JPH0334233U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0334233U JPH0334233U JP9389189U JP9389189U JPH0334233U JP H0334233 U JPH0334233 U JP H0334233U JP 9389189 U JP9389189 U JP 9389189U JP 9389189 U JP9389189 U JP 9389189U JP H0334233 U JPH0334233 U JP H0334233U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- control section
- focusing
- wafer
- detection beam
- controlled
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 13
- 238000004033 diameter control Methods 0.000 claims description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Description
第1図は本案による縮小投影露光装置の一実施
例を示す概略構成図、第2図は本案による、検出
ビームとビーム径とビーム位置のそれぞれの設定
例を示す図、第3図はLSI製作中の半導体表面
段差例と検出ビームの例を示す図である。 1……光源(水銀ランプ)、2……レテイクル
、3……縮小レンズ、4……ウエハ、5……レジ
スト、6……ウエハステージ部、8……前体制御
部、41……単1露光エリア、61……ウエハチ
ヤツク、62……レベリング調整部、63……Z
ステージ、64……XYステージ、65……XY
ステージ制御系、66……Zステージ制御系、6
7……レベリング制御系、68……ウエハステー
ジ制御系、71……焦点合せ用検出ビーム発信部
、72……焦点合せ検出ビーム発信器、73……
ビーム径制御部、74……ビーム位置制御部、7
5……発信部制御部、76……焦点合せ用検出ビ
ーム発信部、77……焦点合せ用検出ビーム受信
器、78……検出ビーム。
例を示す概略構成図、第2図は本案による、検出
ビームとビーム径とビーム位置のそれぞれの設定
例を示す図、第3図はLSI製作中の半導体表面
段差例と検出ビームの例を示す図である。 1……光源(水銀ランプ)、2……レテイクル
、3……縮小レンズ、4……ウエハ、5……レジ
スト、6……ウエハステージ部、8……前体制御
部、41……単1露光エリア、61……ウエハチ
ヤツク、62……レベリング調整部、63……Z
ステージ、64……XYステージ、65……XY
ステージ制御系、66……Zステージ制御系、6
7……レベリング制御系、68……ウエハステー
ジ制御系、71……焦点合せ用検出ビーム発信部
、72……焦点合せ検出ビーム発信器、73……
ビーム径制御部、74……ビーム位置制御部、7
5……発信部制御部、76……焦点合せ用検出ビ
ーム発信部、77……焦点合せ用検出ビーム受信
器、78……検出ビーム。
Claims (1)
- ウエハ等を載置してステツプ送りをするウエハ
ステージと、このウエハステージを駆動するウエ
ハステージ制御部と、前記ウエハステージ上方に
配置された縮小レンズと、この縮小レンズ上方に
配置されたレテイクルと、このレテイクル上の回
路パターンを前記ウエハ上に転写する露光の光源
と、装置全体を制御する全体制御部とを具備する
縮小投影露光装置において、前記ウエハと前記縮
小レンズの位置を最適焦点位置に調整し露光する
焦点合せ手段として、焦点合せ用の検出ビームを
前記ウエハ上のレジストに向けて発信する焦点合
せ検出ビーム発信部とこの検出ビームのレジスト
からの反射ビームを発信する焦点合せ検出ビーム
発信部とを有し、前記焦点合せ検出ビーム発信部
は発信部制御部で制御されるビーム径制御部およ
びビーム位置制御部とで制御されて、前記焦点合
せ用の検出ビームのビーム径またはビームをレジ
ストに当てる位置を可変とし、それぞれ最適値に
設定できるようにして、最適な焦点合せを可能と
したことを特徴とする縮小投影露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9389189U JPH0334233U (ja) | 1989-08-11 | 1989-08-11 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9389189U JPH0334233U (ja) | 1989-08-11 | 1989-08-11 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0334233U true JPH0334233U (ja) | 1991-04-04 |
Family
ID=31643251
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9389189U Pending JPH0334233U (ja) | 1989-08-11 | 1989-08-11 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0334233U (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005237643A (ja) * | 2004-02-26 | 2005-09-08 | Taiyo Parts Kk | 昇降装置 |
| JP2007125419A (ja) * | 2007-01-11 | 2007-05-24 | Takara Standard Co Ltd | 昇降収納ラックの収納装置 |
-
1989
- 1989-08-11 JP JP9389189U patent/JPH0334233U/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005237643A (ja) * | 2004-02-26 | 2005-09-08 | Taiyo Parts Kk | 昇降装置 |
| JP2007125419A (ja) * | 2007-01-11 | 2007-05-24 | Takara Standard Co Ltd | 昇降収納ラックの収納装置 |
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