ入であり、好ましくは８０〜１
５０人、より好ましくは８０〜１２０入、さらｉこ好ま
しくは９０〜１２０入である。

このようなピーク面積比およびＲｍａｘを有することに
より耐久性が向上し、特に、ｃ　ｓ　ｓ　ｔｉｔ久性が
向上する。

より詳細に説明すると、Ｐ１２２２）が増加するという
ことは、磁性層面と平行に（２２２）面および（Ｉｌｌ
）面が存在する割合が増えることを示している。　γ−
ＦｅｚＯｉはスピネル構造を有するものであり、スピネ
ル構造では（１１１）面が最も滑り易い面となっている
。

従って、（１１１）面と平行な（２２２）面のピーク面
積が大きい場合、すなわちＰ（２２２）／Ｐｆ３１１）
の値が大きい場合、磁気ヘッドとの摺動により磁性層を
構成するγ−Ｆｅ２Ｏ３に屑りが生じ易くなり、耐久性
が低下すると考えられる。

そして、Ｐ（２２２１／ρ（３＋１１が上記範囲を超え
ると臨界的に耐久性が低下する。

（４００）面と平行に存在する（１００）面は（１１１
）面に次いで滑りが生じ易いと考えられるため、Ｐ（４
００）／　Ｐ（３１１）が上記範囲を超えると耐久性が
臨界的に低下する。

また、磁性層側表面のＲｗａｘを上記範囲内とすれば、
耐久性が向上する他、磁性層表面と浮上型磁気ヘッドの
浮揚面との距離を０．１ｕｍ以下に保って記録および再
生を行なうことができ、しかも浮上型磁気ヘッドと磁気
記録媒体との吸着が発生せず、高密度記録が可能となる
。

また、本発明では、６ｉｉ性層にａ−ＦｅｔＯｚが含有
されることが好ましい、　磁性層にα−Ｆｅ、０３が含
有されることにより耐久性が向上する。

そして、α−Ｆｅａｒｓが含有される磁性層のＸ線回折
を行なったとき、Ｘ線回折チャートにおいて、ａ−Ｆｅ
Ｊｓの面指数（１０４）のピーク面噴をＰ（１０４）と
したとき、好ましくは０　、　０２　≦Ｐ（１０４）／
Ｐ（３１１）≦０．２０であり、より好ましくは、 ０．０５≦Ｐ（１０４）／　Ｐｆ３１１１≦０．１５で
ある。

磁性層がこのようなピーク面積比を有すれば、耐久性は
よりいっそう向上する。

より詳細に説明すると、　Ｐ（１０４）／Ｐ（３１１１
が上記範囲未満であると耐久性向上効果が比較的低く、
上記範囲を超えると記録再生出力が低下する。

Ｘ線回折チャートは、例えば下記のようにして作成する
ことが好ましい。

第３図にＸ線回折装置の１例を示す。

第３図において、Ｘ線源１０１から照射されたＸ　ＩＩ
は、ダイバージェンススリットＤＳを経て磁気記録媒体
１０２の磁性層に入射して回折し、スキャッタースリッ
トＳＳおよびレシービングスリットＲ３を経た後、モノ
クロメータＭＭで反射することにより単色光とされ、さ
らにレシービングスリットＲ３を経て計数管１０３に入
射し、Ｘ線強度のカウントが行なわれ、通常、レートメ
ータ等により記録される。

なお、測定時には、Ｆｌｉｌ磁気記録媒体１０２査速度
ｄθ／ｄｔで、スキャッタースリットＳＳ以下の光路を
構成する部材が走査速度２ｄθ／ｄｔで回転される。

得られたＸ線回折チャートの各ピークについて、バック
グラウンドを除いた部分の積分を行なって上記した面積
比を算出する。

なお、ＣｕＫｃｚをＸ線源とした第３図に示す光学配置
では、ｃｘ−Ｆｅ２０ｓの面指数（１０４）のピークは
３３．３°付近に現われ、γ−Ｆｅ、０３の面指数（４
００）、面指数（２２２）および面指数（３１１）のそ
れぞれのピークは。

４３．５°、３７．３°および３５．６’付近に現われ
る。

なお、磁性層中にα−Ｆｅ２ｒｓが含有される場合、ａ
−ＦｅａＯｓは均一に含有されていてもよいが、磁性層
の表面側、すなわち基板と反対側での含有率が高くなる
ことが好ましい。

α−Ｆｅ２ｒｓがこのように含有されることにより、磁
気ヘッドの摺動によりダメージを受は易い磁性層表面部
をより強化することができ、しかも１表面部において高
い耐久性を得ながら６ｆｉ性層全体のα−Ｆｅ２ｒｓの
含有率を低く押えることができる。

この場合、　ａ−Ｆｅ、Ｏｓは磁性層表面側に向かって
漸増していてもよく、また、基板側には存在せずに表面
側にだけ存在していてもよい。

磁性層表面付近のα−Ｆｅ２ｒｓの含有率の分析は、例
えば、下記のようにして行なうことが好ましい。

第４図に、低入射角Ｘ線回折装置の１例を示す。

第４図において、Ｘ線ｌ原１０１から照射されたＸ線は
、ソーラースリットＳ１を経て、磁気記録媒体１０２の
磁性層にその表面とβの角度をなすように入射して回折
する。

回折されたＸ線は、ソーラースリットＳ２を経た後、モ
ノクロメータＭＭで反射することにより単色光とされ、
さらにレシービングスリッ）Ｒ５を経て計数管１０３に
入射し、ｘ！Ｉｉ！強度のカウントが行なわれる。

この低入射角Ｘ線回折装置においては、第３図に示す装
置と異なり、測定時に磁気記録媒体１０２は入射Ｘ線に
対して固定され、ソーラースリット８２以下の光路を構
成する部材が走査速度２ｄθ／ｄｔで回転される。

この装置において、入射Ｘ線と磁性層表面とが１（す角
度βを変更することにより、磁性層表面付近におけるａ
−Ｆｅ＊０ユの分布を求めることができる。　具体的に
は、表面に近い部分の分析を行なうためにはβを小さく
すればよく、βを大きくするにつれて磁性層のより深部
までの分析結果が得られる。

本発明では、このような低入射角Ｘ線回折において、β
が小さいほどＰ（１０４）／　Ｐ（３１１１が大きくな
ることが好ましく、例えば、β＝ｏ、５゜として測定さ
れたＰ（１０４１／　Ｐ（３１１）が、β＝２．０°と
して測定されたＰ（１０４）／　Ｐ（３１１）（７）１
．５〜ｌＯ倍、特に１．５〜５倍であることが好ましい
。

γ−Ｆｅ２Ｏｓを主成分とする連続薄膜型の磁性層は、
まずＦｅｉｇｎを形成し、このＦｅ５Ｏｎを酸化してγ
−ＦＧ２０３とすることにより形成されることが好まし
い。

ＦｅＪ４を形成する方法は、直接法であっても間接法で
あってもよいが、上記したピーク面積比が容易に得られ
ること、工程が簡素になることなどから、直接法を用い
ることが好ましい。

直接法は、反応性スパッタ法を用いて基板上にＦｅ：＋
０４を直接形成する方〆去である。　直接性には、ター
ゲットにＦｅを用いて酸化性雰囲気にて行なう酸化法、
ターゲットにα−ＦｅｚＯ１を用いて還元性雰囲気にて
行なう還元沃、ターゲットにＦｅ、０４を用いる中性法
が挙げられるが、スパッタ制御卸が容易であること、成
膜速度が高いことなどから、本発明では酸化法を用いる
ことが好ましい。

酸化法では、Ａｒガス雰囲気中に反応ガスとじＣＯ２ガ
スを加えてスパッタを行なう。

Ｘ線回折におけるγ−Ｆｅｚ０３の上記したようなピー
ク比を得るためには、０２ガスの分圧ＰＯ□と、Ａｒガ
スと０□ガスとの合計圧力Ｐ　ｔＡｒ＋ｏａｌが、 であることが好ましく、特に、 であることが好ましい。

また、スパッタに際して、真空槽中への０２ガスの４大
は基板に吹きつけるようにして行なうことが好ましい。

本発明における好ましいＰ（八「＋０□）の範囲はＩ　
Ｘ　１．　Ｏ−’〜ｌ　Ｘ　１０−”Ｔｏｒｒであり、
持に５　Ｘ　ｌ　Ｏ−４〜８　Ｘ　Ｉ　Ｏ−”Ｔｏｒｒ
である。

なお、スパッタ法としてはＲＦスパッタを用いることが
好ましい。

スパッタ投入電力に特に制限はないが、０．２〜２ｋＷ
、特に０．４〜ｌ、５　ｋ　Ｗとすることが好ましい。

直接性によるＦｅ５０＜薄膜形成の詳細は、電子通信学
会論文誌’８０／９　Ｖｏｌ、Ｊ６３−ＣＮｏ、９　ｐ
、６０９−６１６に記載されており、本発明ではこれに
準じて磁性層の形成を行なうことが好ましいが、その際
に上記のような０２分圧にてスパッタをＩｗなうことが
好ましい。

なお、間接法は、ターゲットにＦｅを用いて酸化性雰囲
気にてα−ＦｅｚＯ１を形成した後、還元してＦｅ３Ｏ
４を？尋る方ｌ去である。

スパッタ注により成膜されたＦｅ：＋０４は、γ−Ｆｅ
２Ｏ，にまで酸化される。

この酸化は、０２ガス分圧０．０５〜０．８気圧程度、
全圧０．５〜２気圧程度の雰囲気中での熱処理によって
行なわれればよく６通常、大気中執処理によって行なわ
れることが好ましい。

熱処理における保持温度は２００〜４００℃、特に２５
０〜３５０℃であることが好ましく、塩度保持時間は、
１０分〜１０時間、特に１時間〜５時間であることが好
ましい。

ａ−Ｆｅａｒｓの上記したようなピーク面積比を容易に
得るためには、この熱処理に際し、昇温速度を３．５〜
ｂ ｂ なお、昇温速度は一定であってもよく、漸増あるいは漸
減させてもよく、また、複数の昇温速度を組み合わせて
保持温度まで昇温させてもよい。

また、この熱処理を行なう際、熱処理温度と時間を制ｉ
卸することにより、磁気記録媒体の法性層側のＲｗａｘ
を上記範囲とすることができる。

このようにして形成される磁性層は、１ｆｆｌ　ｌａ力
４００〜２０００　０ｅ、残留磁化２０００〜３０００
Ｇ、角形比０．５５〜０．８５程度の磁気特性が得られ
る。　また、ａ−ＦｅＪ３を含有することによる磁気特
性の劣化は殆どない。

磁性層中には必要に応じてＣｏ、Ｔｉ、Ｃｕ等を添加さ
せてもよく、また、成Ｉｌｌ！雰囲気中に含まれるＡｒ
等が含有されていてもよい。

磁性層の層厚は、生産性、磁気特性等を考慮して、５０
０〜３０００Ａ程度とすることが好ましい。

このような磁性層上には、下記式で表わされる平均分子
量１０００〜１００００の化合物を含有する潤滑膜が設
けられる。

［式］　　Ｆ　（Ｃ，Ｆ、０）　ｎＣＦ２ＣＦ。

（ただし、上記式においてｎは正の整数である。） この潤滑膜を設けることにより磁気記録媒体と磁気ヘッ
ドとの間の耐久走行中での摩擦変動が抑えられ、良好な
潤滑効果が持続する。　また、このような化合物を含有
する潤滑膜は撥水効果を有するので、高温条件下でも磁
気記録媒体と磁気ヘッドとの間で吸着が発生せず、潤滑
効果の経時変化６抑えることができる。

上記式で表わされる化合物の平均分子量は２０００〜５
０００であることが好ましく、より好ましくは２０００
〜４０００である。

２０℃における動粘度は２０〜６００ｃｓｔであること
が好ましく、より好ましくは１０〜２００ｃｓｔであり
、さらに好ましくは１０〜５０ｃｓｔである。

流動φ、は−９０〜−５０℃であることが好ましく、よ
り好ましくは−８０〜−６０℃であり、さらに好ましく
は−８０〜−７０℃である。

本発明において、潤滑膜には上記式で表わされる化合物
に加え、５０℃以下の融点を有す・る化合物が含有され
ることが好ましい。

５０℃以下の融点を有する化合物としては、脂肪酸もし
くはその塩、脂肪族のアルコール、それらのエステル、
これらのフッ素置換体およびその他のフッ素置換化合物
の１種以上を選択することが好ましい。　これらは飽和
体であっても不飽和体であってもよい。

具体的には、下記のような化合物を選択することが好ま
しい。

肚胆牡 ＣＩ＋、　（Ｃ）１、）７ＣＩ（＝ＣＨ（（：Ｈ２１？
ＣＯＯ１（０ １１−Ｌ、−ＬＬｌ１２Ｊｔ−Ｌ；０ＵＲＣＨｓ（ＣＨ
＊ＣＨ＝ＣＨ）−ＣＨａ（ＣＩ（ｔ）ｓｃＯＯＨＣＨ３
（ＣＬＩ　、、Ｃ００）ｌ Ｃ）、（ＣＩ（、）　、。ＣＯＯＨ ＣＨ３（ＣＨｉ）ｉｃＯＯＨ ＣＨ３（ＣＨ２）−ＣＯＯＨ エライジン酸 エルカ酸 アルコール ＣＨａ（ＣＨａ）。０Ｈ ＣＨｘ　（ＣＨ，）　＋。０！Ｉ ＣＨｓ　（ＣＨａ）　、１０Ｈ ＣＨ，（ＣＨｘ）　、　ｚＯＨ ＣＨ３（Ｃ）、）　、　３（Ｅ Ｃ）、（ＣＨ，）　、、ＯＨ 等。

ＣＩ＋３　（Ｃ１ｌｔ）　＋　５ＯＨ ＣＨ３（ＣＨｚ）＋ａｃＨ（ＣＨｘ）ＯＨＣＨｚｆＣＨ
ａ）＋５ＣＨ（ＣＨｓ）ＯＲＣＨ３ｆｃｔｌｚ）１．Ｃ
Ｈ（Ｃ）１２）ＯＨＣＨ，（Ｃ１）、１１＋ｔＣＨ（Ｃ
Ｈ３）ＯＨＣ１１ｉ（ＣＩＩ２１＋ａＣＨ（ＣＨｓ）Ｏ
ＨＣ，ａｌｌｊｆｉＯＨ（オレイルアルコール）Ｃ＋５
ＨｉｉＯＨ Ｃ，、Ｈ，、ＯＨ エステル ＣＩ　１８２３ｃＯＯｃＨ３ Ｃ＋＋ＨｉｓＣＯＯＣ＊Ｈｓ Ｃ）、Ｈａ−ＣＯＯＣ４Ｈｓ Ｃ＋ｔｔｌｉｉＣＯＯＣ＋ａＨ＊ｉ Ｃ＋５ｌｌｚｔＣＯＨＣＨｓ Ｃ＋　ｓｌｉ□ｔｃＯＯｃＪｓ Ｃ，ｉ）１．、Ｃ００Ｃ４Ｈ９ ＣＨ−Ｈ２，ＣＯＯＣＣ００ Ｃ口）＋　２．Ｃ００Ｃ−１＋Ｈ＊＋ツＩＣ，，１）、
、ＣＯＯＣ）、Ｈａ。

等。

Ｃ，、Ｈ３１ｃＯＯｃ、Ｈ。

Ｃ，、Ｈ３，Ｃ００Ｃ３Ｈ□ Ｃ，，８３１ｃＯＯｃｊ＋。

Ｃ，、ｌ（３，Ｃ００Ｃ８１（、。

Ｃ、）（３ｓｃＯＯｃ−Ｈａ Ｃ，７１１３５ＣＯＯＣ８Ｈ Ｃ１□Ｈ３ｓＣＯＯＣａｌｌｌ− ｃ、、＋＋、、ｃｏｏｃ、。Ｈ２ Ｃ，、ｌｈ、Ｃ００Ｃ，□１１□５ ＣＨ３（ＣＨ，）　、ＣＨ＝ＣＨ（Ｃ１＋２）　、ＣＯ
Ｏ（ＣＬ）ａ−ＣＩＩ；ＣＨｆｃＬ）ｅＣ＋１３ ＣＨ３（ＣＨ２）　、ＣＨ＝ＣＨ（Ｃ１１２）　？ＣＯ
Ｏ（ＣＨ□ＬｅＣＩ＋。

ＣＨ，（ＣＨ２）、ＣＨ（ＣＨ２）、Ｃ００ＣＩＩＩＣ
Ｉ（Ｃ１＋３ｌ−ＯＣＯ（ＣＨ２）　、Ｃｌ１＝Ｃ）Ｉ
　（ＣＬ）　ｙｃｌＩ３　　等。

フッ素　　　１ フッ素置換化合物としては、パーフルオロ置換化合物が
好ましい。

例えば、パーフルオロカルボン酸、パーフルオロアルコ
ール、パーフルオロカルボン酸エステル、パーフルオロ
アルコールの脂肪酸エステル、パーフルオロアルコール
のパーフルオロカルボン酸エステル、パーフルオロアル
キル基を有するカルボン酸塩、パーフルオロアルキル基
を何する第４級アンモニウム塩、パーフルオロアルキル
基を有するベタイン類、エチレンアルキレンオキシドな
いしその付加物のパーフルオロ置換体、パーフルオロア
ルキレン部分を有するオリゴマーなとである。　これら
のうち特に好ましい化合物は５ Ｃ，Ｆ、Ｃ０ＯＨ ＋　Ｃ，Ｆ、３ＣＯＯＨ Ｃ７Ｆ１．Ｃ００１１ Ｃ，Ｆ、、（：０ＯＨ ＣＩＩＰ　、□ＣＩＩ□ＯＣＩ＋２ＣＯＯＨＣ８Ｆ、、
（ＣＨＩ＞２０（ＣＨ２）、Ｃ０ＯＨ等である。

上記式で表わされる化合物と５０℃以下の融屯を有する
化合物との含有比率は、８：２〜２・８であることが好
ましい。

なお、上記式で表わされる化合物および５０℃以下の融
点を有する化合物は、それぞれ２種以上が含有されてい
てもよい。

このような潤滑膜の成膜方法に特に制限はなく、塗布法
、ラングミュア・プロジェット法等を用いればよい。　
塗布法としては、ディップメ去、スピンコード法等が好
ましい。

潤滑膜の表面は、水との接触角が７０°以上、特に９０
°以上であることが好ましい。

このような接触角を有することにより、磁気ヘッドと磁
気記録媒体との吸着が防止される。

潤滑膜の厚さは、成膜方法および使用化合物によっても
異なるが、４〜１００λ程度であることが好ましい。

４Å以上とすると耐久性が向上し、１００Å以下とする
と吸着や磁気ヘッドのクラッシュが減少する。　なお、
より好ましい膜厚は４〜８０人であり、さらに好ましい
膜厚は４〜５０人である。

本発明の磁気記録媒体は、公知のコンポジット型の１字
上型磁気ヘッド、モノリシック型の浮上型６ｆｉ気ヘツ
ド等により記録再生を行なった場合に効果を発揮するが
、持に、浮上型薄膜磁気ヘッドと組合せて使用された場
合に、極めて高い２カ果を示す。

第５図に、本発明に用いる磁気ヘッドの好適実施例であ
る薄膜型の浮上型磁気ヘッドの１例を示す。

第５図に示される浮上型磁気ヘッド１０は、基体２０上
に、絶縁層３１．下部６ｄ極同４１、ギャップ層５０．
絶縁層３３、コイル層６０、絶縁層３５、上部磁極層４
５および保護層７０を順次付する。　また、このような
浮上型磁気ヘッド１０の少なくともフロント面、すなわ
ち浮揚面には、必要に応じ、前記と同様の潤滑膜を設け
ることもできる。

なお、本発明では、フロント面のＲｍａｘは、２００Ａ
以下、特に５０〜１５０入であることが好ましい。　こ
のようなＲｍａｘを有する磁気ヘッドと上記したＲ　ｍ
ａｘを有する磁気記録媒体とを組み合わせて使用するこ
とにより、本発明の効果はより一層向上する。

コイル層６０の材質には特に制限はなく、通常用いられ
るＡｒ１、Ｃｕ等の金属を用いればよい。

コイルの巻回パターンや巻回密度についても制限はなく
、公知のものを適宜選択使用すればよい。　例えば巻回
パターンについては図示のスパイラル型の他、積層型、
ジグザグ型等いずれであってもよい。

また、コイル層６０の形成にはスパッタ法等の各種気相
被着法を用いればよい。

基体２０はＭｎ−Ｚｎフェライト等の公知の材料から構
成されてもよい。

このような磁気ヘッドを、本発明の磁気記録媒体に対し
て用いる場合、基体２０は、ビッカース硬度１０００　
ｋｇｆ／ｍ−以上、特に１０００〜３０００ｋｇｆ／ｍ
−程度のセラミックス材料から構成されることが好まし
い。　このように構成することにより１本発明の効果は
さらに顕著となる。

ビッカース硬度１０００　ｋｇｆ／ｍｍ”以上のセラミ
ックス材料としては、Ａｆｆａ　Ｏｘ　−Ｔ　ｉ　Ｃを
主成分とするセラミックス、Ｚｒ０ｚを主成分とするセ
ラミックス、ＳｉＣを主成分とするセラミックスまたは
ＡＩＮを主成分とするセラミックスが好適である。　ま
た、これらには、添加物としてＭｇ、Ｙ、Ｚｒ０ｚ　、
Ｔ　ｉ　Ｏｘ等が含有されていてもよい。

これらのうち、本発明に特に好適なものは、Ａｊ２ａ　
０３−ＴｉＣを主成分とするセラミックス、ＳｉＣを主
成分とするセラミックスまたはＡβＮを主成分とするセ
ラミックスであり、これらのうち最も好適なちのは、酸
化鉄を主成分とする薄膜磁性層の硬度との関係が最適で
あることから、Ａβｇｏｓ−Ｔｉｃを主成分とするセラ
ミックスである。

下部および上部Ｍｉ磁極層４１４５の材料としては、１
に来公知のものはいずれも使用可能であり１例えばパー
マロイ、センダスト、Ｃｏ系非晶質磁性合金等を用いる
ことができる。

磁極は通常、図示のように下部磁極層４１および上部磁
極層４５として設けられ、下部磁極層４１および上部磁
極層４５の間にはギャップ層５０が形成される。

ギャップＮ５０は、Ａ忍ｚｏ３．５ｔｏｚ等公知の材料
であってよい。

これら磁極層４１．４５およびギャップ層５０のパター
ン、膜厚等は公知のいずれのものであってもよい。

さらに、図示例ではコイル層６０は、いわゆるスパイラ
ル型として、スパイラル状に上部および下部［ｔ１層４
１．４５間に配設されており、コイル層６０と上部およ
び下部磁極層４１．４５間には絶縁層３３．３５が設層
されている。

また下部磁極Ｎ４１と基体２０間には絶縁層３１が設層
されている。

絶縁層の材料としては従来公知のものはいずれも使用可
能であり、例えば、薄膜作製をスパッタ広により行なう
ときには、５ｉＯｚ、ガラス、Ａｇ、ａ　Ｏ，等を用い
ることができる。

また、上部６１ｉｔｉ４５上には保護層７ｏが設層され
ている。　保護層の材料としては従来公知のものはいず
れも使用可能であり、例えばＡ　Ｉ２ｘ　Ｏｓ等を用い
ることができる。　また、これらに各種樹脂コート層等
を積層してもよい。

このような薄膜型の浮上型磁気ヘッドの製造工程は、通
常、薄膜作成とパターン形成とがら構成される。

上記各層を構成する薄膜の作成には２上記したように、
従来公知の気相被着法、例えば真空蒸着法、スパッタ法
、あるいはメツキ法等を用いればよい。

浮上型磁気ヘッドの各層のパターン形成は、従来公知の
選択エツチングあるいは選択デポジションにより行なう
ことができる。　エツチングとしてはウェットエツチン
グやドライエツチングを用いることができる。

このような浮上型磁気ヘッドは、アーム等の従来公知の
アセンブリーと組み合わせて使用される。

このような磁気ヘッドを用いて本発明の磁気記録媒体、
特に磁気ディスクに対して記録再生を行うには、磁気デ
ィスクを回転させながら、磁気ヘッドを浮上させて記録
再生を行う。

ディスク回転数は２０００〜６０００ｐｐｍ程度、特に
２０００〜４０００ｒｐｍとする。

また、浮上量は０．２−以下、特に０．１５−以下、さ
らには０．１−以下、例えば０．０１−０．０９鱗とす
ることができ、このとき良好な浮上特性およびＣ３Ｓ耐
久性を得ることができる。

浮上量の調整は、スライダ巾や、磁気ヘッドへの荷重を
変えることによって行なう。

また、磁気ヘッドのフロント面に上記したような潤滑膜
を形成しである場合、Ｃ８Ｓ耐久性はさらに向上する。

そして、上記のような潤滑膜を有する磁気ヘッドを、上
記した本発明の磁気記録媒体が有するような磁性層を有
する５ｆｌ気記録媒体に対して用いる場合も、良好なＣ
８Ｓ耐久性が得られる。

〈実施例〉 以下、本発明を実例例によって具体的に説明する。

［実施例１Ｊ く磁気ディスクサンプルの作製） 外径１３０ｍｍ、内径４０ｍｍ、厚さ１．９ｍｍのアル
ミノケイ酸ガラス基板を研磨し、さらに化学強化処理を
施した。　化学強化処理は、４５０℃の溶融硝酸カリウ
ムに１０時間浸漬することにより行なった。

次いで、このガラス基板表面をメカノケミカルポリッシ
ングにより平滑化した。　メカノケミカルポリッシング
には、コロイダルシリカを含む研磨波を用いた。

研磨条件を変化させて異なるＲ　ｍａｘを有するガラス
基板を作製した。　各磁気ディスクサンプルに用いたガ
ラス基板のＲｗａｘを表１に示す。

これらのガラス基板を洗浄後、各ガラス基板表面に下記
のようにして磁性層を形成した。

まず、Ａｒガス雰囲気中にて予備スパッタを行ない、Ｆ
ｅターゲット表面の酸化膜を除去した。　次いで、０□
ガスを導入して反応性スパッタを行ない、ＦｅｚＯ４膜
を成膜した。　なお、０２ガスは、基板に吹きつけるよ
うに導入した。

各磁気ディスクサンプルのＦｅ３Ｏ４膜形成時のＰ　ｆ
Ａｒ＋（１＋）およびＰ　ｏ、／　Ｐ　（＾ｒ＋ｏｉｌ
を、表１に示す。

Ｆｅ５０４膜形成後、空気中で２００〜４００℃にて１
〜５時間酸化を行ない、異なるＲ　ｗａｘを有するγ−
ＦｅＪ３ｔｉｌｆｆ性層とした。　なお、磁性層の厚さ
は、２０００Åとした。

各磁気ディスクサンプルの磁性層側Ｒｍａｘを表１に示
す。

なお、Ｒｍａｘは、触針型表面粗さ計により測定した。

各サンプルの磁性層に対してＸ線回折を行ない、Ｘ線回
折チャートを作成した。

なお、Ｘ線回折は第３図に示される装置にて行なった。

各サンプルのＸ線回折チャートの解析結果を表１に示す
。　また、サンプルＮｏ、ｌ、２゜７および８のＸ線回
折チャートを、それぞれ第６図、第７図、第８図および
第９図に示す。

さらに、Ｐ　Ｑ２／　Ｐ　（＾ｒｈｏ、）の変化に伴う
磁性層のＰ（４００１／　Ｐ（３１１）およびＰ（２２
２１／　Ｐ（３１１＋の変化を第１０図に示す。

次に、各サンプルの磁性層上に、下記化合物Ｎｏ、　　
１およびＮｏ、　２をｌ：１の重量比で含有する０、１
ｗｔ％フロン系溶渣をデイツプ法により厚さ２０人に成
膜し、潤、ｆｌｌｌとした。

（化合物Ｎｏ、１） Ｆ　（Ｃ３Ｆａ　Ｏ）　、、ＣＦ２　ＣＦ３この化合物
の平均分子量は２７００．２０’Ｃにおける動粘度は５
３±１ｏｃｓｔ、流動点は一７５℃、２０″Ｃにおける
密度は１８６ｇ　／　ｍβであった。

（化合物Ｎｏ、２） ＣＩＩＦ、、Ｃ０ＯＨ このようにして得られた磁気ディスクサンプルについて
、Ｃ８Ｓ耐久性の測定を次に示す方沃で行なった。　結
果を表１に示す。

ＣＳ主星文４ ■使用磁気ヘッド （磁気ヘッドＮｏ、１） ビッカース硬度２２００　ｋｇｆ／ｍｍ２のＡ　４２２
０　ｚ　　Ｔ　ｉ　Ｃ基体上に薄膜磁気ヘッド素子を形
成した彼、６ａ気ヘツド形状に加工し、支持バネ（ジン
バル〉に取りつけ、空気ベアリング型の浮上型磁気ヘッ
ドを作製した。　磁気ヘッド浮揚面のＲｍａｘは１３０
人とした。

（磁気ヘッドＮｏ、２） ビッカース硬度３０００ｋｇｆ／ｍｍ”　ノＳ　ｉ　Ｃ
粘体を用いた他は磁気ヘッドＮｏ、１と同様にして作製
した。

これらの磁気ヘッドのフライングバイトは、スライダ幅
、ジンバル荷重を調整し。

０．１μｍになるようにした。

■Ｃ３Ｓ 上記磁気ヘッドを使用し、２５℃、相 対湿度５０％にてＣ３Ｓ試験を行なっ た。　Ｃ８Ｓは第１１図に示すサイクルの繰り返しで行
なった。　Ｃ８Ｓ耐久性は、記録再生出力が初期の半分
以下になるまでの回数を測定し、下記の５段階評価を行
なった。

０：１０・６回以上 ○：５万回以上ｌＯ万回未満 Δ：２万回以上５万回未満 ×：１万回以上２万回未ｌ萬 ××：１万回未満 表１に示される結果から、本発明の効果が明らかである
。

すなわち、基板および磁気ディスクの磁性層側表ｒｒｎ
のＲｍａｘが本発明範囲内であるサンプルはＣ８Ｓ耐久
性が高く、さらにＰ（４００）／　Ｐ（３１１）および
Ｐ（２２２１／　Ｐ（３１１）が本発明範囲内であるサ
ンプルは、基体硬度の高い磁気ヘッドを用いた場合でも
Ｃ８Ｓ耐久性に優れる。

［実施例２］ 潤バ１膜が含有する化合物の比率を変えて磁気記録ディ
スクサンプルを作製した。　潤滑膜以外は実施例１で作
製したサンプルＮＯ１２と同様とした。

これらのサンプルについて、初期摩擦係数および耐久走
行後の摩擦係数の測定を行なった。

なお、潤滑膜に用いた化合物は、上記化合物Ｎｏ、　　
１および２である。　各サンプルの潤滑膜が台布する化
合物の含有量比率を、表２に示す。　なお、塗布溶１夜
は全て０．１ｓｔ％のフロン系溶酸であり、膜厚は２０
人とした。

見艷準五亜１ 上記磁気ヘッドＮ０１１を用い、１　ｒｐｍにて１分間
動摩擦係数を測定した。

結果を表２に示す。　なお、表２に示す初期摩擦係数は
、測定中の最小値と最大値である。

′−′の　、ｒ、デ 上記磁気ヘッドＮ０１１を用い、Ｉ　ＯＯｒｐｍにて１
時間接触走行を行なった後、１　ｒｐｍにて１分間動摩
擦係数を測定した。

結果を表２に示す。　なお、表２に示す摩擦係数の変化
は、測定中の最小値と最大値である。

表２に示される結果から、本発明の効果が明らかである
。

すなわち、上記式で表わされる化合物（化合物Ｎｏ、１
）を含有する潤滑膜を有するサンプルは、耐久走行後で
も摩擦係数が小さい。　そして、上記式で表わされる化
合物に、５０℃以下の融点を有する化合物（化合物Ｎｏ
、２）を加えることにより、初期摩擦係数が減少する。

　しかも、この場合、耐久走行後の摩擦係数がさらに小
さくなる。　さらに、この場合、摩擦変動ち抑えること
ができる。

そして、同化合物の含有率が２＝８〜８：２である場合
に、このような効果が顕著であることがわかる。

一方、化合物Ｎｏ、　２だけを含有するサンプルでは、
初期摩擦係数は小さいが耐久走行中にスティックスリッ
プが発生し、実用に耐えない。

なお、表２に示す各サンプルについてＣ８Ｓ耐久性試験
を行なったところ、上記の耐久走行３ノ（験と同様な結
果が得られた。

また、表２に示す各サンプルにおいて、化合物Ｎｏ、　
　２に替えて下記化合物を用いて上記と同様な測定およ
び試験を行なったところ、表２に示すサンプルと同等の
結果が得られた。

Ｃ，Ｆ　、　３ＣＯＯＨ Ｃ７Ｆ、５ＣＯＯＨ ［実施例３］ ＜６ｆｌ気デイスクサンプルの作製〉 表３に示すＲｍａｘを有するガラス基板を用い、実施例
１と同様にして磁気ディスクサンプルを作製した。

ただし、各磁気ディスクサンプルのＦｅａＯｎ膜形成吟
膜形成人ｒ４０２）およびＰ　ｏｘ／　Ｐ　ｔ＾ｒ＋０
２１はそれぞれｌＸｌ０−’丁ｏｒｒおよび０．０５８
とした。

また、Ｆｅ２Ｏ３膜形成後の酸化は、表３に示す条件で
大気中熱処理により行ない γ−ＦｅａＯｓ磁性層とした磁性層お、６Ｒ性層の厚さ
は、２０００人とした。

各磁気ディスクサンプルの磁性層側のＲｍａｘを表３に
示す。

各サンプルの磁性層に対し、実施例１と同様にしてＸ線
回折を行ない２Ｘ線回折チャートを作成した。

各サンプルのＸ線回折チャートの解析結果を表３に示す
。

また、サンプルＮｏ、１０４のＸ線回折チャートを、第
１２図に示す。

第１２図に示されるように、このチャートにはα−Ｆｅ
ａｒｓの面指数（１０４）のピークが詔められた。

さらに、このサンプルの磁性層に対し、第４図に示す低
入射角Ｘ　１１回折装置を用いて、β＝０．５°および
β＝２．０”にてＸ　１１回折を行なった。

得られたＸ線回折チャートを第１３図に示す。

第１３図に示されるように、β＝０．５°におけるＰｆ
１０４）／　Ｐ（３１１）はβ＝２．０’におけるＰ（
１０４１／　Ｐ（３１１）の約３倍であり、ａ　−Ｆｅ
ｌＯ，の含有率が磁性層表面測で高いことが確認された
。

なお、表３に示される他のサンプルについて同様な測定
を行なったところ、はぼ同様な結果が得られた。

次に、各サンプルの磁性層上に、実施例１の各サンプル
と同じ潤滑膜を成膜した。

このようにして得られた磁気ディスクサンプルについて
、摺動耐久性および再生出力の測定を次に示す方法で行
なった。　結果を表３に示す。

置拗ＪＪＪ＝並 ■使用磁気ヘッド ビッカース硬度２２００　ｋｇｆ／ｍ−のＡＲ２０ｓ−
ＴｉＣ基体上に薄膜磁気ヘッド素子を形成した後、磁気
ヘッド形状に加工し、支持バネ（ジンバル）に取りつけ
、空気ベアリング型の浮上型磁気ヘッドを作製した。

この磁気ヘッド浮揚面のＲｍａｘは１３０人であった。

スライダ幅は１５０μｍ、ジンバル荷重は２５ｇとした
。

■摺動耐久性 上記磁気ヘッドを使用し、２５℃、相対濃度５０％にて
摺動耐久性試験を行なった。

上記磁気ヘッドを磁気ディスクサンプルに押し付け、磁
気デイ入りと磁気ヘッドとの相対速度が２０　ｍ　／　
ｓになるように磁気ディスクを回転させた。　このとき
磁気ヘッドが浮上せずに常に摺動した状態であることは
、ＡＥ（アコースティック・エミッション）センサによ
り確認した。

耐久性は、磁気ディスクに傷が発生するまでの時間で評
価した。

０：６０分以上 ０・４０分以上６０分未痛 ８７２０分以上４０分未満 ×：２０分未満 なお、この摺動耐久性試験は、Ｃ３Ｓ耐久性試験よりも
過酷な耐久性試験方法である。

丘１等比力 表３に示す各サンプルについて再生出力を測定し、α−
Ｆｅ２ｅ３の含有による再生出力の低下を調べた。

評価は、α−Ｆｅ２ｅｇを含有しないサンプルＮｏ、１
０１の再生出力を１００とし、０：　９０以上 ×：９０未満 で１１なった。

表３に示される結果から、本発明の効果が明らかである
。

なお、上記各サンプルに対してＣ８Ｓ耐久性試験を行な
ったところ、摺動耐久性試験と同様な傾向がみられた。

また１表３に示される各サンプルに対し、実施例２と同
様にして初期摩擦係数および耐久走行後の摩擦係数の測
定を行なったところ、潤滑膜が含有する化合物に対応し
て、実施例２の各サンプルと同様な結果が得られた。

さらに、実施例１〜３に用いた磁気ヘッドのフロント面
上は上記各潤滑膜を成膜し、実施例１〜３で作製した各
磁気ディスクサンプルと組合せて上記と同様な測定を行
なった。

この結果、潤滑膜を有する磁気ディスクと組合せた場合
、上記実施例よりもさらに効果は向上した。　また、潤
滑膜を形成しない磁気ディスクに対して用いた場合でも
、上記実施例と同様な傾向を示した。

以上の実施例の結果から、本発明の効果が明らかである
。

〈発明の効果〉 本発明によれば、耐久性、特にＣ３Ｓ耐久性の高い磁気
記録媒体および信頼性の高い磁気記録再生方法が実現す
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の磁気記録媒体の好適実施例を示す部
分断面筒である。 第２図は、ガラス基板の蒸気乾燥に用いる装置の概略構
成図である。 第３図は、Ｘ線回折装置の概略図である。 第４図は、低入射角Ｘ線回折装置の概略図である。 第５図は、本発明に用いる磁気ヘッドの部分断面図であ
る。 第６図、第７図、第８図および第９図は、γ−ＦｅａＯ
ｉｌｌｆｔ性層のＸ　１１回折チャートである。 第１０図は、Ｐ　ｏ２／　Ｐ　ｆＡｒ＋（ｈｌの変化に
伴う磁性層のＰ（４００）／　Ｐ（３１１１およびＰ（
２２２）／　Ｐ（３１りの変化を示すグラフである。 第１１図は、Ｃ８Ｓのｌサイクルを示すグラフである。 第１２図は、γ−Ｆｅａｒｓ磁性層のＸ線回折チャート
である。 第１３図は、低入射角Ｘ線回折装置を用いて作成された
γ−Ｆｅ＊０ｉｆｉｆ！性層のＸ線回折チャートである
。 １１号の説明 １・・・磁気記録媒体 ２・・・ガラス基板 ３・・・磁性層 ４・・・潤滑膜 １０・・・磁気ヘッド １１・・・蒸気乾燥装置 ｉｌｌ・・・処理槽 １１２・・・ヒータ １１３・・・クーラー １１４・・・有機溶剤 １０１・・・Ｘ線源 １０２・・・磁気記録媒体 １０３・・・計数管 ＤＳ・・・ダイバージェンススリット ＳＳ・・・スキャッタースリット Ｒ３・・・レシービングスリット ＭＭ・・・モノクロメータ Ｓｌ、Ｓ２・・・ソーラースリット 出　願　人　ティーデイ−ケイ株式会社代　　理　　人
　　弁理士　　　石　　井　　隔間　　　　　弁理士　
　　増　　１）　達　　哉ＦＩＧ、１ １ Ｆ　Ｉ　Ｇ、５ カウント　（ｋｃｐｓ） カウント （ｋｃｐｓ） カウント＜ｋｃｐｓ） ＦＩＧ、ｌｏ ＰＯ２／　Ｐ（Ａｒ＋０２） （’／ｅ　） ＦＩＧ、１１ 吋 間 ０グ〉 手続補正書 （自発）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）ディスク状の磁気記録媒体を回転し、この磁気記
   録媒体上に磁気ヘッドを浮上させて記録再生を行なう磁
   気記録再生方法であって、前記磁気ヘッドの浮上量が０
   ．２μｍ以下であり、 前記磁気記録媒体がγ−Ｆｅ＿２Ｏ＿３を主成分とする
   連続薄膜型の磁性層を剛性基板上に有し、 この磁性層のＸ線回折チャートにおいて、 γ−Ｆｅ＿２Ｏ＿３の面指数（４００）、面指数（２２
   ２）および面指数（３１１）のそれぞれのピーク面積を
   Ｐ（４００）、Ｐ（２２２）およびＰ（３１１）とした
   とき、 ０≦Ｐ（４００）／Ｐ（３１１）≦１．０ ０≦Ｐ（２２２）／Ｐ（３１１）≦０．５ であり、 前記剛性基板の表面粗さ（Ｒｍａｘ）が１０〜１００Å
   であり、磁性層側表面の表面粗さ （Ｒｍａｘ）が５０〜２００Åであり、 この磁性層上および／または前記磁気ヘッドのフロント
   面上に、下記式で表わされる平均分子量１０００〜１０
   ０００の化合物を含有する潤滑膜を有することを特徴と
   する磁気記録再生方法。 ［式］Ｆ（Ｃ＿３Ｆ＿６Ｏ）＿ｎＣＦ＿２ＣＦ＿３（た
   だし、上記式においてｎは正の整数である。） （２）前記潤滑膜が、５０℃以下の融点を有する化合物
   をさらに含有する請求項１に記載の磁気記録再生方法。 （３）前記５０℃以下の融点を有する化合物が、脂肪酸
   もしくはその塩、アルコール、エステルおよびフッ素置
   換化合物の１種以上である請求項２に記載の磁気記録再
   生方法。 （４）前記磁性層がα−Ｆｅ＿２Ｏ＿３を含有する請求
   項１ないし３のいずれかに記載の磁気記録再生方法。 （５）前記磁性層中において、基板の反対側におけるα
   −Ｆｅ＿２Ｏ＿３の含有率が、基板側のα−Ｆｅ＿２Ｏ
   ＿３の含有率よりも高いものである請求項４に記載の磁
   気記録再生方法。 （６）前記磁性層のＸ線回折チャートにおいて、α−Ｆ
   ｅ＿２Ｏ＿３の面指数（１０４）のピーク面積をＰ（１
   ０４）としたとき、 ０．０２≦Ｐ（１０４）／Ｐ（３１１）≦０．２０であ
   る請求項４または５に記載の磁気記録再生方法。 （７）前記磁気ヘッドの浮上量が０．１μｍ以下である
   請求項１ないし６のいずれかに記載の磁気記録再生方法
   。 （８）前記剛性基板がガラスから構成される請求項１な
   いし７のいずれかに記載の磁気記録再生方法。 （９）請求項１ないし３のいずれかに記載の潤滑膜を、
   請求項１、４、５または６に記載の磁性層上に有するこ
   とを特徴とする磁気記録媒体。