JPH0334107A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は磁気ヘッドの製造方法に関する。

［従来技術］ 一対のコアブロックの突き合わせ面に軟磁性金属膜を形
成し両コアブロックを突き合わせて融着させた後、これ
を切断（スライス）して出来上ったコア部を備える磁気
ヘッドが知られている。

この種の磁気ヘッドのコア部の基本構造を第３図の要因
を参照して説明する。磁性或いは非磁性基板１ａ、ｌｂ
上に夫々スパッタリング等により磁性層２ａ、２ｂが形
成されており、記録媒体対接部となるこの磁気ヘッドの
前部には互に突き合わされた磁性層２ａ、２ｂの間にギ
ャップ３が形成され、このギャップ３を介して巻線溝７
の部分に巻装されるコイル（図示せず）と記録媒体との
間で信号の授受が行われる。ギャップ３の両端にはトラ
ック幅規制溝４．４′が形成されており。

このトラック幅規制溝の寸法がトラック幅Ｗを規定する
。トラック幅Ｗが記録媒体上のトラック幅に対応すると
いう構成上から、この規制溝４゜４′の寸法の管理が磁
気ヘッドのコア部の製造工程において重要な要素の一つ
となる。

従来例のコア部の製造方法、特にこのトラック幅の形成
方法について第４図を参照して説明する。

第４図（Ａ）〜（Ｃ）はいずれも磁気ヘッドのギャップ
部となる側からコアブロックを見た時の、各製造段階で
の一方のコアブロックの側面図を示している。第４図（
Ａ）は長方形状断面を有する基板１そのものを示してい
る。この基板１は次の第４図（Ｂ）に見る如く機械加工
によりギャップと直角方向に、Ｗと幅寸法を表示した上
面部分（例えば６０μｍ）を残して基板上面と例えば４
５°方向の傾斜をなす、深さが例えば２００ａのＶ溝が
多数形成され、更に図には示されていないが一方のコア
ブロックにはこの溝と直角方向にも断面略長方形状の巻
線用の溝が形成される。この基板１上に−様な厚み９例
えば５μｓ厚みの磁性材料から成る薄膜磁性層２を形成
する（第４図（Ｃ〉）。この−方のコアブロックと′、
同様に製作された他方のコアブロックとが互に対称形と
なる様に突き合わされ、ガラス材料等により融着結合さ
れる。その後縦方向にＶ溝の底部分で切断され、それぞ
れの山の部分のみから形成されるトラック幅Ｗを有する
コア部が第３図の如く製作されることとなる。

〔発明が解決しようとする課題〕 このようにして製作されたコア部のギヤツブ幅Ｗは、基
板１における溝部、即ち組立後トラック幅規制溝４，４
′となるＶ溝部分の切欠き寸法によって、その寸法が定
まることが理解できるがこの規制ｔｋ４，４’の寸法管
理は、製造中において第４図（Ｃ）に示した基板１の底
面１′からＶ溝部の下端部１′までの間隔Ｈを測定する
ことによって行われるものであり、この間隔Ｈの寸法が
間接的に残されるべき基板１の上面寸法Ｗを定め。

従って形成される薄膜である磁性膜の上面２′の幅Ｗを
定めることとなる。このようにして定められた磁性膜上
面２′の幅がトラック幅Ｗとなり。

これが記録媒体上のトラック幅と対応することとなる。

このような方法によりトラック幅Ｗの仕上り寸法を管理
すると、基板１において底面１′と上面との平行度が極
めて重要となるが、万一この平行度が正しくできていな
いと、前記の如く底面１′とＶ溝底部１′との間隔Ｈに
よってＶ溝部の切欠きが管理される結果、トラック幅規
制溝４．４′の寸法が、従ってトラック幅Ｗ自体が、同
時に製作されるコア間においてさえばらつきを生じてし
まうこととなる。前記の如くトラック幅Ｗは正確に記録
媒体上のトラック幅に対応する必要があり、結果的に大
きすぎ或いは小さすぎるトラック幅で製作された磁気コ
アは使用できず不良品となってしまい、この結果大量生
産を要求される磁気コアにおいて歩留り率が低下するこ
ととなる。

本発明の目的は上述の問題点に鑑み、トラック幅のばら
つきの少ない、従って歩留り率の高い磁気コア部を備え
た磁気ヘッドを提供することにある。

［課題を解決するための手段］ 本発明の前記目的は、一対のコアブロックの突き合わせ
面に軟磁性金属膜を形成し両コアブロックを突き合わせ
て融着した後、これを切断して成るコア部を備える磁気
ヘッドの製造方法において、トラック幅規制をドライエ
ツチング法を用いて行うことを特徴とする磁気ヘッドの
製造方法によって達成される。

ドライエツチングに先立ちフォトマスク法によって、ト
ラック幅Ｗに正確に対応した幅だけのレジストを磁性層
の上面に形成させる。このレジストは周知の如くフォト
マスク法によりその幅寸法を定めることができるのでき
わめて寸法精度を高く形成できる。

ドライエツチングとしてはプラズマエツチング、イオン
ビームエツチング等が使用できる。湿式エツチングによ
る場合と異なり、ドライエツチングではレジスト下部へ
の回り込みがきわめて少なく、従って正確な寸法精度で
のエツチングが可能である。

磁性層があまり薄すぎると、エツチングにより所要の寸
法として磁性層が削りとられる前に基板が露出してしま
う。基板材料は磁性層の材料とはエツチング条件が異な
るものであり、同時にこれらの材料をエツチングするに
は、エツチング工程がきわめて護雑になってしまう。従
って磁性層については所定の厚みをとる必要がある。

このように磁性層を厚くする方が好ましく。

従ってコア部の磁路としてはこの磁性層のみで十分とな
るので、その結果基板は非磁性材料でたりる。

［作用］ トラック幅規制をドライエツチング法を用いて行うとす
る構成により２例えば、形成されるトラック幅規制溝の
寸法精度はドライエツチング法の・」゛法精度に従って
製作できることとなり、必然的にトラック幅もまたドラ
イエツチング法の寸法精度に従って製作できる。

［実施例］ 本発明の製造方法の一実施例について第２図（Ａ）〜（
Ｅ）に示す各工程段階での一方のコアブロックの、ギャ
ップとなる側から見た時の側面図を参照して説明する。

第２図（＾〉に示す側面長方形状の非磁性基板１には磁
気ヘッド前部となる方向から見て断面長方形状の縦溝が
機械加工により形成される（第２図（Ｂ）〉。非磁性基
板材料としては結晶化ガラス（例えばＬｉ２０＊ＺｎＯ
＊５ｉ０２　、ＺｎＯ・Ａｌ２Ｏ５・５　Ｌ　０２　、
　ＭｇＯ＠Ａ１ｘ　Ｏ２Ｓ　　ｉ　０２．　　　Ｎａｇ
　　　Ｏ１１ＡＪ２　　０　　争　５ｉ０２　　　・　
Ｏ。

ＬｉＯ２・Ｓ　ｉ　０２　　・Ｏ）などを用いることが
できる。図に表わされてはいないがやはり従来例同様に
巻線満となる横溝も同様に機械加工により形成される。

次に第２図（Ｃ）の如く磁性材料からなる磁性層２が基
板１上にスパッタリング等により形成される。磁性材料
としては、結晶合金（例えばＦｅ−ＡＪ−ＳＬ系合金、
Ｆｅ−Ｎｉ系合金。

Ｆｅ−５ｉ系合金）或いは非晶質合金（例えばＦｅ、Ｎ
Ｌ、Ｃｏのグループから選択されたｌｔ１以上の元素と
、Ｐ、Ｃ，Ｂ、Ｓｔのグループから選択された１種以上
の元素から成る合金又はこれを主成分としてＴａ、ＡＪ
、Ｇｅ、Ｔｉ、Ｍｎ。

Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ等の元素を添加した合金、或いはＣｏ
を主成分として前記添加元素を含んだ合金）のいずれも
使用可能である。形成される磁性膜の厚みは、後工程の
ドライエツチングを１１１−の材料について行うことが
できるよう２０μ曽以上のものとするのが好ましい。

次にこの磁性層の表面上にレジストを塗布し。

フォトマスクを介して紫外光をあてた後トラック幅とな
る部分のみレジストを残す（第２図（Ｄ〉）。

次にドライエツチング法１例えばアルゴンエツチングに
よりレジスト膜に覆われていないコーナー部分の磁性層
を除去する。これによりレジストで覆われたギャップ部
分を残してトラック幅規制溝となる部分が所定の寸法に
より形成される。その後レジスト膜が全て除去される（
第２図（Ｅ〉）。

このようにして出来上がった一方のコアブロックと同様
にして製作した他方のコアブロックとをＳ　ｉ　０２等
の磁気絶縁材料を介して互に対称となる様突き合わせ、
トラック幅規制溝４．４’　となるコーナー切欠き部分
等においてガラス融着を行い、これを各コアごとに切断
することにより第１図の如きコア部が完成する。

第１図においてトラック幅寸法Ｗは８０−であり、コア
幅全体は２００μ―、磁性層２ａ、２ｂの厚みは夫々２
Ｑｇｗ、基板１ａ、ｌｂの厚みは夫々１闘、コア全長は
約２關である。図中夫々の参照符号は第３図と対応させ
て示している。

本実施例において基板１ａ、ｌｂを非磁性材料としたの
でこの磁気ヘッドでは記録媒体上の摺動時に生ずるノイ
ズを低減させることができる。

【発明の効果〕

本発明に係る磁気ヘッドの製造方法において。

そのコア部のトラック幅規制をドライエツチング法を用
いて行うとした構成により、トラック幅が実質的にドラ
イエツチング法による寸法精度のもとて形成できるので
、極めて高い寸法精度でトラック幅の形成が可能となり
、これによりコア部の歩留り率の向上が達成できる。

更に本発明により製作するコア部の磁性層は例えば２０
μ−程度以上の厚みとなるので、この厚い磁性層から成
るコア部を有する磁気ヘッドは記録再生効率が極めて高
い磁気ヘッドとなる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明により製作される磁気ヘッドのコア部要
因。 第２図は本発明に係る製造方法により製作される一方の
コアブロックの、ギャップ部となる側から見た側面を示
し、（Ａ）〜（Ｅ）は各工程段階毎のコアブロックを夫
々示す断面図。 第３図は従来例の磁気ヘッドのコア部要因。 第４図（Ａ）〜（Ｃ）は、従来法で製作されるコアブロ
ックを第２図と同様に各工程段階毎に示す夫々の断面図
。 である。 符号の説明 １．１ａ、ｌｂ・・・基板。 ２．２ａ、２ｂ・−・磁性層。 ３・・・ギャップ。 ４．４′・・・トラック幅規制構。 ６・・・レジスト、　　　　７・・・巻線溝。 １′・・・基板下面、　　　１′・・・Ｖ溝底部。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 一対のコアブロックの突き合わせ面に軟磁性金属膜を形
   成し両コアブロックを突き合わせて融着した後、これを
   切断して成るコア部を備える磁気ヘッドの製造方法にお
   いて、 トラック幅規制をドライエッチング法を用いて行うこと
   を特徴とする磁気ヘッドの製造方法。